MEMS设计、仿真软件的综合比较

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1、word格式文档《MEMS器件、仿真与系统集成》期中测验（三）（占考试成绩的20%，中英文答题均可，5月30日交电子版。任课教师：陈剑鸣）研究生：（签字）学号：¨MEMS设计、仿真软件的综合比较。（占本课程的20%）。具体要求：1）用表格形式对MEMS常用的软件进行比较。比较的软件四大类：TannerPro（主要是L-edit），HFSS,CoventorWare，IntelliSense，ANSYS2）比较的内容：ü公司、厂家；ü软件的总体描述；ü软件的模块关系（模块组成）；ü按模块来阐述的主要用途；ü按模块来阐述的

2、性能参数；ü软件所做的实例图（分模块）。ü你对此软件（或者是具体模块）的看法和评价，不少于5个模块。作业作答如下：专业整理word格式文档一.TannerPro（主要是L-edit）1.1公司、厂家：TannerResearch公司1.2软件的总体描述Tanner集成电路设计软件是由TannerResearch公司开发的基于Windows平台的用于集成电路设计的工具软件。该软件功能十分强大，易学易用，包括S-Edit，T-Spice，W-Edit，L-Edit与LVS，从电路设计、分析模拟到电路布局一应俱全。其中的L-

3、Edit版图编辑器在国内应用广泛，具有很高知名度。　　L-EditPro是TannerEDA软件公司所出品的一个IC设计和验证的高性能软件系统模块，具有高效率，交互式等特点，强大而且完善的功能包括从IC设计到输出，以及最后的加工服务，完全可以媲美百万美元级的IC设计软件。L-EditPro包含IC设计编辑器(LayoutEditor)、自动布线系统(StandardCellPlace&Route)、线上设计规则检查器（DRC）、组件特性提取器（DeviceExtractor）、设计布局与电路netlist的比较器(LV

4、S)、CMOSLibrary、MarcoLibrary，这些模块组成了一个完整的IC设计与验证解决方案。L-EditPro丰富完善的功能为每个IC设计者和生产商提供了快速、易用、精确的设计系统。TannerToolsPro是一套集成电路设计软件，包含以下几种工具：S-Edit(编辑电路图)专业整理word格式文档T-Spice（电路分析与模拟）W-Edit（显示T-Spice模拟结果）L-Edit（编辑布局图，自动布局布线，DRC，电路转化）LVS（版图和电路图对比）1.3软件的模块关系Tanner数字ASIC设计流程

5、图：1.4各模块的的描述以及实例图1.4.1S-Edit以及范例专业整理word格式文档S-Edit13.0界面S-Edit范例1.4.2T-SpiceT-Spice是电路仿真与分析的工具，文件内容除了有元件与节点描述外，还必须加上其他的设定。有包含文件、端点电压源设置、分析设定、输出设置。1.4.3LVSLVS是用来用来比较布局图与电路图所描述的电路是否相同的工具。也就是说比较S-Edit绘制的电路图与L-Edit绘制的布局图是否一致。需要spc文件和sp文件。1.5L-Edit的使用1.5.1L-Edit画图布局详

6、细步骤打开L-Edit程序，保存新文件。取代设定（File-ReplaceSetup）。环境设定（Setup-Design）。专业整理word格式文档选取图层。选择绘图形状绘制布局图。设计规则设定（MOSIS/OPBIT2.OU）和设计规则检查（DRC）。检查错误，修改（移动）对象。再次进行设计规则检查。1.5.2使用L-Edit画PMOS布局图1).用到和图层包括NWell,Active,NSelect,PSelect,Poly,Metal1,Metal2,ActiveContact,Via.2).绘制NWell图层

7、：L-Edit编辑环境是预设在P型基板上，不需定义P型基板范围，要制作PMOS，首先要作出NWell区域。根据设计规则Well区电最小宽度的要求（10），可画出NWell区。3）.绘制Active图层：定义MOS管的范围。PMOS的Active图层要绘制在NWell图层之内。根据设计规则要求，Active的最小宽度为3。可在NWell中画出Active图层。4）.绘制PSelect图层：定义要布置P型杂质的范围。绘制前进行DRC可发现相应错误。绘制时注意遵守4.2b规则：NotSelectedActive)。绘制时注意

8、遵守4.2b规则：ActivetoP-SelectEdge最小2。同时还要注意pdiff层与NWell层要遵守2.3a(5)。5）.绘制Poly图层：定义成长多晶硅，最小宽度2。6）.绘制ActiveContact图层：源极、漏极接电极需要。标准宽度2。7）绘制Metal1图层：最底层的金属线。专业整理word格式文档使用L-Ed