cvs技术在监控电镀铜槽液中的运用

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1、万方数据印制电路信息2010No．2检验与测试Inspection&TestCVS技术在监控电镀铜槽液中的运用傅琼利(贝加尔化学。广东汕头515065)摘要介绍CVS技术在监控电镀铜槽液中有机添加剂的运用．文章首先将对电镀铜中的有机添加剂和cVs技术的电化学原理进行解说，然后对CVS分析仪对有机添加剂浓度进行测量的原理和CVS中有机添加剂程序的创建进行介绍，最后简要介绍CVS在有机添加剂来料查验．镀液污染值．碳处理情况等监控方面的运用，希望此文章能够对cVs化验分析人员对此仪器有更深一步的了解。关键词有机添加剂；酸性镀铜液；循环电位剥离分析仪：电位中图分类号：TN4

2、1文献标识码：A文章编号：1009—0096(2010)2—0065—05ApplicationofCVSTechnologytoMonitorCopperPlatingBathFUQiong-liAbstractTointroducetheCVStechnologyinthemonitoringoforganicadditivesofcopperplatingbath．Firstly,thisarticlewillexplaintheorganicadditivesofcopperplatingandtheelectrochemicalprincipleonCVS

3、techniques．Secondly,theprincipleofCVSanalyzertomeasuretheconcentrationoforganicadditivesandthecreationofprocedureinCVSanalyzerareintroduced．Finally,itwillbrieflyintroducetheapplicationofCVSanalyzertomonitortheorganicadditiveincominginspection，bathpollutionvalue，carbontreatmentprocess．I

4、hopethisarticlewillhelpanalysisertounderstandtheequipmentmore．Keywordsorganicadditives；acidcopperplatingbath；CVSanalyzer；potential众所周知酸性电镀铜槽液中的基本成分有Cu2+、S042‘、CI。和有机添加剂，前三种成分可通过化学分析对其进行管控；至于有机添加剂的分析，早先～向以经验导向的HULL．CELL试镀片，做为管理与添加的工具。但由于霍尔槽仅提供槽液有机成分的定性参考，而不能提供有效的定量信息，给槽液中有机添加剂的添加带来不便。目前

5、CVS(CyclicVoltammetricStripping，循环电位剥离)分析仪能够精确地确定个别添加剂的浓度，让工程师们随时补充槽液中耗损的成分，来确保精密电镀的结果，因此，CVS在半导体以及电路板业界受到广泛采用。CVS精确分析所得的结果，可以用来作为离线或在．65．线添加有机添加剂的依据，以保障槽液的品质。1酸性电镀铜有机添加剂的说明1．1有机添加剂结构说明现行各种酸性电镀铜的有机添加剂可分为三类：主光亮剂、光亮剂载体、整平剂。主光亮剂此种为含硫之有机物，常用的类型有：(1)含硫基的杂环化合物或硫脲衍生；(2)聚二硫化合物：结构通式见式(1)：R一(S)。

6、一(CH2)。S03A(1)式中m=2，n=3--4时效果最好；A=H或K、Na。万方数据检验与测试Inspection＆Test印制电路信息2010No．2光亮剂载体此类有机物多为聚醚类，如聚乙二醇或氧化乙基与氧化丙基所共聚，分子晕变化大约在5000～15000之间。结构通式见式(2)【l】：(．CH2．CH20．)。l’J(2)整平剂，多数为杂环类化合物，染料等，常见者为聚胺类。1．2有机添加剂在电镀槽液的作用雎11．2．1光泽剂(Brightenor)会在氯离子协助下会产生一种“去极化”或压低“过电位”的作用，因向会出现加速镀铜的效应，故又称加速剂。且因此剂还

7、将进入镀铜层中参与结构，会影响或干预到铜原子沉积的自然结晶方式，促使变成更为细腻的组织，故又称为细晶剂。当然由于可使镀层外表变得平滑而得以反光，故此剂当然就顺理成章的叫做光泽剂了。1．2．2载运剂(Carrier)由于会协助光泽剂往镀面的各处分布，故称为载运剂。此剂在槽中液反应中会呈现“增极化”或增加“过电位”的作用，对镀铜沉积会产生“减速”的现象，也就是表现了“压抑”的作用，故又称为压抑剂。但此剂也还另具有降低槽液表面张力的本事，或增加其湿润的效果，于是又常称为润湿剂。1．2．3整平剂(LeveIIer)。此剂与Cu2+一样带有很强的正电性(比Carrier更