激光干涉光刻技术研究

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1、编号激光干涉光刻技术研究Laserinterferencephotolithographytechnologyresearch学生姓名王新舜专业电子科学与技术学号1112129指导教师分院光电科学分院2015年X月摘要本文研究的是基于激光干涉光刻的相关理论，综合论述激光干涉光刻的基本原理、主要类型、发展趋势及当前未解决的难题。干涉光刻技术是一个无需用到复杂的光学系统或光掩膜而制备精细结构的技术手段，干涉光刻技术集激光、干涉和衍射光学及光学光刻于一体。激光干涉光刻作为一种新兴的光刻技术，具有设备简单、价格低廉、高效率高分辨率和大视场曝光等

2、待点，对其进行系统的研究，对推进光学光刻极限，发展纳米微电子和光电子器件、新型大屏幕平板显示器和新型光刻机具有重要意义和广阔的应用前景。关键词：光学光刻;全息光刻技术;干涉光刻技术IABSTRACTThispaperresearchesonrelatedtheoriesoflaserinterferencelithographybasedonbasicprincipleoflithography,laserinterference,comprehensiveexpositionofthemaintypes,developmenttren

3、dandthecurrentoutstandingproblem.Interferometriclithographyisanoneedtousethecomplexopticalsystemoropticalmaskandpreparationtechnologyoffinestructure,interferencelithography,interferenceanddiffractioninlaseropticsandopticallithographyinone.Asanewkindoflaserinterferencelit

4、hography,hastheadvantagesofsimpleequipment,lowprice,highefficiencyandhighresolutionandlargefieldexposurewaitingpoint,tostudyit,topromotethedevelopmentofnanoopticallithographylimit,microelectronicandoptoelectronicdevices,anewlargescreenflatpaneldisplayandanewlithographyha

5、simportantsignificanceandbroadapplicationprospect.Keywords:OpticallithographyholographiclithographyinterferencelithographyI目录绪论1第一章方案设计21.1功能要求21.2方案选择21.3方案论证3第二章系统总体的设计52.1系统总体的设计5第三章系统硬件的设计63.1AT89S52的结构和功能63.1.1AT89S52引脚结构63.1.2寄存器83.1.3复位103.2AT89C2051的结构和功能103.2.1A

6、T89C2051结构103.2.2主要性能123.3TL1838一体化红外接收头123.4LD发射器133.4.1LD半导体激光器简介143.4.2警示标志15第四章系统模块174.1LD发射模块的设计174.2本机处理接收电路的设计174.2.1LD接收电路的设计184.2.2报警电路的设计184.2.3电源电路的设计194.2.4其他外围电路的设计19第五章系统软件设计及实现205.1LD红外发射模块程序的设计205.2本机接收处理模块程序的设计205.2.1密码设置子程序的设计215.2.2按键间隔超时的判断及复位21第六章结　语

7、23致谢24附录25参考文献26I实验设计方案报告绪论随着科学技术的进步和半导体工业的发展,集成电路的特征尺寸越来越小，而激光干涉光刻技术是一种在材料表面大面积加工亚微米尺度周期性结构的技术，是半导体器件制造的又一重要技术，激光干涉光刻能产生周期性点、线结构等特点。集成电路之所以会这样飞速发展，光刻技术功不可没，而其中激光干涉光刻技术又是近几年新兴的一项技术，这对半导体工业和集成电路又是一次巨大的飞跃，所以对激光干涉光刻技术进行研究是必要的。目前国际上对激光干涉光刻技术的研究取得了很大的进展，不仅加工出大面积的小尺度微纳结构在应用性研究

8、上也取得了许多优秀的成果。虽然我国相比于一些发达国家在技术上还有些不足，但也取得了许多优秀的成果，在应用方面提出了突破性的研究。随着科技的进步，激光干涉光刻技术也面临着更多的挑战，例如激光干涉光刻在成本控制