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1、半导体厂务系统范围有多大？)[5U%J.o0l:S%j【2007年3月4日星期日第一次整理】【2007年3月18日星期日第二次整理】/O"_7d7F0
2、2`-b$?,a【2007年11月25日星期日第三次整理】【2009年2月5日星期四第四次整理，不断更新中…】1、cleanroom洁净室内装修工程：（高架地板工程、洁净室隔墙板系统、铝合金龙骨吊顶/ceilinggrid、无尘涂装、环氧地坪等）、压差控制系统、ESD防静电等；4D:q(g*b7@#D1ib,循环空调系统（包括部分供热与通风系统，比如MAU/OAC、AHU、FFU、DDC、FCU、粗、中、高、超
3、高过滤器、化学过滤器etc.、送气风机、排气风机etc.）；(`6q+F7W,C.m
4、2cc,中央动力，cu：Mechenical（热水、冷冻水、软水、工艺设备冷却水PCW、生产上水、自来水﹑饮用水、一般蒸汽和洁净蒸汽等管路供应系统；锅炉、冷冻机、冷却塔、空压机等厂务设施）；--有些fab把中央动力归入cleanroom、而有的FAB确反之，把C/R划入机械空调、也有像本公司这样，干脆把CU和C/R分开；这些划分都是可以的，无所谓对错。+o8W HD$m6g$Y:O2P$Jd,Hookup（一次、两次管路系统）、支吊架系统、FOUNDATION防震机座、
5、粉尘监测智能系统/DMS系统、风淋室、传递窗、层流罩、洁净工作台、洁净洗手器、洁净衣架、洁净电梯、正压洁净楼梯间系统、化学品储存冷库和压缩机etc.；2、GASBulkGas：GASYARD气站，CQC（N2/H2/O2/Ar/He/天然气）【包括普通和超纯/精制气体】，压缩空气（CDA）--有些FAB还将机台用CDA和厂务设备用CDA供应系统分开、呼吸空气供应系统等；3_$o3l+H"K!@GasSystem(有部分交叉重叠)：（1）易燃性气体(FlammableGas)：H2,NH3,PH3,DCS,ClF3等；（2）毒性气体（ToxicGas）：NO,C
6、4F6,C5F8,NF3,CH3F等；1t7t)e%R,F'c.G%v（3）腐蚀性气体（CorrosiveGas）：如HCl,HF,PCl3,SiF4(四氟化硅),ClF3,BCL3(三氯化硼)WF6,HBR,CL2等；*h)}3B#[1F%O8m1?3L0S
7、（4）惰性气体(InertGas)：C2F6(六氟乙烷),CF4,CHF3(三氟甲烷),C4F8(八氟丁烷),SF6(六氟化硫),N2O(笑气)等；+}!b7X,F!D$-i（5）氧化性气体（OxideGas）：ClF3,Cl2,NF3等。（6）低压/保温气体(Heat Gas):WF6(六氟化钨)
8、,CLF3(三氟化氯),C5F8(八氟戊烷),BCL3(三氯化硼),SIH2CL2(氯化硅)等。3、Watertreatmentsystem*a;w ^-b$wa,超纯水供应系统、热/温纯水供应系统、一次纯水（RO水）供应系统etc.8W,k-o5k?%F2db,工艺废水处理（酸、碱、含氟排水、slurry/cmp、研磨排液、温排水、纯水回收、一般排水、TMAH显影液、H2O2、硫酸排液、磷酸排液、NH3排液etc.）6]#p.z0`0s4Em-yc,办公用给排水系统：饮用水供应、自来水供应、生活污水处理、雨水排放系统etc0}"4、exhaust%h/b'
9、c)y:a(J)U$~/ca,工厂SCRUBBER:酸、碱、有机VOC、粉尘、一般排气etc.[有些FAB还包括了紧急排烟/事故排风系统]0d p)H5gV q"r2Zb,LOCALSCRUBBER（一般附属于工艺设备）：依其原理大概可分成下列几类(1)电热水洗式;(2)燃烧水洗式(3)填充水洗式;(4)干式吸附式。5、电力供应系统+E$F4J1} z$q,Na,强电：高低压供电（包括中央变电站和各终端变电站）、ups电源供应系统（蓄电池组）、紧急柴油发电机系统、SSTS高速切换开关、VSS电容补偿系统等、各类配电盘、照明（包括teardrop泪滴型照明
10、灯具、黄光灯）、插座；b,弱电：各类动力、EHS方面的自控部分（包括各类弱电盘面）、FMCS厂务监控系统（包括各sub-scada系统），【监控方面还有气体监控系统（GMS）、气体侦测系统（GDS）、有的厂是GMS＋GDS＝FMCS、有的厂GMS和GDS会分开来的】、各类电气接地、静电防护系统etc..a3_ A1{:@4`,{+Z/C6、chemical包括化学品供应系统和化学品回收系统，具体使用的化学品种类根据每个FAB产品的不同而不同:.i1O#_,^ N#}:Y+L(Fa,ChemicalDispensingSystem化学品供应系统6b4z T
11、1h7L/S)R,D*z酸性：HCL，
