有关物质检查方法学验证标准操作规程.doc

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1、有关物质(包括已知杂质)检查方法验证标准操作规程1.目的为保证检测工作的可靠性和可重现性,在未知样品的检测前必须对检测方法进行验证以证明所采用的检测方法适合于相应的检测要求。2.范围建立药品质量标准时、药品生产工艺变更时、制剂组分发生变更时、原分析方法修订时均应进行有关物质检测的方法学的验证。3.责任人检测员、项目负责人、各级项目经理:要求系统、全面验证含量测定方法并记录整理验证数据。4.程序4.1验证内容:杂质检测方法的建立基于方法学研究,主要包括专属性试验、检测限试验、溶液稳定性试验等内容,如果定量检测杂质则需进行线性、精密度、稳定性、重现性及回收率等试验,从不同的角度、层

2、面验证分析方法的可行,从而保证药品中的杂质能够有效地检测。4.2杂质检测方法建立验证及可接受标准1)专属性试验主要通过破坏性实验实现。破坏性试验,也称为强制降解试验(stressingtest),它是在人为设定的特殊条件下,如酸、碱、氧化、高温、光照等,引起药物的降解,通过对降解产物的测定,验证检测方法的可行性,分析药物可能的降解途径和降解机制。每项破坏性试验通常包括以下内容:酸降解一般采用0.1mol/L-1mol/L盐酸或硫酸;碱降解采用0.1mol/L-1mol/L的氢氧化钠溶液;氧化降解采用合适的过氧化氢溶液。以上三种试验,为了加快反应或者提高降解强度,必要时可以加热或

3、提高浓度;高温试验通常温度高于加速试验温度的10℃,如50℃、60℃等,对于原料药有时需考虑水溶液或混悬液的降解,或者考虑在不同的pH值条件下的降解;光照试验条件可采用4500LX。破坏性试验的具体条件,与具体药物密切相关,需结合具体药物的特点,选择合适的条件,使药物有一定量的降解,并对可能的降解途径和降解机制进行分析,保证实验的意义。   药物经强力破坏产生的降解产物通常采用色谱法测定,需结合药物和可能降解产物的理化性质,选择不同的色谱方法(HPLC、GC、TLC)或检测器,有时可采用不同分离机理的色谱系统。下面以HPLC法分析降解产物为例,说明在进行破坏性试验时的关注点和存

4、在的问题:   在选定的破坏条件下,药物应有一定量的降解。   虽然不是每一种破坏性条件都使药物产生降解产物,但一般情况下,很少有一种化合物对每一种破坏性试验条件都稳定,因此,可以通过试验,选择合适的条件,如提高酸、碱、氧化的浓度或者通过加热等,使药物降解。   对于采用HPLC法测定降解产物时,以主成分计算,一般降解10%左右。应采用有效的方法对降解产物进行检测,关注测定的回收量,通常应达到90%左右,证明检测方法的有效性。   对于破坏性试验时降解量较大的降解产物,建议结合稳定性研究中加速试验和长期试验的具体杂质数据,参考ICH对新原料药中杂质的规定(每日服用最大剂量不超过

5、2克时,鉴定阈值为0.10%;每日服用最大剂量超过2克时,鉴定阈值为0.05%。),必要时进行定性分析,并作为已知杂质,根据安全性数据,采用已知杂质对照,确定合理的限度,订入质量标准。不能采用已知杂质进行对照时,可通过测定降解产物、主成分在测定波长处的吸收系数,分析两者的差异。若两者吸收系数相差较大时,建议采用响应因子校正后进行有效控制;如果两者吸收系数相差较小,建议采用自身对照法或峰面积归一化法进行有效控制。药物进行破坏性试验时通常降解为小分子物质,但也有发生聚合,形成聚合物,如β-内酰胺类抗菌药物,在高温或高湿时有可能产生聚合物,故应采取有效方法进行检测。   在这方面应避

6、免的主要问题是:(1)主药完全降解,无法对降解产物进行有效检测;(2)由于选择的降解条件强度不够,使药物未能降解,而误认为药物稳定;(3)不能选择合适测定方法,测定降解产物,使主成分降解后测定的回收量偏低;(4)未考虑破坏性试验时产生的聚合物;(5)选择的色谱流动相不合适,在图谱中有干扰峰。    分离度与峰纯度分析   破坏性试验产生的降解产物的个数比较多,采用HPLC法测定时,需考虑主成分与降解产物之间、降解产物相互之间的分离度,保证降解产物峰与主峰、降解产物峰之间有良好的分离度。另外,对于原料药,分离度符合要求也应考虑到主药与起始原料、各合成中间体是否有良好的分离度;对于

7、制剂,应注意辅料、辅料降解产物的干扰。色谱条件的确定通常以最难分离的两个降解产物或降解产物与主成分之间的分离度符合要求作为依据之一。鉴于降解产物检测时对分离度要求高,故推荐色谱分析时采用梯度洗脱,以有效分离降解产物。   与分离度密切相关的是峰纯度分析。检测峰纯度通常采用二级管阵列检测器或者液质连用技术分析测定各色谱峰的纯度,说明在主峰中、各降解产物峰中有没有包含其它峰。简单地通过观察峰形判断峰的纯度没有说服力。对于创新药物的破坏性试验来说,峰纯度分析非常重要,一是可以了解降解产物的特性;二

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