CF制程介绍.ppt

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1、ACD2012年9月目录CF制程简介一CF结构功能介绍二CF制作方式三CF制作流程制程工艺简介ColorFilter彩色滤光片以自然界的三原色进行混色,并调整其亮度(灰阶)来呈现不同的色彩光罩BM玻璃最初开发的方法，是在玻璃基板上先形成酪蛋白等膜，再用染料进行染色的染色法。由于染色法所获膜层的耐光性差，因此这种方法被使用的颜料的颜料法所替代。除了颜料法外还有印刷法。另外，作为新型方法，还有借由浆料喷射形成彩色滤光片的浆料喷射法和有机材料电镀法。（１）着色感材法（２）染色法（３）转写法（４）电着法（５）印刷法（６）INKJET法使用的着色材料颜料染料染料照相蚀刻法光阻着色材料兼用型颜料

2、分散光阻法彩色滤光片转写法图案染色法光阻、着色材料分用型颜料分散蚀刻法光罩染色法染料溶解法印刷法颜料浆料印刷法-----浆料喷射法颜料浆料喷射法染料浆料喷射法有机材料电镀法电沉积法---------加工方法着色方法(1)着色感材法(a)颜料分散法－(DNP)①玻璃基板②涂布・Pre-Bake③露光④现像⑤ColorMatrixＣｒ－ＢＭ（１５００Å）玻璃基板（0.7mm）PigmentDispersionUVCurablePhotoresist(SpinCoating)(Alkalisolution)ITO膜厚；１５００Å着色膜厚：1.5μm(1)着色感材法(b)Etching法－(

3、Toray)玻璃基板ＢＭPositiveResist着色POLYIMIDEPhotomaskＵＶPositiveResist着色Polyimide①玻璃基板②涂布・Pre-Bake③露光④现像・Etching⑤剥离⑥ColorMatrix玻璃基板ＢＭGelatin感材Photo-maskＵＶGelatin感材①玻璃基板②涂布・Pre-Bake③露光④现像（水洗）⑤染色（酸性染料,反应性染料）⑥防染处理（Tannin）⑦ColorMatrix(2)染色法(a)着色感材转写法（富士写真FILM）保护Film着色感材层（２μm）酸素遮断层（1.5μm)Cussion层(10μm)Basem

4、entFilm(帯电防止处理)①CoatedFilm②Laminate(3)转写法玻璃基板ＢＭCussion层酸素遮断层着色感材层PhotomaskＵＶ③露光④现像⑤ColorMatrix(b)溶融转写法(USP5521035/3M)BasementFilm(75μm)光热変换层(4μm)着色感材层(1.6μm)BasementFilm光热変换层着色感材层雷射光①着色CoatedFilm②Laminate・雷射照射③剥离⑤Bake④其余二色转写⑥ColorMatrix(3)转写法NegativeResistＩＴＯ膜玻璃基板Photomask①电极形成②露光③现像④Etching⑤电着

5、(4)电着法①Ink转写②印刷③Leveling④硬化BlanketＰＳ版（Ａｌ）(5)印刷法玻璃基板ＢＭ玻璃基板ＢＭInkJetNozzle①玻璃基板②INKJET涂布③硬化(6)INKJET法(CANON,EPSON)MethodDyingPrintingElectroDepositionPigmentDisp.PhotosensitivePigmentDisp.Non-sensitiveInkJetProcessOpticalCharacter.◎○○◎◎◎HeatResistance△○○○○△LightResistance△○○○○△Smoothness○×◎○○△Reso

6、lution○×○○○△Process△◎△○△◎ＣＦ形成技术的特性比较揺　篮　期成　长　期成　熟　期烂　熟　期Process・生产技术颜料分散法性能改善指针Etching法染色法感材转写法溶融转写法电着法印刷法INK-JET法CF形成技术成熟曲线DyingPigmentdispensingElectrondepositionPrintingColorperformanceExcellentGoodGoodPoorResolution(μm)10-2010-2010-2070-100SurfaceflatnessGoodGoodExcellentPoorHeatresistance

7、(oC)180250250250LightresistancePoorGoodGoodGoodCostHighHighHighLowComparisonofFabricationMethodsofColorFilterColorFilter彩色滤光片以自然界的三原色进行混色,并调整其亮度(灰阶)来呈现不同的色彩CFGlass结构光罩CFProcessFlowBM玻璃照射光ProcessFlow:BMRGB(OC)ITOPSBMPRProcessFlow玻璃