zno al透明导电薄膜的自由基辅助磁控溅射制备工艺及性能表征

zno al透明导电薄膜的自由基辅助磁控溅射制备工艺及性能表征

ID:28576419

大小:10.49 MB

页数:110页

时间:2018-12-11

zno al透明导电薄膜的自由基辅助磁控溅射制备工艺及性能表征_第1页
zno al透明导电薄膜的自由基辅助磁控溅射制备工艺及性能表征_第2页
zno al透明导电薄膜的自由基辅助磁控溅射制备工艺及性能表征_第3页
zno al透明导电薄膜的自由基辅助磁控溅射制备工艺及性能表征_第4页
zno al透明导电薄膜的自由基辅助磁控溅射制备工艺及性能表征_第5页
资源描述:

《zno al透明导电薄膜的自由基辅助磁控溅射制备工艺及性能表征》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在应用文档-天天文库

1、摘要(1)金属Zn溅射靶材表面氧化状态的改变是引起溅射工艺不稳定的主要原因。样品鼓转速的变化可以改变真空室内的氧气分布,引起靶材表面状态的改变,从而导致放电电压的变化。(2)AZO薄膜的透过率与薄膜的氧化程度密切相关,而Al的有效掺杂是决定AZO薄膜导电性的重要影响因素:AZO薄膜载流子迁移率的大小取决于薄膜的中性杂质浓度的大小。(3)利用磁控溅射获得的AZO薄膜,在氢气气氛中经550oC退火处理后,样品的电阻率达到6.45×10。4Q·cm,550nm波长的透射率达到85.7%,达到了可实用的技术指标。关键词:透明导电薄膜、ZnO

2、:AI、AZO、载流子浓度、迁移率、中性杂质散射、掺杂效率、退火处理IIAbstractAbstractTransparentconductiveZnO:A!(AZO)filmwasusedinthefieldsofsolarcellsandflatpaneldisplay,becauseofitsexcellentelectricalandopticalproperties.AZOfilm,withtheadvantagesofcheapandabundantrawmaterials,andnon-toxic,isconsider

3、edtobethebestcandidatesforsubstitutingITOfilms.Radicalassistedmagnetronsputteringcoater(RASforshort)isanewtypeofcoater.ARAShastheadvantagesofhighdepositionrate,lowCOStandmassproductionability.Therefore,studiesonthefabricationprocessesofAZOfilmsareveryimportantforindust

4、rialapplications.Thisdissertationstudiedtheinfluencesoftargets,oxygenpartialpressure,A1content,sputteringpowerandpost-annealingtreatmentonthepropertiesofAZOfilms.ProcessparametersoffabricatingAZOfilmsbyR.ASwerestudied,andtheobtainedAZOfilmswerecharacterized.Thedisserta

5、tionconsistsoffivechapters:InChapter1,transparentconductivefilmsandtheresearchhistorywerebrieflyintroduced.MethodsoffabricatingZnO:AIfilmsandtheadvantagesofAZOfilmsdepositedbyRASalsoweregiven.Factorswhichaffectingthestabilityofdischargevoltageduringdepositionprocessesw

6、erealsointroduced.InChapter2,weintroducedthebasicprincipleandmainparametersoftheRASsputteringcoater,aswellasthedepositionparametersofAZOsamples.Thevariouscharacterizationtechniques,includingXRD、SEM、XRF、UV-Vis—IR、XPS、VanderPauwmethodetc.werealsointroducedInChapter3,effe

7、ctsofoxygenflowrateonthedischargevoltageofZntargetandA1target,andtherotationspeedofthesampledrumonthestabilityofdischargevoltagewerestudied.InChapter4,theprocessesoffabricatingAZOfilmsbyZnandAItargetswerestudied.TheeffectsofAIcontent,oxygenpartialpressure(bychangingthe

8、Arflowrateoroxygenflowrate)andpost-annealingtreatmentontheelectricalandopticalpropertiesofAZOfilmswereinvestigated.ⅡI

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文

此文档下载收益归作者所有

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文
温馨提示:
1. 部分包含数学公式或PPT动画的文件,查看预览时可能会显示错乱或异常,文件下载后无此问题,请放心下载。
2. 本文档由用户上传,版权归属用户,天天文库负责整理代发布。如果您对本文档版权有争议请及时联系客服。
3. 下载前请仔细阅读文档内容,确认文档内容符合您的需求后进行下载,若出现内容与标题不符可向本站投诉处理。
4. 下载文档时可能由于网络波动等原因无法下载或下载错误,付费完成后未能成功下载的用户请联系客服处理。