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时间:2020-10-21
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1、第8章半导体表面和MIS结构本章重点:表面态表面电场效应MIS结构电容-电压特性硅-二氧化硅系统性质§8.1表面态理想表面:表面层中原子排列有序、对称与体内原子完全相同,且表面不附着任何原子或分子的半无限晶体表面。--理想晶体中假想的分界面,实际上是不存在的。实际表面:往往存在氧化膜或附着其他分子或原子,这使得表面分析更加复杂难以弄清楚。在半导体表面,晶格不完整性使势场的周期性被破坏,在禁带中形成局部状态的能级分布(产生附加能级),这些状态称为表面态或达姆表面能级。表面能级:与表面态相应的能级称为表面能级。分布在禁带内的表面能级,彼此靠得很近
2、,形成准连续的分布。对于理想表面的问题求解,需要建立薛定谔方程,利用具体的边界条件对波函数加以求解。aXV(x)V0E0一维晶体的势能函数求解薛定谔方程:在x=0处满足的连续性条件固体表面态的量子力学解释:x≤0区的电子波函数为:x≥0区的电子波函数为:在x=0处,波函数是按指数关系衰减,这表明电子的分布概率主要集中在x=0处,电子被局域在表面附近。对于硅表面态:表面最外层每个硅原子有一个未配对电子,有一个未饱和键,称为悬挂键,由于每平方厘米表面有1015个原子,相应悬挂键亦有1015个,这与实验测量值在量级上相符合。对于表面能级,和半导体内
3、部杂质和缺陷能级相类似,也分为施主类型和受主类型,但对于其在禁带中的分布,目前还没有得出一致结论。半导体表面态为施主态时,向导带提供电子后变成正电荷,表面带正电;若表面态为受主态,表面带负电。表面附近可动电荷会重新分布,形成空间电荷区和表面势,而使表面层中的能带发生变化。8.2表面电场效应8.2.1.空间电荷层及表面势表面电场的产生表面态与体内电子态之间交换电子金属与半导体接触时,功函数不同,形成接触电势差半导体表面的氧化层或其它绝缘层中存在的各种电荷,绝缘层外表面吸附的离子MOS或MIS结构中,在金属栅极和半导体间施加电压时离子晶体的表面和
4、晶粒间界在外加电场作用下,在半导体的表面层内发生的物理现象。可以采用不同方法,使得半导体表面层内产生电场,如:功函数不同的金属和半导体接触(金/半接触)、使半导体表面吸附某种带电的离子等.一般采用金属/绝缘体/半导体(MIS)结构研究表面电场效应表面电场效应理想MIS结构(1)Wm=Ws;(2)绝缘层内无可移动电荷且绝缘层不导电;(3)绝缘层与半导体界面处不存在界面态。MIS结构等效电路外加电场作用于该MIS结构,金属接高电位,即VG>0MIS结构由于绝缘层的存在不能导电,实际就是一个电容器,金属与半导体相对的两个面上被充电,结果金属一层的边
5、界有正电荷积累,而在P型半导体表面形成一定宽度的带负电荷的空间电荷区。首先,在空间电荷区内,从半导体的表面到体内,电场逐渐减弱,到空间电荷区的另一端,电场强度减小到零。其次,空间电荷区的电势也要随距离逐渐变化,半导体表面相对体内就产生电势差。空间电荷区对电场、电势与能带的影响:最后,电势的变化,使得电子在空间电荷区的能量改变,从而导致能带的弯曲。表面空间电荷区内能带的弯曲界面EcEiEFEvxEg半导体绝缘体表面势Vs:称空间电荷层两端的电势差为表面势,以Vs表示之,规定表面电势比内部高时,Vs取正值;反之Vs取负值。表面势及空间电荷区内电荷
6、的分布情况随金属与半导体间所加的电压VG而变化,基本上可归纳为三种情况:多子堆积、多子耗尽和少子反型。在VG=0时,理想半导体的能带不发生弯曲,即平带状态flat-bandcondition,有时也称为一种状态。VG=0时,理想MIS结构的能带图一般情况讨论,以p型半导体为例:EviEciEiEvEcEFsEFmEFm=EFs在金属和P型半导体间加上电压,则将会在半导体的表面层中产生空间电荷区dx0+VGp型半导体表面感生一个带负电的空间电荷层如果VG>0:qVsEcEvEF表面电势表面势为正,表面处能带向下弯曲,越接近表面。费米能离价带越远
7、,空穴浓度越小。空间电荷层内的电场是由半导体的表面指向体内的,电子的静电势逐步升高,能带向下发生弯曲.表面势及空间电荷区内电荷的分布情况,随金属与半导体间所加的电压VG变化,可分为:VG<0时,多子积累状态;VG=0时,平带状态;VG>0时,多子耗尽状态;VG0时,少子反型状态;下面分别加以说明(对P型半导体):考虑热平衡下的情况,此时半导体体内的费米能级保持定值当外加电压变化时,如前面所述:(1)VG<0多子空穴的积累在热平衡时,半导体内的费米能级保持定值EFmEFsEcEvEiQsQmxVG<0电荷分布能带图电荷分布图栅极加负电压,在界面
8、吸引空穴积累费米能级接近价带,是P型半导体(a)能带向上弯曲,EV接近甚至高过费米能级EF;EFmEFsEcEvEiQsQmxVG<0电荷分布(b)多子(空穴)在半
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