CF 曝光机 recipe 制作技术报告.ppt

《CF 曝光机 recipe 制作技术报告.ppt》由会员上传分享，免费在线阅读，更多相关内容在行业资料-天天文库。

1、CF曝光机recipe制作技术报告CFProcessDepartment（制作人）（日期）概述当一块针对新产品的mask投入使用时，我们需要在曝光机上制作相应的recipe。区别于对工艺参数的修改，本报告主要讲述新recipe的制作。对于不同的工序，新recipe的制作过程不一样。但大体可分为两类。BMProcessR,G,BandPSProcess概述不管是BMProcess还是RGBPSProcess，其新recipe制作的基本思路是将其它型号产品正常量产的recipecopy一份，然后修改其部分关键参数

2、，使其适用于新的mask。因此，首先介绍recipecopy的方法。1.进入”Recipe”界面，点击右边的”Copy”概述2.选中来源ProcessNo.之后，点击”Set”3.选中目标ProcessNo.之后，再次点击”Set”。(目标ProcessNo.必须为空白)至此就已经完成了从来源ProcessNo.到目标ProcessNo.的Copy。Process内容修改修改前请先确认ProcessFileNo.Comment,ProductName和PhotoMaskName这三项都属于注释内容，供人阅读。

3、Process内容修改ExposureSequence可选择”First”和”Alignment”，前者用于BMProcess而后者用于RGB&PSProcess。WorkThickness为Glass厚度。其后的LiftPin升降速度一般无需更改。曝光机软件中，保存工艺参数的是ProcessNo.。而RecipeNo.只是ProcessNo.中的一个参数而已，只需要保证与整条PhotoLine的RecipeNo.一致即可。只更改RecipeNo.并不会改变曝光机的工艺参数。Process内容修改PreAli

4、gn.Mode：BMProcess选择CloseRGBPSProcess选择OpenOpen与Close的区别测量补正结束Open：精度差但耗时少Close：测量补正测量结束ToleranceinNG精度高但耗时长Process内容修改Gap设置：Align.Gap与ExposureGap一般是相同的。GapMode必须是CloseProcess内容修改曝光量的设定：ExposureMode：我们一般用积分模式ExposureAmount：设定曝光量。Process内容修改设定Markshutter的Offs

5、etFY和RY一般设置成13.5左右。FX和RX为0如果试曝光的结果表明markshutter未能适当地挡住Gapwindow和markwindow，则请参照下面的markshutter坐标系设定markshutteroffsetX+Y+RearFrontY+X+Process内容修改Manual→ScopePM(检出系PM)中有一个位置是”露光退避位置”，这个位置是计算了Markshutteroffset之后的位置。观察此时Markshutter的位置有助于设置正确的Markshutteroffset。Pr

6、ocess内容修改MaskPress会影响曝光机的TP性能。每台曝光机都有厂家规定的、最合适的MaskPress。必须保证所使用的Recipe中MaskPress为厂家所规定的这个值。如果ProcessCopy的来源是正常使用的量产ProcessNo.，则不更改即可。最后，介绍一下Recipe画面的Save和Set按钮Save：将当前画面的工艺参数按照当前的ProcessNo.保存在计算机硬盘里。Set：将当前画面的工艺参数写入曝光机主控芯片，曝光机将按照这些工艺参数运行。BM专有的内容在First这一页中可

7、以设定FirstOffset以及是否使用MaskAlign.功能对于BM而言，MaskAlign.的功能是必须使用的，否则无法保证BMpattern在Glass上的位置正确。点击”Calc.”按钮可以进入FirstOffset计算界面。正确的顺序应该是先设定好MaskAlign.，再去设定FirstOffset。BM专有的内容MaskAlignment然后，如果来源ProcessNo.已经有MaskAlign.数据，请点击Recipe→mask中的”CancelRegistration”，并点击Save按钮和

8、Set按钮。首先请将Maskload。进入Manual→检出系PM，将检出系所有pulsemotor(FX,FY,FZ,RX,RY,RZ,Alignment驱动系联动)移动至MaskAlignment位置。此时mark可能并不在alignmentmonitor的正中，但也不会差太远(因为这时的MaskAlignment位置不是对应的当前的mask)，需要手动移动镜头，对准mark并调好Z轴焦距(注：