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《近紫外区宽带反光镜的膜系优化设计与制备》由会员上传分享，免费在线阅读，更多相关内容在行业资料-天天文库。
1、第38卷第4期光学仪器Vol.38，No.42016年8月OPTICALINSTRUMENTSAugust,2016文章编号：1005-5630(2016)04-0372-05近紫外区宽带反光镜的膜系优化设计与制备姚春龙1>2，宋光辉1，雷鹏1，王银河1，张新敏2(1.沈阳仪表科学研究院有限公司，辽宁沈阳110043;2.沈阳工业大学机械工程学院，辽宁沈阳110870)摘要：依据紫外光学系统中紫外反光镜的使用要求，并结合汞灯发光光谱，提出了只>93%@300〜450nm〇?为反射率）；Tavg>85%@500〜100011111(7^表示平均透过率）的近紫外区宽带高反射率的设计指标。
2、选用Ta205和Si02分别作为高低折射率材料，并采用正交试验法确定了Ta205和Si02膜料的折射率、消光系数和制备工艺参数。在规整周期性膜系的基础上，利用膜系设计软件进行优化设计，同时分析了膜层的敏感度，保证了镀制的可重复性。通过曲线测试和环境试验结果表明，该膜系满足设计使用要求。关键词：近紫外；超宽带；高反射；膜系设计；折射率中图分类号：0484.5文献标志码：Adoi:10.3969/j.issn.1005-5630.2016.04.017Optimizationdesignandpreparationofnearultravioletbroadbandreflectorco
3、atingYAOChunlong1,2,SONGGuanghui1,LEIPeng1,WANGYinhe1,ZHANGXinmin2(1.ShenyangAcademyofInstrumentationScienceCo.,Ltd.,Shenyang110043,China；2.SchoolofMechanicalEngineering,ShenyangUniversityofTechnology,Shenyang110870,China)Abstract：Accordingtotheoperatingrequirementsofultravioletreflectorintheul
4、travioletopticalsystem,andwithmercurylampluminescentspectrum,thenearultravioletbroadbandhighreflectancedesignindexof_R>93%(300〜450nm)andTavg>85%(500〜1000nm)arepresentedTherefractiveindex,extinctioncoefficientandtechnologicalparametersofpreparationofTa2QandSi〇2coatingmaterialsaredeterminedbyorth
5、ogonaltest,withTa2QandSi〇2ashighandlowrefractiveindexmaterials.Basedontheregularperiodiccoating,thecoatingisoptimallydesigned.Meanwhile,thesensitivityofthefilmisalsoanalyzedtoensuretherepeatabilityofcoating.Theresultsofcurvetestandenvironmentaltestshowthatthecoatingmeetsthedesignrequirements.Ke
6、ywords：nearultraviolet；ultrawideband;highreflective;filmsystem；refractiveindex引言近紫外(NUV)是波长范围在300〜380nm的紫外光线M，广泛应用于集成电路液晶显示、晒版、LED、固化、医疗生化等领域。特别是随着微电子等产品的超微细化，在微电子、超精密器件等产品的制造过程中，需要提高成品率的半导体器件、液晶显示元件、光学制品等制造中，紫外线表面处理技术已成收稿日期：2015-09-07基金项目：沈阳仪表科学研究院有限公司科研基金项目（Y1020-6101)作者简介：姚春龙(1978)，男，高级工程师，主
7、要从事光学薄膜方面的研究。E-mail:Challenge2002@126.C〇m第4期姚春龙，等:近紫外区宽带反光镜的膜系优化设计与制备•373•不可缺少的技术手段。而近紫外区宽带反光镜在紫外光学系统中是收集汞灯光源发出的光线、提顯工作表面紫外光照度以及均勻性的重要光学元件。本文针对紫外光学系统中紫外反光镜的使用要求，并结合汞灯发光光谱，提出了反光镜的光谱曲线要求。进而选取Ta205、Si02两种高、低折射率薄膜材料进行镀制，通过正交试验法确定两种薄膜材
