CIVA软件仿真曝光次数对射线检测结果的影响.pdf

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1、第38卷第2期无损探伤Vo1.38No.22014年4月NDTApril.2014CIVA软件仿真曝光次数对射线检测结果的影响严字魏鹏刘丽丽杨建龙(核工业工程研究设计有限公司,北京101300)摘要:针对某核电项目规格为~273mm×25.4mm的核1级反应堆压力容器安注管和安全端连接焊缝进行射线检验,由于曝光次数不同导致检测结果的评判截然不同,本文采用CIVA仿真平台对该焊缝的射线检测过程建模仿真,研究曝光次数对射线检测结果的影响,提出最优化曝光次数为6次。同时,也发现曝光时间对底片的黑度有影

2、响,随着曝光时间的增加,底片黑度逐渐增大。将CIVA仿真平台应用在核电设备射线检测中,对优化射线检测工艺,有着非常重要的意义。关键词:CIVA仿真;射线检测;曝光次数;底片质量中图分类号:TG115.28文献标志码:A文章编号:1671-4423(2014)02-19-03目前,在我国核电安装、役前和在役检查中,射度不同。本文通过利用CIVA仿真平台建立模型,线检测是判定焊口是否合格的重要检测手段,而射对该规格焊缝的射线检测过程进行模拟仿真分析,线检测过程中所使用的参量如焦距、曝光时间、透照研究

3、曝光次数对射线检测结果的影响。方式等会对检测结果产生比较大的影响。在某核电1射线检测仿真试验过程项目安装工程中,安装公司对某机组压力容器安注管与安全端连接处的一道规格为,~273mm×1.1建立物理模型25.4mm的焊缝进行了射线检测,结果发现在底片针对规格为~273mm×25.4mm的管道对接焊中存在一处8mm夹渣缺陷显示,按照RCC—M1缝,使用CIVA仿真软件建立物理模型,并在模型中级焊缝验收标准进行验收,判定为合格缺陷。水压插入缺陷,模型示意图见图1,插入缺陷的具体位置试验前监理公司对此

4、底片进行复查,仍然认为该缺及尺寸如下:陷显示是合格的。役前,第三方公司对该焊缝进行射线检测后,却在底片中发现一处17mm长的夹渣缺陷,根据标准判定为不合格缺陷。经查证,安装公司与第三方公司均采用双壁单影的透照工艺,仅曝光次数不同,就产生了不同的评定结果。现场打磨过程中,发现焊缝中缺陷位置如下:从焊缝表面向下10mm~13mm深有3个夹渣,最大3mm,最小lmm左右,且不在同一深度;深度15mm左右,有一长夹渣为8mm,还有少量点状夹渣,但深图1模型示意图TOFD检测对近表面的检测可靠性差,需要采

5、参考文献:用相控阵或手工超声波和磁粉检测或进行补充检[-I~JB/T4730—2005承压设备无损检测.测;对缺陷定性TOFD检测不及射线检测;TOFD[-2~NB/T47013—2010衍射时差法超声波检测.图像识别和判读比较困难,数据分析需要经验丰富[-3~TSGGO001—2012锅炉安全技术监察规程.的人员。而射线评片相对简单。[4]衍射时差法(TOFD)超声检测.兰三l-————————兰全竺竺墨兰测结果的影响2衣z是射线检测CIVA仿真结果数据表,从。2-3曝光次数最优化分析可以看出

6、,按照RCC—Ml级焊缝验收时规格为~273mmX25曝光4次时,底片缺陷显示合格当曝光,’.,竺’委用壁单影法进行透照时4mm的管道对接焊:、兰.次时,底片缺陷显示不合格。图5是射线,最少曝光由式(1)求出:CIVA仿真曝光次数及曝光时间对检.,N::—180~1影响,从图中可以看出—,当缺陷显示评定区域边缘位置时,对处在不同深a—O+r/J邻缺陷在底片上成像的间距有较大1+(K~-1)T=c。s——/Do)}(1KJ竺变缓距变小,且缺陷间距变化率减小,曲线;随着曝光时间的增加7一(sin)/

7、,底片黑度式中a~与弧AB对应的圆心角。篓小力口。l可.知,曝光5、6、7、8次时,由于缺陷问,;,间距小于较小缺陷长度的6倍影像最大失真角,。;竺问二=缺陷二视为一个缺陷,并加上两缺,有效半辐射角,。;距,因此判定为不合格⋯~K~透照厚度比;。丁~工件厚度;类别曝光次数当F—D时,一20,根据公式(1)可以得出缺~-gv度(rnm透、一照.、5.6.7、8次时,影像最大失真角分缺陷间距d(ram)。815。、129。一、.次透照长度(mm):or}、、l1.25。,随着曝光次数黑度有效半辐射角

8、和影响失真角减::厚度比K减小,同时横向裂纹检出角‘也曝光时间(s)22O27533038544O评定结果金——塑—————至——鱼—堕至全塑不合格不合格————二—=二一⋯_I』,f’口甘:结合表2的数据和图5可知,随着曝光次增加,一次透照长度和缺陷间距的变2507_透照长摩●鲤睁阃距10蛾’取大矢真角的变化率也减小,尤其是大于出匿5otr:萎次曝光后;另外实际透照中应选择较大的诱日魍oot蓦免降低检测效率,综合考虑50~曝光,选择6次1.0【.一2最佳。~456———0曝光次数[1lRCC-

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