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《脉冲激光沉积PLD原理及其应用》由会员上传分享，免费在线阅读，更多相关内容在行业资料-天天文库。
1、第!"卷第#期桂林电子工业学院学报$%&’!"()%’#!**"年!月+,-./01,23-414/5/467.849:,2;17<9.,/4<=7<>/,1,?:@AB’!**"CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC脉冲激光沉积DEFGH原理及其应用I唐亚陆#(!(杜泽民JD#’昆明理工大学光电子新材料研究所(云南昆明"K**LJM!’淮阴工学院(江苏淮安!!J**#MJ’淮安军星科技学校(江苏(淮安!!J**#H摘要N脉冲激光沉积薄膜是近年来发展起来的使用范围最广(最有希望的制膜技术O通过从
2、激光与材料相互作用理论出发(分析了激光烧蚀材料等离子体羽辉的空间运动特征与成分分布(以FPQR为对象(对EFG系统脉冲激光沉积薄膜过程中薄膜质量与衬底温度S靶材T衬底距离S氧压S激光脉冲能量S激光频率等参数关系进行了实验研究(得出在单晶衬底上沉积FPQR薄膜的最佳实验参数O同时用UVG衍射谱和WXQ分别对膜的成键情况和表面形貌作了分析(结果表明脉冲激光沉积DEFGH是一种很好的镀膜方法(所制备的膜质量较好O关键词NEFG系统M等离子体M准分子激光M最佳实验参数中图分类号NY)!Z#文献标识码N[文章编号N#**#]ZJ]D!**"H*#**!Z*Z^__14<094,/0/‘a7<>0
3、/48b^/01:848,2c-187‘d087.e7_,8494,/#(!Jfghijklm(nopqrstD#’uvwxywz{wy
4、A}~y!"%#W$yAw$A%w&YA$’w%&%z"(uvwxywz"K**LJ(P’yw%M!’(v%y"yw)w~!y!v!A%#YA$’w%&%z((v%y*%w!!J**#(P’yw%MJ’(v%y+%w,vw-ywzW$yAw$A%w&YA$’w%&%z"W$’%%&((v%y+%w!!J**#(P’yw%H^.89.0<9NEv&~A&&%~A}&A/%~y!y%wy~!’Ax%~!0y&A&"v~A&%w&/}%xy~ywz&A/%~
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13、冲准分子激光制备了高质面6跑7出来(并在其附近形成一个发光的等离子区(量的钇钡铜氧D:9PRH超导薄膜;#<(脉冲激光沉积其温度估计在几千到一万度之间(随后有人想到(若DEv&~A&F%~A}GA/%~y!y%w(简称EFGH技术才成为一能使这些粒子在衬底上凝结(就可得到薄膜(这就是种重要的制膜技术受到国际上广大科研工作者的高激光镀膜的概念O#L"K年(Wxy!’等第一次尝试用激度重视O当前(EFG技术在铁电
