脉冲激光沉积PLD.doc

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1、脉冲激光沉积PLD      简单来说，脉冲激光沉积PLD(PulsedLaserDeposition)就是脉冲激光光束聚焦再固体靶面上，激光超强的功率使得靶物质快速等离子化，然后溅镀到目标物上。 脉冲激光沉积的优点有：1.由于激光光子能量很高，可溅射制备很多困难的镀层：如高温超导薄膜，陶瓷氧化物薄膜，多层金属薄膜等；PLD可以用来合成纳米管，纳米粉末等2.PLD可以非常容易的连续融化多个材料，实现多层膜制备3.PLD可以通过控制激光能量和脉冲数，精密的控制膜厚。 脉冲激光沉积对激光器的要求有：1.

2、尽可能避免热效应：激光波长越短，越容易实现“冷加工”所以193nm,248nm的准分子激光器和266nm,355nm的高次谐波ND:YAG固态激光器为客户所常用2.大能量，短脉冲创造超过靶材的阈值的功率密度3.比较高的重复频率，提升溅射速度。4.激光器使用简单，寿命长，易于维护（这一点Nd:YAG固态激光器要好于准分子激光器）2/2 先锋公司相关产品 激光光源部分：法国Quantel公司的脉冲Nd:YAG激光器，(链接)推荐型号：1.BrillantB系列：即插即用型3倍频（355nm），4倍频（2

3、66nm）结构；用户使用方便，也是商用PLD系统OEM厂家的选择。2.YG980系列：高能量输出，工作稳定，维护方便。是科研用PLD系统的首选。 测试系统部分：1.等离子体光谱测试系统：英国Andor公司，2.真空腔残余气体分析仪：美国SRS公司RGA200等3.红外热像仪：美国Electrophysics公司PV320等2/2