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1、退火温度对Mo薄膜微观结构及形貌的影响曹德峰1,2,邢丕峰1,韦建军2易泰民1杨蒙生1,郑凤成1,李朝阳1，谢军11.中国工程物理研究院激光聚变研究中心，绵阳6219002.四川大学原子与分子物理研究所，成都610065[摘要]采用直流磁控溅射技术，制备了厚度为3.8μm的Mo薄膜，并对其在不同温度下进行了退火处理。采用白光干涉仪和SEM对Mo薄膜进行了表征，讨论了不同温度对薄膜表面形貌的影响；利用XRD对M薄膜的结构进行了分析。结果表明：随着退火温度由450℃升高到1050℃，晶粒平均尺寸逐渐增大，微曲应力
2、呈减小趋势；在温度高于900℃时，薄膜发生再结晶，同时表面有微裂缝及大量气孔出现；薄膜的表面粗糙度随退火温度的升高有逐步增大的趋势。Mo薄膜；微观应力；退火温度TG174.444;O484A1001-3660(2011)06-0085-03InfluenceofAnnealingTemperatureonMicrostructureandMorphologyofMoFilmsCAODe-fengXINGPi-fengWE1Jian-junYITai-minYANGMeng-shengZHENGFeng-che
3、ngLIZhao-yangXIEJun2011-08-242011-10-17曹德峰（1982-），男，山西朔州人，硕士生，主攻金属薄膜的制备。邢丕峰（1963-），男，山东冠县人，博士，研究员，主要研究方向为金属薄膜。散能力@@[1]黄秀光,罗平庆,博思祖，等.一种激光驱动高压状态方程绝对测量方法的探索[J].物理学报,2002,51(2)：337.@@[2]李三伟,易荣清,蒋小华，等.神光Ⅲ原型lns激光驱动黑腔辐射温度实验研究[J.]物理学报,2009,58(5)：3255-3261.@@[3]ROTH
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