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1、4磁记录材料99年第7期·工艺技术与设备·影响涂布均匀性的因素及改进措施乐凯磁带厂锁亚强高和平俞新荣刘志谊欧阳灶文磁带涂布生产线经长年运行,机械磨损、电气老化,会造成涂布均匀性的明显,。下降因此涂布机老化问题已成为影响磁带宽片涂布质量的重要因素本文重点讨,。论了如何采取措施来提高老涂布机的涂布均匀性,。米按图1所示取样两侧各取10点I、侧一前言我国80年代陆续引进了几十条磁带生,!0!.
2、I1l
3、l产线。这些设备经长年运行,设备进人了老,二,`Un0l2,。化期涂布均匀性明显下降涂布均匀性对不同的带种有不同的影响。本文以高速复录带受涂布均匀性的影响为例,说明
4、高速复录带厚度均匀性变化和315Hz灵敏度曲线与,涂布均匀性的关系并进一步讨论改进措施孟,及实施效果。、二涂布均匀性缺陷及检则方5腼m50mm法图1取样图高速复录磁带是用于高速(带速为标准:I侧一磁带宽片收卷方向左侧带速的64倍)复录的磁带。高速复录磁带的.侧一磁带宽片收卷方向右侧低频信号频率低、波长长,需要整个涂层记(3)测试结果(表1)录。涂层厚度均匀性对低频信号影响较大。高1可以:(l从表看出)涂布小样厚度极速复录磁带的高频信号频率高、波长短,只差0.拜m,S平均达85与平均厚度又相比达,、需涂层一部分记录因此涂层表面的平整度,20%说明涂布均匀性较差
5、;(2)涂布小样光洁度是影响高频信号的主要因素。涂层厚、。I侧I侧极差不同其中l侧比I侧厚度。度均匀性对高频信号影响较小极差高O·2拼mo高速复录磁带在高速复录时,带速是标..235Hz灵敏度曲线。离速复录带的准带速的64倍记录曲线能反映大周期的(1)测试仪器:信号发;生器电平记录,变化能反映标准带速下很难反映的周期性。仪,变化因此涂布均匀性缺陷主要表现在以下.(2)测试方法:磁带走带速度30446两点。。mm/s;记录走纸速度lmm/s1.涂层厚度均匀性:3(3)测试结果测试得出高速复带15:。(1)测试仪器数显立式光学计。Hz灵敏度曲线(图2)(劝测试卞
6、浩.楠取涂杆的磁带帘夕.5片1年99第4期磁记录材料表涂l布厚度测.结果(改进前)测量厚度测量值样品部位1423891XI侧..4.94.4.44.8.2..14.9.84.92廿1I侧4.9.4.84.4.4.44.2.1.4.2.14.工侧I侧4.4.84.4..94.4.4.4.34.3.94.42z23图高速复录带H1灵敏度曲线(改进前,从图可以看出(l)315Hz灵敏度变2磁浆含固量等因素设定涂布辊与计量辊之间.化幅值达14dB;(2)315Hz灵敏度变化呈的间隙。(以下简称C值)对于高速复录带的。,。周期性变化涂布一般设定C值为5一65拜m在静止
7、,、一点测量C值是不变的但当涂布机高速运三影响涂布均匀性的主要因素,、转时C值的变化大小主要取决于涂布辊计及改进措施。量辊的跳动值辊的周期性跳动直接造成磁。反向三辊涂布方式涂布厚度可由下式近带315Hz灵敏度曲线呈周期性的变化而辊似表示:。的跳动也是由多种因素影响所致、,..V(l)涂布辊计量辊的真圆度降低直KC导(1)。。H-TJ2(V+V)接造成辊的跳动测试数据如表所示二.Vs表2涂布辊与计.辊跳动.测试表(改进前);式中H压光前的干涂层厚度C涂布辊与计量辊之间的间跳动量隙;侧2拜m涂布辊VT;l拜m涂布辊的线速度VB—背辊的线速度;计量辊5拜mVJ—计
8、算辊的线速度;10拜m—K干燥后的磁层涂布厚度与干—。、、。燥前的磁层涂布厚度之比涂布辊计量辊的I侧I侧方向相同,、T、B、J,、从公式中不难看出CVVV及从表2可以看出涂布辊计量辊跳动。,、。K值是影响厚度的主要因素量之和I侧为7拌mI侧为11“m与涂1.涂布辊与计.辊之间的间隙对涂布层I侧、I侧厚度极差相对照,趋势是一致均匀性的影响的。因此,辊的真圆度变化直接影响涂层厚,、、每次涂布前都要根据涂层厚度速比度极差的变化。磁记录材料1年99第4期,.通过对数据分析:2可以得到结论如下式三个辊的速度变化对涂布均匀性的影响两辊动量之和一XS由涂层厚度公式可知,厚
9、度的变化与涂尧(2)C布辊线速度VT)、(以下简称背辊线速度(以VB)、VJ)的;下简称计量辊线速度(以下简称式中S厚度极差。—。变化有直接关系涂布机机头三个辊速度精灭平均厚度.。,—。由于C值、叉值相对不变,因此厚度极度一般设计为05%由于涂布机长年运行。差、涂布机三个辊的速度精度下降很多S主要受涂布辊计量辊的跳动量的影,:。()l正常运行中三个辊的速度精度为响..。二。;。;。161618涂布辊、计量辊真圆度涂布辊%背辊%计量辊%下降的原因是由,,、于两个辊长时间运转而发生磨损的缘故。既从以上数据看除涂布辊外背辊计2。量辊的速度低于设计精度0一30倍然知
10、道了辊的真圆度下降是影响厚度均匀性(。VT、VB、V
