根管治疗失败原因的临床分析.doc

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1、根管治疗术是治疗牙髓病和根尖周病的主要方法,根管治疗术通彻底清除根管内的炎性牙髓和感染坏死物质,成形根管,严密充填根管,以去除根管内容物对周围组织的不良刺激,防止根尖周病变发生,促进根尖周病变愈合。根管治疗的成功关键是彻底清除根管系统内感染或坏死的牙髓组织,并彻底充填和封闭根管系统,从而治疗和预防牙髓和根尖周病。但根管治疗术也有它的局限性,临床上根管治疗术的成功率为66%~94%。根管治疗的过程包括牙体准备,开髓,拔髓,确定工作长度,根管预备,冲洗,管内用药,根管充填,完成牙体修复,术后回访等步骤

2、,其中任何一个步骤发生问题都可能导致根管治疗的失败。根管治疗失败的标准为:1.患者感受:有持续的不适症状,患牙不能承受咀嚼,对医疗过程和结果不满意,对患牙功能及外形不满意。2.临床表现:窦道或肿胀反复发作,有叩痛或触痛,有不可修复的牙折裂。3.X线片:牙周膜间隙增宽;原有根尖病变无缩小或增大;无新骨质形成,根尖未继续发育;根充后有明显的根管腔隙,不吸收充填材料的超填。具体分析根管治疗失败的原因有以下:1.治疗准备阶段及患者解剖病理因素:1.1治疗前对根尖病变程度认识不清:治疗过程中,医生没有待窦道

3、或叩疼彻底消失后再行充填。这种充填时机的选择不当可以造成治疗失败根尖病变较大的病例预后比较差。1.2牙齿的解剖及病理学原因:a.上颌第一磨牙近中颊根有两或三个根管(MB2)的比率为38%~71.2%,下颌第一前磨牙根管根管形态的变异发生率也很高,有双根管的比率为17%~26%。这种情况都容易造成遗漏根管,造成治疗的失败。b.解剖因素:侧支根管、副根管根尖分歧、根尖分叉、管间交通支内及牙本质小管内的细菌,使用目前机械预备、化学预备、药物消毒不能完全杀灭,当细菌达到一定数量后,又造成根尖周损坏,应用超

4、声波+药物冲洗预备根管和热牙胶垂直加压技术能提高治疗成功率。c.下颌第三磨牙根管治疗失败的原因可能是由于下颌第三磨牙根管形态复杂多变导致,加之下颌骨外斜嵴的存在,使X线片上患牙的根管影象模糊,不能为临床治疗提供较为准确的信息,这些均可能导致牙根或根管的遗漏,使根管治疗失败。d.根管的解剖因素包括还包括:根管过度弯曲,根管过细过小,根管钙化,马蹄型根管。2.治疗过程中的技术和操作失误:2.1根管充填不密合:根管充填不密合,未能将整个主根管进行三维严密充填,X片示充填物内或/和充填物与根管壁间有低密度

5、影,是根管治疗失败的主要原因。多数患牙根管形态不佳,未能形成冠方最大、根端最小的连续锥度,而呈圆柱状根管,这种形态的根管无法进行有效的冲洗和严密的充填,根管内易残留细菌等感染物质,造成根管系统的持续或继发感染,导致治疗失败。2.2超填或欠填:欠填,操作长度不准确,致使根预备和充填不到位,最多见于后牙弯曲根管,超填,盲目预备根管或根管充填时未按操作长度操作造成超充。当根管出现欠填,尖周组织液、渗出液可回渗到未充填根管,由于根管内无防御功能,渗出物的分解,微生物的繁殖,即可导致再感染和失败。超填不光导

6、致根尖封闭不全,还可将细菌等感染物质推出根尖孔,引起根尖周炎症。此外,具有一定毒性的根充材料可在根尖周组织引起异物反应或产生毒性刺激作用,从而给牙周组织和根尖周组织带来现实或潜在的不利影响,甚至导致治疗失败。2.3术者原因导致遗漏根管:术者对牙齿的解剖结构不熟悉,特别是上颌第二前磨牙及上颌第一磨牙,没有正确阅读X线片,常常造成临床操作时遗漏根管,导致治疗失败。所以,诊断丝偏移投照技术是寻找和确定MB2存在的最好办法,当X线片发现根管影象偏移时,应高度怀疑MB2根管的存在。在临床治疗过程中应进行充分

7、的寻找和治疗MB2根管,提高上颌磨牙根管治疗的成功率。2.4纸尖棉捻遗留:未按医疗操作常规随心所欲的治疗,在私人小诊所多见。2.5根管治疗期间的急症:是指根管治疗期间的急性反应,主要表现为疼痛和肿胀,临床上IAE发生率较高,增加了患者的痛苦,使治疗次数增多,是治疗难点之一。这是因为死髓牙根管内有大量的混合细菌感染,同时在预备根管时,由于机械和药物的作用改变了髓腔组织的内环境,可能破坏了根管内细菌之间的共生平衡性,此时细菌及毒素极易通过根管预备进入根尖周组织引起急症,并可作为抗原物质导致免疫反应。封

8、甲醛甲酚(FC)的急症反应明显高于封樟脑苯酚(CP)是由于FC具有较强的细胞毒性和对软组织刺激腐蚀作用,可以引起根尖周组织的坏死和炎症,延缓组织的修复,还可作为半抗原使机体发生免疫反应。下颌牙的急症反应显著高于上颌牙可能是下颌骨骨质较致密,同时重力作用炎性渗出物不易向冠方引流而积于根尖所致。2.6根管侧穿:根管侧穿易发生在髓腔的狭窄部和根管弯曲处,主要由于术者对髓腔解剖结构不熟悉,未熟练掌握开髓和根管扩大的方法所致。2.7根管预备及根管消毒不彻底、充填指征掌握不严格致炎症复发。对于

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