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时间:2020-03-26
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1、化工设计通讯工业生产第42卷第2期ChemicalEngineeringDesignCommunicationsIndustrialProduction2016年2月三氯氢硅生产现存问题及发展前景高志明(亚洲硅业(青海)有限公司,青海西宁810007)摘要:随着我国经济的快速发展,尤其是电子产品市场,光纤通讯市场的扩大化,使得SiHCl3的发展速度迅速提升。但是由此带来的SiHCl3项目的盲目扩建,又为SiHCl3的发展带来了一定的挑战和风险,因此,研究SiHCl3生产现存问题及发展前景有很大必要。关键词:SiHCl3;生产工艺;存在问题;发展趋势中图分类号:
2、TQ127.2文献标志码:B文章编号:1003-6490(2016)02-0117-02TheExistingProblemsandDevelopmentProspectofTrichlorosilaneProductionGaoZhi-mingAbstract:WiththerapiddevelopmentofChina’seconomy,especiallyintheelectronicsmarket,expansionoffiber-opticcommunicationsmarket,maketrichlorosilanespeedrapiddevelo
3、pmentofSiliconimproved.ButtheresultingblindexpansionoftrichlorosilaneSiliconproject,andtrichlorosilanesilicondevelopmentpresentssomechallengesandrisks,therefore,trichloromethylcyanideproductionproblemsanddevelopmentprospectsareverynecessary.Keywords:trichlorosilanesiliconproduction;
4、problems;trends将从SiHCl3的生产技术入手,然后从SiHCl3的生产中存会对环境产生极大危害,且会使排放地或掩埋地寸草不生。在的问题进行分析,揭示出SiHCl3的发展趋势,对SiHCl3进总之,生产SiHCl3时会遇到诸多问题,发展也不太稳定,行深入研究。生产过程中的废物利用问题和排放的污水以及尾气回收问题1SiHCl3的生产工艺也急需得到解决。只要我们共同努力,善于发现并解决问题,SiHCl3的生产大多采用沸腾氯化法,主要包括HCl合成,SiHCl3的发展一定会越来越好。SiHCl3合成,SiHCl3精制等工序。Cl和H在HCl合成炉内通3
5、SiHCl3的发展趋势过燃烧反应生成HCl,HCl气体经空冷,水冷,深冷和酸雾捕SiHCl3是一项新型且独特的化工材料,其应用范围遍布国集脱水后进入HCl缓冲罐,然后送到SiHCl3合成炉中。硅粉防,国民日常生活,具有较高的产业价值。SiHCl3是生产有经过干燥后加入到SiHCl3合成炉,与HCl在300℃左右的高温机硅烷偶联剂的重要原料,将SiHCl3与聚乙烯进行合成反应,下反应,生成SiHCl3和SiCl4生成的粗SiHCl3气体经过旋风分经过蒸馏提纯,得到硅烷偶联剂系列产品。这些产品几乎与离和除尘过滤后,进入到列管冷凝器后进行水冷和深冷,不每一种材料都有
6、关联,包括热固性材料,热塑性材料,密封凝气通过液封送入尾气洗涤塔,处理后达标排放,冷凝液蒸剂及一些无机材料,在太阳能,玻璃纤维,树脂材料等方面馏塔分离提纯,通常采用二塔连续提纯,一塔塔顶排低沸物,具有重要作用。二塔塔底排高沸物SiCl4,同时塔顶出SiHCl3产品。我国的有机硅产业发展开始于20世纪50年代初,90年代2SiHCl3生产中存在的问题时开始普及,有机硅生产厂家快速增加,国内对硅烷偶联剂近年来,中国的飞速发展,其中包括化工业,有机硅产产品的需求也迅速增长,于是对SiHCl3的需求也不断扩大。业,电子产品等行业的快速发展,为三氯氢硅的生产和带动有机硅
7、的生产企业可根据自身特点,充分利用能源,原辅材周边产品的发展提供了巨大的市场空间和机遇。从发展情况产业的发展和国内相关政策,尽力发挥自身地域、人才优势,来看,发展初期其生产能力较低,生产企业较少,而如今随理性的生产该产品,这样才能在未来的发展中占据有利地位,着SiHCl3行业的不断升温,其生产能力必将大幅度提升,生更快更好地发展SiHCl3产业。产企业也会逐渐增多,可是关于SiHCl3的生产还是存在诸多近些年来,经过SiHCl3行业技术人员的不懈努力,企业问题。也加强技术攻关,同时采用先进的生产技术,并努力提高产在SiHCl3的生产过程中,大多数厂家处理SiC
8、l4的方法是品质量,做到尽量不伤害我们
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