激光干涉纳米光刻样品定位技术与系统的研究.pdf

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1、分类号LDC：密级编号激光干涉纳米光刻样品定位技术与系统的研究Samplepositioningtechnolog、andsysteminlaserinterferencenanoIithogr8ph)学位授予单位及代码：篮登型王盔芏l!Q!堑!学科专业名称及代码：旦士丝芏量基莶!Q§Q业业研宄方同：堂皇焦壁皇堂生堡趔堇查甲请掌位级别：亟±指导教师：王韭熊塾攫研冗生：圭渣论文起止时间长春理工大学硕士学位论文原创性声明本人却重声明：所呈交的硕士学位论文．《激光干涉纳米光刻样品定位技术与系绩的研宄》是本人在指导教师的指导下，独立进行研究工作所取得的成果。除文中已经注明引用的内容外

2、．本论文不包含任何其他个人或集体己经发表或撰写过的作品成果。对本文的研究做出重要贡献的个人和集体，均己在文中以明确方式标明。本人完全意识到本声明的法律结果由本人承担。作者签名诵弦年丛月坦日长春理工大学学位论文版权使用授权书本学位论文作者及指导教师完全了解“长春理工大学硕士、博士学位论文版权使用规定”，同意长春理工大学保留并同中国科学信息研宽所、中国优秀博硕士学位论文全文数据库和CNKI系列数据库及其它国家有关部门或机构送交学位论文的复印件和电于版，允许论文被查阅和借阅。本人授权长春理工大学可以将本学位论文的全部或部分内容编入有关数据库进行检索，也可采用影印、缩印或扫描等复制手

3、段保存和汇编学位论文。作者擞1帮钐作者签名：7r，矿导师签名：么缸』≥沙ff年够月步日龇年里i月i!日摘要近年来，激光干涉纳米光刻被日盏广泛的研究和使用在周期，准周期微纳表面图案的生产制造中。在激光干涉纳米光刻中．决定光刻图案和曝光面积的因素有很多，包括光束入射角、空间角、入射位置、偏振态、相位、光强等。在激光干涉纳米光到系绩中．样品定位环节尤其重要，这方面的工作包括：l使用高精度、大行程的样品定位平台完成多次曝光增加光刻点密度(插补)和增加光刻面积所需的运动：2在特定的样品定位技术控制下完成光束入射姿态的检测及校正，光束入射姿态包括光束相对于样品的入射角、空间角及入射位置，

4、它们直接影响光刻图案和曝光面积。本文讨论的是激光干涉纳米光刻样品定位技术与系统．基于激光干涉纳米光刻中样品定位环节的工作内容，研究包括两方面：l设计了一种在行程、定位精度等各个方面都可以满足激光干涉纳米光刻要求的样品定位平台：2首创了一种基于光斑检测的样品定垃技术。通过理论分析、计算机仿真及应用实验、验证实验等一系列实验，验证了此样品定位技术在对光束入射姿态的检测及校准中有很好的精度和重复性，可应用到实际的激光干涉纳米光刻中。关键词：激光干涉纳米光刻样品定位技术样品定位平台光束入射姿态光斑检测厦校准ABSTRACTLaserimerferencenandithograph)h

5、asbeendmelopedardusedformicroandnarlomanufacturingofperiodicandqtasi-periodicsurfaceDanemsinrecentyearsInlaserimerferCIICCnanolitbograph5anumbercfparametersanteusedtodeterminetleli'dmgraphypatternardexposurearea·inchidirgtieincidentpositionincidentangle，spaceangle．rhase‘polarizationancIIl；1

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