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时间:2020-03-25
《萘基桥联有机-无机杂化介孔材料的合成及其光学性质.pdf》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在行业资料-天天文库。
1、物理化学学~(WuliHuaxueXuebao1MarchActaP.一Chim.Sin.2013,29(3),639-645639[Article]doi:10.3866/PKU.WHXB201212201、)l,、.whxb.pku.edu.cn萘基桥联有机一无机杂化介孑L材料的合成及其光学性质崔小燕韩书华孙元元王莎莎邱晓勇高萌(山东大学,胶体与界面化学教育部重点实验室,济南250100)摘要:以短链阳离子三聚表面活I~U[coHN(CH。)z(CHz)zN(CH。)(CHz,)(CHz)zN(CH。)zC,oHz小3Br-为结构导向剂,通过2,7
2、.二(3.三乙氧硅基氨丙酯基)萘(NIS)和四乙氧基硅烷(TEOS)共缩聚,制备了有序的萘基桥联的杂化周期性介孔有机硅(PMOs).样品通过X射线衍射(XRD)、高分辨透射电镜(HRTEM)、氮气吸附一脱附、差示扫描量热/热重分析(DSC/TGA)表征.结果表明,当NIS占NIS和TEOS总量40%(摩尔分数)时,可以形成具有结晶态孔壁的有序介孔杂化材料.当NIS含量低于或高于40%时,分别形成无定形孔壁的有序介孑L杂化材料和无孔杂化材料.随着孔壁中萘基基团的增加,由于有机基团之间丌一丌堆积作用增强,杂化介孔材料显示良好的热稳定性.由于在二氧化硅骨架中
3、嵌入荧光萘基基团,杂化有机一无机有序介孔材料显示了激基缔合物的光学行为.随萘基基团含量的增加,杂化材料的紫外吸收峰发生蓝移,形成H聚集体:由于聚集引起的荧光淬灭,杂化材料的荧光量子产率明显降低.关键词:有机一无机杂化材料:2,7-二(3--7,氧硅基氨丙酯基)萘:三聚阳离子表面活性剂:荧光桥联有机硅烷前驱体中图分类号:0648SynthesisandOpticalPropertiesofOrganic-InorganicHybridMesoporousMaterialswithNaphthaleneBridgingGroupsCUIXiao—YanHA
4、NShu.HuaSUNYuan.YuanWANGSha—ShaQlUXiao—YongGAOMeng(KeyLaboratoryofColloidandInterfaceChemistryofMinistryofEducation,ShandongUniversity,Jinan250100,R.China)Abstract:0rderednaphthalene.bridgedhybridperiodicmesoporousorganosilicas(PMOs)weresynthesizedbyCO-condensationof2,7一bis(3-tr
5、iethoxysilylpropylaminocarbonyloxy)naphthalene(NIS)andtetraethoxyorthosilane(TEOS)usingcationictrimericsurfactant【Cl0H2~N(CH3)2(CH2)2N(CH3)(CloH2,)-(CH2)2N(CH3)2C10H21】.3Brasastructure-directingagent.TheresultingsampleswerecharacterizedbypowderX—raydifraction。highresolutiontrans
6、missionelectronmicroscopy,nitrogenadsorption-desorption,anddifierentiaIscanningcalorimetry/thermogravimetricanalysis.Orderedmesoporoushybridmaterialswithacrystal-likeporewalIformedwhenthemolarratioofNIStothesumofNISandTEOSwas40%.WhenthisvalueiSbeloworabove40%.Orderedmesoporoushy
7、bridmaterialswithamorphousphaseintheporewalls,andnonporoushybridmaterialsareobtained,respectively.Asthenumberofnaphthylgroupsintheporewallsincreases.thethermaIstabilityofthehybridmaterialsiSenhancedlhroughthestrong丌一丌interactionsbetweenorganicgroups.Becauseofthefluorescentnaphth
8、ylgroupsjnthesilicaframework,thePMOsexhibitopti
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