ITO玻璃基础知识1.0.ppt

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1、ITO玻璃基础知识编制：佘光全审核：A版1主要内容一、什么是ITO玻璃；二、ITO玻璃的基本结构三、ITO玻璃的分类四、ITO玻璃的生产工艺流程；五、ITO玻璃的评价参数；六、ITO膜面的判定；七、ITO玻璃的选用原则；八、ITO玻璃使用常见问题；九、ITO玻璃的使用注意事项；十、ITO玻璃的发展方向2ITO(IndiumTinOxid)玻璃简介在普通玻璃的一个表面镀上一层氧化铟锡的导电膜，就形成了LCD常用的氧化铟锡玻璃，通常简称为ITO玻璃。特点：不仅要求导电性能好，而且还要具有玻璃一样高的透明度一、什么是ITO

2、3ITO玻璃的基本结构:基板sio2ITO二、ITO玻璃的基本结构4基板:我公司常用的基板厚度有1.1mm;0.7mm;0.55mm;0.5mm,0.4mm根据材料的不同,通常分为钠钙玻璃和硼硅玻璃两种;LCD行业中较常用的为钠钙型玻璃.优点缺点钠钙型玻璃成本低含有钠、钾等离子,易产生渗透,影响产品性能硼硅型玻璃玻璃硬度高,透过率好成本较高钠钙型玻璃基本成份:成份Al2O3CaOFe2O3MgONa2O+K2OSO2SiO2含量0.5-1.97-120-0.21.0-4.513-150-0.370-73二、ITO玻璃

3、的基本结构5（1）Si02层的作用:主要是防止钠钙型基板中的金属离子扩散渗透到ITO层中,影响ITO层的导电能力.（2）SiO2层的膜厚:标准膜厚一般为250±50埃（3）SiO2层中的其它成份:通常为了提高ITO玻璃的透过率,在SiO2中会掺入一定比例的Si3N4二、ITO玻璃的基本结构Si02层：6ITO(IndiumTinOxid)层:为氧化铟锡的透明导电层,其中I表示In2O3，T表示SnO2,一般Sn（即Tin)的含量约为10%。随着ITO层厚度的增加,ITO层的厚度逐渐减小.通常面电阻与ITO层膜厚的对应

4、关系如下:ITO层厚度(Å)300±50450±50700±1001500±2002000±200面电阻(Ω)8050301510二、ITO玻璃的基本结构7三、ITO玻璃的分类根据基板玻璃表面状态的不同，通常分为以下三种类型：类型说明TN未抛光型直接在玻璃的浮法面进行镀膜HTN简单抛光型/TN精选玻璃将玻璃的浮法面进行简单的抛光后,在抛光面进行镀膜STN超抛光型将玻璃的浮法面进行精细的抛光后,在抛光面进行镀膜8四、ITO玻璃的生产工艺流程ITO玻璃的生产工艺流程主要分为以下三个步骤：（1）切割倒角；（2）抛光；（3）

5、镀膜注：TN型玻璃不需要抛光。生产工艺流程更简单。9ITO玻璃简要生产工艺流程如下：原片来料检验切割磨边倒角清洗检验清洗抛光检查SI02镀膜ITO镀膜检验包装入库四、ITO玻璃的生产工艺流程TN型玻璃不需经此流程10（1）切割磨边的工艺流程：切割磨边倒角清洗检查入库磨边类型及规格要求：通常分为C型和R型两种W0.05mmW0.4mm，45°角W0.2mmW1.2mm曲面半径R50mm四、ITO玻璃的生产工艺流程C型R型11倒角的形状及公差四、ITO玻璃的生产工艺流程12（2）抛光工艺流程：用研磨料将玻璃表面

6、磨平，使玻璃表面平整。对于STN型ITO玻璃是必须经过的一道生产流程倒角后原片抛光清洗检查入库包装四、ITO玻璃的生产工艺流程13（3）镀膜工艺流程：四、ITO玻璃的生产工艺流程14镀膜方法：镀膜的方法有：喷雾法；涂覆法；浸渍法；化学气相沉积法；真空蒸发法；测射法，但目前工业化最有效的方法是磁控测射法。磁控测射法：在高真空反应室中充入一定比例的02和Ar的混合气体，在直流高压下，Ar被电离，在电场作用下轰击靶材，使铟和锡以原子和离子形式溅射出来，沉积在基板玻璃表面，同时被氧化，形成氧化铟锡膜。四、ITO玻璃的生产工艺

7、流程15五、ITO玻璃的评价参数5.1透过率：在波长为550nm的光波照射下，具有SI02阻档层玻璃的透过率不小于80%，其主要取决于玻璃材料、ITO厚度和折射率。透过率定义：透过玻璃的光通量T2与入射光通量T1之比的百分率Tt=T2/T1X100%。目前我公司对玻璃透过率的要求如下：类别10Ω/□15Ω/□30Ω/□50Ω/□80Ω/□透过率Tr≥82%Tr≥83%Tr≥81%Tr≥83%Tr≥87%165.2方块电阻:如图d为膜厚，I为电流，L1为膜厚在电流方向上的长度，L2为膜层在垂直电流方向的长度，ρ为导电膜

8、的体电阻率。ρ和d可以认为是不变的定值，当L1=L2时，为正方形的膜层，无论方块大小如何，其电阻率为定值ρ/d，这就是方块电阻的定义，即R□=ρ/dL2L1dI我公司目前使用玻璃的电阻及要求:类别(Ω/□)≤7≤10≤15≤30≤50≤80ITO阻值标准(Ω/□)5-77-1012-1420-2540-5060-80阻值中心值(Ω/□)6813