激光干涉光刻的极限尺寸研究

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1、分类号：TN219UDC：密级：亘垒珏编号：——激光干涉光刻的极限尺寸研究Researchonthelimitingfeaturesizesoflaserinterferencelithography学位授予单位及代码：篮查堡王太堂(!Q!墨鱼2学科专业名称及代码：丝皇王堂皇固签鱼王堂(QZZ墨Q圣2指导教师：王逝副熬握王佳筮塾堡研究生：王二墅论文起止时间：2Q!呈!!!二2Q!墨：!呈长春理工大学硕士学位论文原创性声明本人郑重声明：所呈交的硕士学位论文，《激光干涉光刻的极限尺寸研究》是本人在指导教师的指导下，独立

2、进行研究工作所取得的成果。除文中已经注明引用的内容外，本论文不包含任何其他个人或集体已经发表或撰写过的作品成果。对本文的研究做出重要贡献的个人和集体，均已在文中以明确方式标明。本人完全意识到本声明的法律结果由本人承担。作者签名：兰二臣垦乏!!!年』月兰日长春理工大学学位论文版权使用授权书本学位论文作者及指导教师完全了解“长春理工大学硕士、博士学位论文版权使用规定"，同意长春理工大学保留并向中国科学信息研究所、中国优秀博硕士学位论文全文数据库和CNKI系列数据库及其它国家有关部门或机构送交学位论文的复印件和电子版，允

3、许论文被查阅和借阅。本人授权长春理工大学可以将本学位论文的全部或部分内容编入有关数据库进行检索，也可采用影印、缩印或扫描等复制手段保存和汇编学位论文。盟年三月兰日皇竺年上月兰日2监站边绰名签者师作导摘要作为半导体器件的重要制造技术之一，光刻技术受到了人们的越来越多关注，面临着更多新的挑战。激光干涉光刻能产生周期性点、线结构，而且该技术还具备设备简单、低成本、高分辨率、大面积等特点，是近年来研究的热点。本文对激光干涉光刻的工艺和特征尺寸极限进行了讨论研究。先是设计了一个双光束系统，然后围绕着激光干涉光刻图案特征尺寸的

4、影响因素，如波长、入射角、偏振方向、能量密度等，进行了理论分析和计算机模拟，部分作出了实验论证。最后在单一改变能量密度变量的条件下，对激光干涉光刻的极限尺度进行了研究。关键词：激光干涉光刻无掩膜特征尺寸极限ABSTRACTLithographytechnology，asoneofthemostimportantmanufacturingtechnologiesforsemiconductordevices．hasattractedmuchattentionandfacednewchallenges．Laserint

5、erferencelithographyhastheadvantagesofsimplicity，lowcost，highresolutionandlargeareaprocessing，whichcangeneratethelineordotperiodicpatterns．Thisreportdiscussesthefabricationtechniquesandlimitingfeaturesizesoflaserinterferencelithography．Inthework，atwo-beaminter

6、ferencesystemwasdesigned．Thefactorsthataffectthepatternfeaturesizessuchasthewavelength，incidentangles，polarizationdirectionsandenergydensitieswereanalyzedandsimulatedbycomputer．Selectedanalysisandsimulationresultswerealsoexperimentallyverified．Thelimitingfeatu

7、resizesoflaserinterferencelithographywereinvestigatedbychangingthevariableofenergydensity．Keywords：laserinterferencelithography,maskless，featuresize，limitation目录摘要⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯IABSTRACT⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯

8、．II目勇毛⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯．¨l第一章绪论⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯．．11．1光刻技术概述⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯．11．2激光干涉光刻的发展趋势和现状⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯51．3课题研究的目的和意义⋯