温度对原位反应制备的 Si–B–O–N 陶瓷微观结构及力学性能的影响.pdf

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1、硅酸盐学报第40卷第9期VO1.40,NO.92012年9月J0URNALOFTHECHINESECERAMICSO·CIETYSeptember,2012温度对原位反应制备的Si一O-N陶瓷微观结构及力学性能的影响吴赞,王智慧1,侯圣英,纪伟,宋亮,温广武(1.中国兵器工业第五二研究所,装甲与反装甲材料技术国防科技重点实验室,山东烟台264003;2.哈尔滨工业大学(威海)材料科学与工程学院,山东威海264209)摘要:为满足新型透波陶瓷工程应用需要,利用硼酸脱水得到的氧化硼与氮化硅在1400~1800℃原位反应制各si—o_N陶瓷。借助X射线衍射仪、x射线光

2、电子能谱仪、Fourier变换红外光谱分析仪和扫描电子显微镜研究了热处理温度对si_B—_N陶瓷物相组成、结构及力学性能的影响。结果表明:氧化硼和氮化硅的原位反应在1600℃以上完成,所得产物为氮化硼和掺杂硼、氮元素的石英玻璃,其体积分数分别为30%和70%;原位反应结束后,随温度提高,氮化硼生长速率逐渐加快,晶粒尺寸由纳米级逐渐长大为亚微米级,非晶相中硼、氮元素含量逐渐降低;受氮化硼纳米晶强化作用以及非晶相结构影响,在1700℃获得的sB一_N陶瓷力学性能较好关键词:硅—硼一氧一氮陶瓷;氮化硅;氧化硼;氮化硼;透波陶瓷;原位反应中图分类号:TB332文献标志码

3、:A文章编号:0454-5648(2012)09-1265—06网络出版时间:2012--08-2115:42:49网络出版地址:http://www.cnki.net/kcms/detail/11.2310.TQ.20120821.1542.201209.1265_003.htmlInfluenceofTemperatureonMicrostructureandMechanicalPropertyofSi_]_(】L_-NCeramicsFabricatedbyin-situReactionMethodWUYun,WANGZhihui,HOUShengying

4、,JlWei,SONGLiang:,WENGuangwu。(1.NationalKeyLaboratoryofScienceandTechnologyonArmorandAnti—armorMaterials,No.52InstituteofChinaOrdnanceIndustryGroup,Yantai264003,Shandong,China;2.SchoolofMaterialsScienceandEngineering,HarbinInstituteofTechnologyatWeihai,Weihai264209,Shandong,China)Abs

5、tract:Tomeettheneedofengineeringapplication.Si—B—0—-Nceramicsweresynthesizedviathein-situreactionbetweensiliconnitrideandboronoxidedehydratedfromborieacidatdiferentheattreatmenttemperatures(f⋯el4OO一1800℃1.Efleetofheattreatmenttemperatureonphasecomposition.microstructureandmechanica1p

6、ropertieswerestudiedbyX—raydifractometer,infraredspectroscopy,X—rayphotoelectronspectroscopyandscanningelectronmicroscope.Theresultsshowedthatthein-situreactionbe-tweenSi3N4andB2O3wascompletedat>1600℃,whilethereactionproductsmainlyconsistedof30%(volumefraction,thesamebelow)boronnitri

7、deand70%amorphousphasewhichwasaquartzglassdopedwithboronandnitrogenelements.Aftertheinsitureaction.thegrowthrateofBNcrystalsincreasedgraduallywithincreasingthetemperature.Simultaneously,thegrainsizechangedfromnano.scaletosubmicronsize.andthecontentofboronandnitrogenelementsinamorphou

8、sphasedecrea

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