光刻胶参数及光刻工艺.pdf

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1、光刻胶参数及光刻工艺1、正性光刻胶RZJ-304规格RZJ-304：25mpa·s，50mpa·s（粘稠度），配用显影液：RZX-3038匀胶曲线注：粉色为50cp，蓝色为25cp推荐工艺条件①涂布：23℃，旋转涂布，膜厚1.0～3.5μm②前烘：热板100℃×90sec2222③曝光：50～75mj/cm（计算方法:取能量60mj/cm取光强400×10um/cm，则60/40=1.5s）④显影：23℃，RZX-3038，1min，喷淋或浸渍⑤清洗：去离子水30sec⑤后烘：热板120℃×120sec2、正性光刻胶S1813规格S1813，配用显影

2、液为ZX-238匀胶曲线推荐工艺条件1（以具体工艺为参考）①涂布：23℃，旋转涂布，膜厚1.23um（1.1～1.9μm）②前烘：热板115℃×60sec2③曝光：150mj/cm④显影：21℃，ZX-238，65sec，喷淋或浸渍⑤清洗：去离子水30sec⑥后烘：热板125℃×120sec3、负性光刻胶AZ-5214规格AZ-5214，配用显影液AZ-300匀胶表格（单位：微米）推荐工艺条件1（以具体工艺为参考）①涂布：23℃，旋转涂布，膜厚1.47um（1.14～1.98μm）②前烘：热板100℃×90sec2③曝光：240mj/cm④后烘：1

3、15℃×120sec2⑤泛曝光：>200mj/cm⑥显影：21℃，AZ-300，60sec，喷淋或浸渍⑦清洗：去离子水30sec⑧坚膜：热板120℃×180sec注意：紧急救护措施（对于光刻胶）①吸入：转移至空气新鲜处，必要时进行人工呼吸或就医。②皮肤接触：肥皂水清洗后自来水清洗。③眼睛接触：流动清水清洗15分钟以上，必要时就医。