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《Cu薄膜结构及形貌的影响-论文.pdf》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在行业资料-天天文库。
1、中国科学:物理学力学天文学2013年第43卷第1期:48—53《中国科学》杂志社SCIENTIASINICAPhysica.Mechanica&Astronomicaphys.scichina.comSCIENCECHINAPRESSCr缓冲层对SmCo/Cu薄膜结构及形貌的影响方庆清①②,张启平①②,王伟娜①②,李金光①②,张瀚铭①②,丁琼琼①②,吕庆荣①②,刘艳美①②,王璨①②①安徽大学物理与材料科学学院,合肥230039;②安徽大学光电信息获取与控制教育部重点实验室,合肥230039联系人,E—mail
2、:physfangqq@126.com收稿日期:2012—02—19;接受日期:2012—10.23教育部高等学校博士学科点专项科研基金(编号:20093401110004)~安徽省教育厅重点科研基金(编号:20110114177)资助项目摘要研究了不同厚度SmCo薄膜的结构以及cr缓冲层对SmCo/Cu薄膜结构、形貌及性能的影响.结果表明,对于较厚的SmCo薄膜,延长退火时间可有效提高样品的结晶度;Cr缓冲层能够提高样品表面的平整度,降低SmCo平均晶粒尺寸,增强SmCo(O02)~射峰与Cu(1l1)衍射
3、峰强度之比(尺),从而提高样品的磁性能.同时发现,SmCo/Cu薄膜的磁性能可以通过调节Cr缓冲层厚度进一步得到优化,其中通过调控缓冲层厚度提高值,形成Cu(111)与SmCo(002)织构,是提高SmCo5/Cu薄膜磁性的关键所在.关键词SmCo薄膜,缓冲层,织构,形貌PACS:68.37.Hk,75.50.Vv,75.70.一i,81.15.一Zdoi:】0.】360/】32012.】57SmCo稀土永磁材料因其优异的磁性能而受到磁性层厚度、沉积温度以及晶粒的尺寸都会影响其结广泛关注.高居里温度(Tc)以
4、及良好的抗腐蚀性能构及性能9,10].Zhang等人¨报道了钽(Ta)种子层可(与CoCr合金相当)使得SmCo在高温以及其他特殊以降低Cu层的不平整度,提高SmCo/Cu薄膜的矫顽环境中也有良好的应用前景⋯.近来,许多学者通过力.Kato等人[9的研究表明铷(Ru)层也能细化cu层的物理和化学方法制得了SmCo薄膜l2】.在高性能晶粒,从而获得高度织构化的SmCo薄膜.SmCo薄膜的制备过程中,衬底材料以及沉积温度是本文采用铬(Cr)作为SmCo/Cu薄膜的缓冲层,非常重要的因素l6】.Ohtake等人[7
5、l用分子束外延法在就不同厚度SmCo薄膜的结构以及cr层对SmCo磁Cu衬底上制备了SmCo的垂直各向异性膜,并通过性层结构、形貌及性能的影响进行了深入研究.研究高能电子衍射法研究了SmCo薄膜的生长方式.发现,加入Cr层之后,促进了薄膜晶粒细化,样品的Sayama等人l8用直流磁控溅射法在cu衬底上制备出矫顽力得到了改善,当Cr层厚度控制在3nm时,垂垂直各向异性的SmCo薄膜,并且研究了Cu底层厚直膜面矫顽力HcJ_可控制在850Oe(1Oe=79.577A/m)度对SmCo结构及性能的影响.对于SmCo
6、薄膜而言,左右,适合于垂直磁记录材料的应用.引用格式:方庆清,张启平,王伟娜,等.Cr缓冲层对SmCo/Cu薄膜结构及形貌的影响.中国科学:物理学力学天文学,2013,43:48_53FangQQ,ZhangQP,WangWN,eta1.EffectsofCrbufferlayeronthestructureandorphologyofSmCo/Cuthinfilms(inChinese).SciSin—PhySMechAstron,2013,43:48-53,doi:10.1360/132012—1570∞
7、0∞0∞O∞O加中国科学:物理学力学天文学2013年第43卷第1期1实验研究结晶度.这与Morisako等人l】的研究结果一致.我们用扫描电子显微镜(SEM)观察了SmCo(x样品的制备采用纯度为99.99%的Sm,Co,Cu和nm)/Cu/Crfynm)薄膜的形貌,如图2(a)一(d)所示.图Cr金属靶材.采用脉冲激光沉积法(PLD)在玻璃衬底2(a)一(c)中样品退火时间()是30min,图2(d)中样品上制备SmCo(3onm)/Cu/Cr(0,1,2,3,5nm)#HSmCo退火45min.图2(a)
8、和(b)中的薄膜样品表面平整,平均(25,30,45,60nm)/Cu/Cr(3nm)薄膜,所有样品中Cu晶粒大小分别为25nln和20nnl左右.这比Speliotis底层厚度均为100am.靶材与基片距离d=50mm,等人Il在450。C制备的SmCo/Cr晶粒尺寸(100--400激光能量Epulse=190mJ/pulse,频率f=8Hz,本底真空nm)要小的多,表明Cu底层比Cr底层上制得
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