欢迎来到天天文库
浏览记录
ID:58239425
大小:6.30 MB
页数:47页
时间:2020-09-06
《面板制程-CFprocess简介.ppt》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在教育资源-天天文库。
1、CFProcess簡介JerryTFT/LCD材料工程部LCD&CF結構簡介CF光阻材料簡介CF製程及檢驗手法簡介MacroInspection判定方法MicroInspection判定方法CFProductIDnamingrule課程大綱LCD面板結構圖下玻璃基板上玻璃基板上偏光板PS液晶分子下偏光板框膠配向膜TFT元件彩色濾光板液晶層光線(背光源)LCD:LiquidCrystalDisplay(液晶顯示器)CF結構圖ITO剖面示意圖俯視示意圖實際圖例素玻璃BMRLayerGBMVAPSCF:ColorFilter(彩
2、色濾光片)光阻材料分類與成分正型光阻:BM(Cr),MVA負型光阻:ColorResist(R,G,B),PS,RBM彩色光阻溶劑固成分PastePolymerMonomerPhoto-initiatorAdditivePigmentDispersantSolventMonomerInitiator光阻材料成分v.s光阻特性CF製造流程1.廣視角產品(MVA產品):2.非廣視角產品(TN產品):BMRGBITOPSBMRGBITOMVAPS*BM依材質類型有Resin及CrBM二種CF製作方法CF製程機制:Photolit
3、hographyPhotosensitiveMaterialsSubstrateNegativeTypePositiveTypeMMBinderUVPigmentPhoto-initiatorSolubleInsolubleCoatingExposureDevelopmentImagesUVPhotolithography:顯影液:KOHCFProcess優點:1.Process減少(設備簡化)2.光阻用量減少(1)Spin---轉速(rpm)決定膜厚(2)Spinless---吐出量(PR值)決定膜厚CoaterSpin
4、VCDEBRHP/CPExposureDevelopmentAOIOvenCassetteCoaterVCDHP/CPExposureDevelopmentAOIOvenCassetteCoater:優點:塗佈均勻性較好缺點:1.多一道製程2.光阻用量多(浪費光阻,增加成本)BMProcess(1300)BM:遮蔽漏光區,增加對比RGB:提供色度ITO:提供電場所需之電極MVA/DJITO:提供廣視角PS:支撐TFT/CF所需之CellGapBMProcess鉻玻璃清洗正光阻塗佈(1)正光阻塗佈(2)Pre-cleane
5、rSlitcoaterSpincoater2.BMphotolineUnpacker&Initialcleaner鉻膜濺鍍素玻璃投入1.Crsputtering鉻玻璃CrsputterCrglassCrOx,CrNy,Cr一.CrBMprocess:XX:Spinless無BMProcess蝕刻去光阻紫外線曝光顯影烘烤(Oven)去掉邊緣光阻EBR(EdgeBeadRinse)AlignerDeveloperHotplate3.EtchinglineEtchingStrippingBMpatternglass真空乾燥Vac
6、uumDryerPre-bake&CoolplateXX:Spinless無預烘烤(HP)與冷卻(CP)BMProcess二.RBMprocess:素玻璃清洗負光阻塗佈(1)負光阻塗佈(2)Pre-cleanerSlitcoaterSpincoaterXX:Spinless無紫外線曝光顯影烘烤(Oven)去掉邊緣光阻EBR(EdgeBeadRinse)AlignerDeveloperHotplate真空乾燥VacuumDryerPre-bake&CoolplateX預烘烤(HP)與冷卻(CP)環保意識降低設備及建廠成本(省
7、掉sputtering及Etching的設備)簡化製程流程製程一致性(BM,RGB,PS均使用負光阻)RBM的優點Blackmatrix的功用遮蔽TFT避免pixel以外區域漏光增進色彩對比性降低面板的反射光Blackmatrix的需求☆低反射率:減低外來光線的干擾☆高OD值:阻隔pixel間的背光(增高對比)☆膜厚薄(避免角斷差發生)☆低pinhole數:避免漏光,產生亮點☆低particle數:增加良率BMInspection1231.TotalPitch(長寸法)2.CD(CriticalDimension
8、)3.MarktoEdge(端寸法)SubstrateR1.OD=-log(I/Io)>42.反射率(CrBM)3.Thickness(ResinBM)顯影後缺陷檢查ADI(AfterDeveloperInspection)巨觀檢查(Macroreview)IoIILSP01:ODStart區&平坦區
此文档下载收益归作者所有