磷-预扩散和再分布

《磷-预扩散和再分布》由会员上传分享，免费在线阅读，更多相关内容在行业资料-天天文库。

1、液态磷扩散工艺以及设备基本操作一．准备工作A.打开总电源，听到报警声后按下主面板上‘消警’，信号灯A/B/C亮。B.打开循环水（北边水龙头开关，不用太大，适当即可）C.检查湿氧瓶中水位是否达到刻度以上（瓶上双面胶标志，一般水位需在双面胶上方），湿氧前十分钟左右需要插电源加热。如图：D.预扩散实验前，需打开半导体源瓶冷阱开关（位于设备左侧靠后下方），设置所需温度（根据扩散要求一般为0度10度）。如图：E．打开气源根据标识打开气气瓶总开关调节氧气瓶减压阀和氮气减压阀压力至0.3Mpa左右，微调设备减压阀（在设备后端气路控制柜正上方），使氧气和氮气压力均为0.2MPa左右，上管

2、氮气（气路控制柜内第三路）以及下管保护氮（气路控制柜内第七路）均使用浮子流量计，需手动调节。F．拧开磷源源瓶上方手动开关（先开出气口，再开进气口）使气路流畅（开关方向见开关上边标志），二、预扩散A．开启设备前面板“净化”开关。B．打开面板上所用炉管的电源开关（向右旋即为开），实验顺序一般先是预扩散（使用炉管2，下管），后是再分布（使用炉管1，上管）。C．开启工控机（计算机），开关位置在前面板右下角锁住的小窗口内的黑色键。D.计算机开启后点击桌面上的“双管磷扩散炉计算机管理系统”快捷图标，进入系统监控软件。A.点击工具栏的第二个图标“开始监控”，计算机开始监控系统的运行情况

3、。F．监控画面中最下方有“状态监控”、“实时曲线”、“参数设置”三个选项卡，可以进行画面的切换。点“参数设置”进行工艺的编辑。G．在“自动工艺参数”内可以打开一个已经存在的工艺或者新建一个工艺，工艺编辑完毕后点“写入PLC”后提示下载成功。此时可以点“从PLC读出”看看读出的工艺是否为自己编辑过的。H.输入工艺参数编号时间温度氮气小氮氧气13秒3000021时40分1050000320分105010.150.35430分105010.150.35510分105010061小时1050000I.如果读出的工艺没错就可以将画面切换到“状态监控”，右旋“运行/复位”开关进入工艺

4、自动运行阶段。J.准备硅片：有机、无机溶剂清洗，冷热去离子水冲洗，PH试纸显示中性,根据硅片尺寸选取石英舟,并在编号2结束前10分钟装入硅片。K.进行试片方块电阻测试，调整工艺参数。L.将清洗好烘干的正式扩散硅片放入石英舟上，在舟上前后装上假片，推入石英管恒温区，进行扩散工艺。M.去除磷硅玻璃，对陪片进行方块电阻、结深、IV特性进行测试。N.对正式片进行再分布扩散。输入以下工艺参数编号时间温度保护N2干氮湿氧13秒3010021时40分1000100330分1000010430分100000155分100001061小时1000100O.对扩散后的硅片进行测试。P.关闭设

5、备电源。C、扩散工艺注意事项1、定时清洗石英管、石英舟，清除管内碎渣和偏磷酸2、防止硅片在高温中炸裂和石英舟摩擦石英管，需要分步慢慢送入和拉出(进舟和出舟)，不能一下推到恒温区，也不能一下来到炉口。3、避免污染炉管，上下管工艺要分开，不能混用。4、在扩散工艺进行前，要保证氮气和氧气有足够的压力。5、再分布时，要保证湿氧发生瓶中的水为瓶的三分之二。