光刻胶制备工艺技术手册

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1、101141490.1光刻胶用剥离液组合物202128219.6光刻胶用剥离液和使用该剥离液的光刻胶剥离方法302142279.6光刻胶用剥离液和使用该剥离液的光刻胶剥离方法402131624.4反射防止膜的光学常数的决定方法和光刻胶图形的形成方法502142219.2光刻胶组合物602148233.0光刻胶组合物700816779.6用于深紫外线辐射的光刻胶组合物802145886.3化学放大型正性光刻胶组合物900817637.X检测光刻胶剥离过程终点的方法和装置1001807989.X化学增强光刻胶及一种

2、光刻胶合成物1102153815.8光刻胶图案的形成方法和光刻胶层合体1201808573.3光刻胶剥离剂组合物1302140154.3光刻胶层中减小图案大小的方法1401804796.3具有酸反应性基团的新颖含氟聚合物以及使用这些材料的化学增幅型光刻胶组合物1502141841.1光刻胶用剥离液和使用该剥离液的光刻胶剥离方法1601810235.2光刻胶去除剂混合物1701811264.1负作用化学放大的光刻胶组合物1802154275.9环状锍和氧化锍及含有它们的光致酸生成剂和光刻胶1901811577.2

3、感光性树脂组合物、使用它的感光性元件、光刻胶图案的制造方法及印刷电路板的制造方法2003120076.1光刻胶剥离组合物及清洗组合物2102120076.9用于剥离光刻胶的组合物2201812974.9用于深紫外线的光刻胶组合物及其方法2303136946.4用于形成防反射膜的涂布液组合物、光刻胶层合体以及光刻胶图案的形成方法2400819669.9包括氟化铵的光刻胶去除剂组合物2503109544.5光刻胶剥离除去方法及装置2601814891.3用于有机硅酸盐玻璃的低K蚀刻应用中的蚀刻后由氢进行的光刻胶剥离

4、2700819962.0将干燥光刻胶膜层热层压到印刷电路板上的方法2895192017.0稳定的离聚物光刻胶乳状液及其制备方法和应用2996114151.4超强酸催化的无显影气相光刻胶3096114150.6有机碱催化的无显影气相光刻胶3195196387.2用于微电子的无胺光刻胶粘接促进剂3285100457稀土顺式聚异戊二烯负型光刻原胶的制备3387105308含光刻胶的废液的处理3488100287彩色显象管荧光屏的形成方法和光刻胶的组合物3589109246.3彩色显象管荧光屏的光刻胶组合物369010

5、2772.3在光刻胶中使用多支线型酚醛树酯的方法3790110445.0制备用于高分辨率光刻胶组合物的高玻璃化温度线型酚醛树脂的方法3890109643.1正向作用的光刻胶3991104298.9光刻胶和光学应用用的低光密度聚合物和共聚物的制备方法4094113847.X含有非离子氟代烃表面活性剂的水性光刻胶4194118622.9含有氨基丙烯酸酯中和的粘合剂的带水光刻胶4294119237.7光刻胶剥离液管理装置4394120086.8形成光刻胶图形的方法4494116129.3具有联合增稠剂的带水光刻胶45

6、95107005.3正性光刻胶4695107601.9检测涂敷在晶片上的光刻胶膜微观厚度差的方法4797110797.1光刻胶剥离液管理装置4897115414.7光刻胶组合物4997111875.2在半导体器件上形成光刻胶膜的装置及其形成方法5097119281.2在半导体晶片上形成光刻胶图形的方法5197109669.4用于在制造半导体过程中清洗光刻胶的清洗剂制品5295113199.0用由假图形所形成的光刻胶掩模将层精确构图成目标图形的方法5398100726.0化学增强的光刻胶5498100895.X化

7、学增强的光刻胶5596198863.0无高温蒸馏酚醛清漆树脂分离法和光刻胶组合物5696198607.7通过螯合型离子交换树脂降低光刻胶组合物中的金属离子5799107757.1光刻胶正胶组合物5897193958.6包括具有酸不稳定侧基的多环聚合物的光刻胶组合物5998124457.2在化学敏感型光刻胶上形成图形的方法6098125184.6用于准确地转换非均匀厚度光刻胶层中的潜像的工艺...............这里只列举了部分目录，需要联系我，给你最全面最新资料...............481201

8、010251766.9适合用来除去光刻胶、光刻胶副产物和蚀刻残余物的组合物及其应用482200910073198.5凹模热压印中应用光刻胶整形改善填充和减少残胶的方法483200880017184.5活动硬掩模的等离子体刻蚀过程中的原地光刻胶剥离484200810202117.2去除光刻胶残留及刻蚀反应物颗粒的方法485200810225785.7百纳米级窄线宽多种形貌全息光栅光刻胶图