化学反应速率和化学平衡第3节化学平衡的移动化学反应进行的方向

化学反应速率和化学平衡第3节化学平衡的移动化学反应进行的方向

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时间:2019-07-26

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1、第三节 化学平衡的移动 化学反应进行的方向一、影响化学平衡的外界条件在一定条件下,aA(g)+bB(g)mC(g)ΔH<0达到了平衡状态,若其他条件不变,改变下列条件对平衡的影响如下:【温馨提示】固体及纯液体的浓度是一定值,所以增加或减少固体及纯液体的量,不会影响平衡状态。二、勒夏特列原理1.概念:如果改变影响平衡的一个条件(如______、______、或参加反应的物质的______),平衡向能够减弱这种改变的方向移动。2.适用范围:该原理适用于化学平衡、______平衡、______平衡、______平衡等各种动态平衡。【想一想】改

2、变外界条件能引起化学平衡移动,化学平衡的移动对条件的改变有什么影响?【答案】①平衡移动的结果只能减弱外界条件的变化(定性理解,判断平衡移动方向)。如升高温度时,平衡向着吸热方向移动,从而减弱了温度的升高程度。②这种“减弱”不能抵消外界条件的变化,如原平衡体系的压强为P,若其他条件不变,将体系压强增大到2P,平衡向气体体积减小的方向移动,达到新平衡时体系的压强介于P~2P之间(定量理解)。三、化学反应进行的方向1.自发过程(1)含义:在一定条件下,________就可以自动进行的过程。(2)特点:①体系趋向于从______状态转变为_____

3、_状态(体系对外部做功或者______热量)。②在密闭条件下,体系有从______自发地转变为______的倾向(无序体系更加稳定)。2.化学反应方向的判据(1)焓判据放热反应过程中体系能量______,ΔH____0,具有自发进行的倾向,但有些吸热反应也可以自发进行。(2)熵判据①熵:量度体系____________的物理量,符号____,同一种物质,______时熵值最大,______时次之,固态时最小。②熵判据:体系的混乱度______,ΔS____0,反应有自发进行的倾向,但有些熵减的过程也能自发进行。(3)复合判据只根据焓变或熵变

4、来判断反应进行的方向不全面,应根据综合考虑焓判据和熵判据的复合判据来判断。【温馨提示】过程的自发性只能用于判断过程的方向,不能确定过程是否一定会发生和过程发生的速率(与外界条件有关)。【答案】一、正反应 逆反应 气体体积减小 气体体积增大 平衡不移动 吸热反应 放热反应 平衡不移动二、1.温度 压强 浓度2.溶解 电离 水解三、1.(1)不用借助外力(2)①高能 低能 释放 ②有序 无序2.(1)降低<(2)①混乱(或无序)程度S气态 液态 ②增大>化学平衡的移动【解析】该反应的特点:气体体积增大的吸热反应。升温平衡向正反应方向移动;恒容通

5、入惰性气体,平衡体系中各物质的浓度不变,平衡不移动;增加CO的浓度,使平衡向逆反应方向移动;加催化剂对平衡无影响;恒压通入惰性气体(相当于平衡体系减压)和减压均使平衡向正反应方向移动。因此B项符合题目要求。【答案】B科目一考试http://km1.jsyst.cn/2016年科目一模拟考试题科目二考试http://km2.jsyst.cn2016年科目二考试技巧、考试内容、考试视频1.化学平衡移动的实质与方向(1)实质:化学平衡移动的实质是外界条件(如浓度、温度、压强)破坏了原平衡状态,使正、逆反应速率不再相等,然后在新的条件下正、逆反应速

6、率再次相等,建立新的平衡。(2)方向:当v(正)>v(逆)时,平衡向正反应方向移动;当v(正)<v(逆)时,平衡向逆反应方向移动;当v(正)=v(逆)时,平衡不发生移动。2.外界条件对平衡的影响对于反应mA(g)+nB(g)pC(g)+qD(g)ΔH3.特殊情况压强变化是指平衡混合物体积变化而引起的体系压强变化。如“惰性气体”对化学平衡的影响如下:(1)恒温、恒容时,向原平衡体系中加入“惰性气体”,体系总压强增大了,但平衡混合物中各成分的浓度仍不变,速率不变,平衡不移动。(2)恒温、恒压时,向原平衡体系中加入“惰性气体”,体系体积增大了

7、,体系的分压减小了,混合物中各成分的浓度同倍减小,平衡向气体体积增大的方向移动。①不要把v(正)增大与平衡向正反应方向移动等同起来;②不要把平衡向正反应方向移动与反应物转化率提高等同起来。当反应物总量不变即温度或压强(容器体积)改变导致平衡向正反应方向移动,则反应物转化率提高;当增大一种反应物浓度,使平衡向正反应方向移动时,只会使其他反应物的转化率提高。③同等程度地改变反应混合物中各物质的浓度时,应视为压强的影响。【知识关联】化学平衡的移动与化学反应速率、化学方程式的确定、化学平衡的计算、等效平衡、化学平衡图像等联系。1.(2010高考·福

8、建卷,23(4))氮的最简单气态氢化物甲的水溶液显碱性。(1)在微电子工业中,甲的水溶液可作刻蚀剂H2O2的清除剂,所发生反应的产物不污染环境,其化学方程式为__________

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