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时间:2019-11-13
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1、一〉 流程: 磨板→贴膜→曝光→显影一、磨板 1、表面处理除去铜表面氧化物及其它污染物。 a.硫酸槽配制H2SO41-3%(V/V)。 b.酸洗不低于10S。 2、测试磨痕宽度控制范围10-15mm,磨痕超过15mm会出现椭圆孔或孔口边沿无铜,一般控制10-12mm 为宜。 3、水磨试验每日测试水膜破裂时间≥15s,试验表明,在相同条件下磨痕宽度与水膜破裂时间成正比。 4、磨板控制传送速度1.2-2.5M/min,间隔1",水压1.0-1.5bar,干燥温度70-90℃。二、干膜房 1、干膜房洁净度10000级以上。 2、温度控制20-24°C,超
2、出此温度范围容易引起菲林变形。 3、湿度控制60-70%,超出此温度范围也容易引起菲林变形。 4、工作者每次进入干膜房必须穿着防尘服及防尘靴风淋15-20s。三、贴膜 1、贴膜参数控制 a.温度100-120°C,精细线路控制115-120°C,一般线路控制105-110°C,粗线路控制100-105°C。 b.速度<3M/min。 c.压力30-60Psi,一般控制40Psi左右。 2、注意事项 a.贴膜时注意板面温度应保持38-40°C,冷板贴膜会影响干膜与板面的粘接性。 b.贴装前须检查板面是否有杂物、板边是否光滑等,若板边毛刺过大会划伤贴膜胶辊,影响使用寿
3、命。 c.在气压不变情况下,温度较高时可适当加快传送速度,较低时可适当减慢传送速度,否则会出现皱 膜或贴膜不牢,图形电镀时易产生渗镀。 d.切削干膜(手动贴膜机)时用力均匀,保持切边整齐,否则显影后出现菲林碎等缺陷。 e.贴膜后须冷却至室温后方可进行曝光。四、曝光 1、光能量a. 光能量(曝光灯管5000W)上、下灯控制40-100毫焦/平方厘米,用下晒架测试上灯,上晒架测试 下灯。b. 曝光级数7-9级覆铜(Stoffer21级曝光尺),一般控制8级左右,但此级数须显影后才能反映出来, 因此对显影控制要求较严。 2、真空度 大于69CMH
4、G,否则易产生虚光线细现象。 3、赶气 赶气须在真空度大于69CMHG以上且赶气力度要均匀,否则会产生焊盘与孔位偏移,造成崩孔现象。 4、曝光 曝光时轻按快门,曝光停止后须立即取出板件,否则灯内余光长时间曝光,造成显影后出现板面余胶。五、显影参数控制 1、温度30±2℃。 2、Na2CO3浓度1±0.2% 3、喷淋压力1.5-2.0kg/cm2 4、水洗压力1.5-2.0kg/cm2 5、干燥温度45~55℃ 6、传送速度显影点50±5%控制六、重氮片 1、重氮片曝光5000W曝光灯管,曝光能量:21级曝光尺1~2格透明。 2、重氮片显影20%氨水、
5、温度控制48~65℃,显影3-7次至线路呈深棕色为止。 3、影响重氮片质量因素及防止 a.线细①由光反射及衍射造成;可用纯黑色不反光平底板垫于重氮片下进行曝光消除此现象。②曝光能量过强;适当降低曝光能量。 b.显影后出现斑点(俗称鬼影)曝光能量不足,适当延长曝光时间。 c.颜色偏淡由以下因素构成①温度不够;待调整温度升至范围值再显影。②氨水过期,浓度降低,更换氨水。③显影时间太短;重新显影2-3遍。④重氮片曝光后放置时间较长;线路部分已曝光,废弃重做。〈二〉常见的故障及排除方法: 在使用干膜进行图像转移时,由于干膜本身的缺陷或操作工艺不当,可能会出现各种质量问题。下面
6、列举在生产过程中可能产生的故障,并分析原因,提出排除故障的方法。1、干膜与覆铜箔板粘贴不牢原因解决办法1)干膜储存时间过久,抗蚀剂中溶剂挥发。在低于27℃的环境中储存干膜,储存时间不宜超过有效期。2)覆铜箔板清洁处理不良,有氧化层或油污等污物或微观表面粗糙度不够。重新按要求处理板面并检查是否有均匀水膜形成。3)环境湿度太低。保持环境湿度为60%RH左右。4)贴膜温度过低或传送速度太快。调整好贴膜温度和传送速度,连续贴膜最好把板子预热。2>干膜与铜箔表面之间出现气泡原因解决办法1)贴膜温度过高,抗蚀剂中的挥发成分急剧挥发,残留在聚酯膜和覆铜箔板之间,形成鼓泡。调整贴膜温度至标准范围内
7、。2)热压辊表面不平有凹坑或划伤。 注意保护热压辊表面的平整,清洁热压辊时不要用坚硬、锋利的工具去刮。3)压辊压力太小。 适当增加两压辊问的压力。4)板面不平有划痕或凹坑。挑选板材并注意前面工序减少造成划痕、凹坑的可能。3>干膜起皱原因解决办法1)两个热压辊轴向不平行,使干膜受压不均匀。调整两个热压辊,使之轴向平行。2)贴膜温度太高。调整贴膜温度至正常范围内。 3)贴膜前板子太热。适当调低预热温度。4>有余胶原因解决办法1)干膜质量差,贴膜过程中出现偶然热聚合。
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