金属有机化学教案3.ppt

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1、第四章第14族金属有机化合物一般特点与第13族元素比较，第14族金属形成的E-C键具有更低的极性，它们形成MR4具有八隅体结构。没有通过2e3c烷基或芳基桥联的倾向。MR4也常常是空气和水稳定的(与相邻的两族元素的化合物如AlMe3或PMe3不同)。E-C键的性质倾向：中国科学技术大学中国科学技术大学一、有机硅化合物1、四配位硅化合物制备方法由于有机硅化合物在工业上的应用十分广泛，所以一般简单的有机硅化合物工业上已经生产。氯甲基硅烷在工业上可以通过直接法(RochowMuellerprocess)生产：

2、中国科学技术大学CC键和CSi键的键能很接近：[D(CC)=334,D(SiC)=318kJ/mol]所以可以预料硅的有机金属化合物具有很高的热稳定性。四甲基硅的CSi键的断裂只有在700℃以上才能发生(Ph4Si可用作为高温加热油浴)。四苯基硅在空气中430℃蒸馏也不会分解。由于SiC键的极性较小，发生异裂反应的可能性较小。Si-C键断裂的容易程度：性质中国科学技术大学与Si-C键断裂有关的反应中国科学技术大学更多例子：中国科学技术大学中国科学技术大学中国科学技术大学不涉及Si-C键断裂的反

3、应水解聚硅氧烷：骨架结构，可以将它们分为有机硅油、有机硅弹性体(硅橡胶)和有机硅树脂。由于有机硅烷具有许多出色的特性，它们在现代生活和工业技术中发挥着巨大作用。它们的优点包括：高热稳定性，抗腐蚀性，较小的温度粘滞系数，出色的介电性能，止泡性，疏水性以及生理上的无毒性。所有这些使得它们的应用十分广泛。中国科学技术大学含Si-N,Si-S键的有机硅化合物中国科学技术大学线型的(-R2Si-NR-)n不容易得到，因为很易成环(尤其六员环)，例如：中国科学技术大学2、二和三配位硅化合物（1）二配位硅化合物R2Si

4、:，Silylene，类似于卡宾，不稳定，一般不能单独存在，形成后很快形成聚合体：也可以通过trap方法证明其存在：中国科学技术大学一个比较特别的silylene是Cp*2Si:，它热稳定，但极其空气敏感：90年代，两类稳定的silylene被报道：中国科学技术大学（2）三配位硅化合物含有Si＝E键的化合物Si＝E键(E=O,C,Si等)均不稳定，容易发生聚合等：中国科学技术大学1981年A.Brook制得第一个在室温稳定的含Si=C键的分子：中国科学技术大学1984年制得如下化合物：1999年报道下列反

5、应：中国科学技术大学含Si=Si化合物1981年首次报道：Si=Si化合物有较高的反应活性：中国科学技术大学R3Si中国科学技术大学R3Si•也是锥形结构，远比R3C•活泼。R3Si＋存在不是很普遍，举例：中国科学技术大学二、有机锗化合物有机锗化合物没有实际用途，研究不多。主要是学术兴趣。Ge是semi-metal，电负性与C、H最接近，因此Ge-C和Ge-H键的极性及其反应性都极大地受取代基影响。1.四配位锗化合物制备中国科学技术大学中国科学技术大学性质和反应这种GeMe3的1,2-迁移比SiMe3的

6、迁移快，原因是Ge-C键比Si-C键弱。中国科学技术大学RnGeH4-nGeH上的取代基可使Ge-H键的极性发生反转：中国科学技术大学RnGeH4-n和XnGeH4-n最重要的反应是氢化反应：中国科学技术大学2.二和三配位锗化合物二和三配位锗化合物与低配位数的Si化合物类似。但本族元素从上到下(周期表)低价态越来越稳定。这些化合物都不能直接分离出来(由于反应性太高，形成聚合物或加合物。)中国科学技术大学用bulky配体能分离出室温稳定的二配位锗化合物：环戊二烯基锗Cp2Ge是monomeric，容易形成C

7、5H5桥联的多聚体(比Sn和Pb类似物容易得多。)(C5Me5)2Ge在HBF4作用下脱去一个配体，产生(C5Me5)Ge+:(C5Me5)Ge+与CpIn是等电子体。中国科学技术大学R3GeR3Ge•分析其esr谱，认为其具有锥形结构中国科学技术大学Ge=C双键Ge=C双键有很高的反应性，通常进一步聚合成稳定化合物：中国科学技术大学有适当的配体存在可能分离得到,例如：Ge=Ge化合物中国科学技术大学三、有机锡化合物1、配位数4,5,6的有机锡化合物这个反应只对那些含酸性H的底物。中国科学技术大学锡比较

8、亲硫。R4Sn能与单质硫反应：Sn-C键能被卤素或HX断开：中国科学技术大学其他制备有机锡的方法：Me2SnCl2Me2SnF2Me3SnF中国科学技术大学有机卤化锡的反应中国科学技术大学中国科学技术大学中国科学技术大学RnSnH4-n主要反应方式：中国科学技术大学中国科学技术大学中国科学技术大学中国科学技术大学2、配位数2和3的有机锡化合物R3Sn中国科学技术大学R3Sn•是锥形结构，其寿命与R基的大小密切相关，Me3Sn