FDA关于ANDA强制降解试验的观点.doc

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1、FDA关于ANDA强制降解试验的观点2016-06-26 药物一致性评价来源：亦度正康强制降解试验为方法学验证中的重要内容，为了解国外对强制降解试验的要求，根据PharmaceuticalTechnology第36卷5期中“FDAPerspectives:ScientificConsiderationsofForcedDegradationStudiesinANDASubmissions”一文（发布时间为2012年5月2日，作者为RagineMaheswaran），对FDA关于强制降解试验的相关要求进行了翻译整理，具体内容如下：一、强制降解试验简介

2、强制降解试验也称破坏性试验，其试验目的明确。强制降解试验可预测原料药的稳定性或影响制剂的纯度、有效性和安全性的因素。了解不同破坏条件下药物的降解产物和降解途径是非常必要的。强制降解试验可以为分析方法的建立、说明书的制定和处方设计的确定等提供有益的参考。样品破坏的程度取决于药物本身的性质和产品的剂型。ICHQ1B为光稳定性试验提出了一些建议，在ICH稳定性指导原则和验证指南中，没有可以参考的关于其他降解条件的建议，对于氧化和水解降解研究也仅有有限的信息。原料药与辅料分析方面的药物专著可以为不同原料药的各降解条件提供参考。二、仿制药强制降解试验研究存在

3、的问题仿制药申请时提供的强制降解试验研究数据不完整是申报的一大缺陷。美国仿制药申报常见缺陷解读（CMC部分）已经出版，常见的一些例子说明，强制降解试验的缺陷包括以下几个方面：1.原料药在各破坏条件下均不产生降解。请重复破坏试验以获得足够的降解产物,若没有产生降解,请提供依据。  2.破坏条件过于剧烈，导致大部分药物均被降解。请用温和的破坏条件或减少样品暴露时间以产生相关的降解产物。  3.请注意即使你已经用含量测定的方法对破坏的样品进行了检测，为了验证有关物质的检测方法具有稳定性指示功能，破坏的样品也应用有关物质的方法进行测定。  ——基于质量守恒

4、方面和检测方法专属性方面的考虑4.请提供所做的验证试验数据，以证明用以检测未破坏样品和破坏样品的方法能够检测出所有的降解杂质。  5.请对破坏样品中已知和未知的降解产物进行列表总结。6.请确定检测软件对峰纯度检测的峰高要求。  ——对峰纯度的检测与峰高有关？7.请说明破坏样品质量不守衡的理由。 8.请鉴别原料药与辅料相互作用产生的降解产物。  9.光稳定性研究表明药品对光敏感，请解释这一点是如何在分析方法、生产工艺以及药品运输过程反映出来的。  在仿制药申请中,尽量减少以上缺陷,通常会建议在申请过程中报告强制降解试验的相关信息。强制降解试验获取的信

5、息能够为开发稳定性指示分析方法、生产工艺,产品运输和储存条件的确定提供依据。三、如何进行强制降解试验1、降解条件典型的强制降解主要包括四种机制：高温、水解（包括建降解和酸降解）、氧化和光降解。选择适当的破坏条件，如酸碱和氧化剂的浓度、破坏温度、适宜的破坏时间，以实现样品最佳降解程度。样品破坏过度会产生在药品稳定性研究过程中和正常破坏条件下均不会产生的二次降解产物，这并不是降解试验的目的。因此，控制样品降解达到预期水平是十分必要的。为了实现有目的的降解，应制定适宜的降解研究方案。同时为加速试验和长期试验的放置条件提供依据。通常认为样品降解量应在5~2

6、0%之间。对于含量限度为标示量的90%~110%的小分子药物，即使在文献中有更广泛的推荐范围作为参考（例如，10~30%），通常允许10%的降解量。降解试验破坏条件越剧烈，则越容易产生二级降解产物。1.1光稳定性光稳定性试验是强制降解试验的重要组成部分，对光敏感药物尤为重要。ICHQ1B指导原则提出了新原料药和制剂的光稳定性试验条件。原料药、固体/液体制剂,应暴露在总照度不低于1.2×106Lux•hr,近紫外能量不低于200w•hr/m2的条件下,相同样品应同时暴露在日光灯和近紫外灯下。可控制合适的温度以减少局部温度变化效应。光破坏样品要检查样品

7、是否有物理性质(如外观、溶液的颜色或澄清度)、含量和降解产物的变化。Q1B中列出的决策树可以用来确定药物的光稳定性试验条件。产品标签应列出产品适宜储存条件,要注意仿制药标签应和参考上市药物标签以及美国药典(USP)相关建议(如适用)保持一致。1.2热稳定性热破坏试验条件（例如：干热破坏和湿热破坏）应比ICHQ1A中推荐的加速试验条件剧烈。固体原料药和制剂应同时暴露于干热和湿热条件下，而液体制剂可以暴露于干热条件下。建议破坏温度应高于加速试验温度的10℃，相对湿度为75%或者更高。破坏试验也可以在更高温度条件下进行短时间破坏。对破坏样品进行多个时间点

8、检测，能够充分提供降解速率、一级与二级降解产物的信息。即使药物较稳定，产生较少降解产物或无降解产物产生,也应确保破坏强度高