对称性降低的SiO_2_Au核壳结构纳米粒子的制备及其表面等离子共振特性

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1、Feb.2008现代化工第28卷第2期·50·ModernChemicalIndustry2008年2月对称性降低的SiO2/Au核壳结构纳米粒子的制备及其表面等离子共振特性1,32,33张法玲,刘聪,张平霞(1.江苏大学物理系,江苏镇江212013;2.沈阳工业大学物理系,辽宁沈阳110023;3.哈尔滨工业大学应用物理系凝聚态物理研究中心,黑龙江哈尔滨150001)摘要:通过直流溅射镀膜的方法制备了SiO2/Au核壳结构复合纳米粒子,对其结构形貌以及表面等离子共振吸收特性进行了表征。所得到的金复合纳米

2、粒子呈不完全包裹的帽状结构,其等离子共振吸收峰会随着内核粒径及金壳层的厚度不同而在近红外光区产生数百纳米波长范围的移动。这种对称性降低的核壳结构复合粒子敏感的光学特性在近红外光等离子共振领域有应用价值。关键词:溅射;二氧化硅;对称性降低;核壳;表面等离子共振中图分类号:O614.123:O613.72文献标识码:A文章编号:0253-4320(2008)02-0050-04PreparationofreducedsymmetricalSiO2/Aucore2shellnanoparticlesandthe

3、irplasmonicproperties1,32,33ZHANGFa2ling,LIUCong,ZHANGPing2xia(1.DepartmentofPhysics,JiangsuUniversity,Zhenjiang212013,China;2.DepartmentofPhysics,ShenyangUniversityofTechnology,Shenyang110023,China;3.ResearchCenterforCondensedMatterScienceandTechnology,D

4、epartmentofAppliedPhysics,HarbinInstituteofTechnology,Harbin150001,China)Abstract:TheSiO2/Aucore2shellnanoparticlesarefabricatedbythephysicalmetalvacuumsputteringmethod,thencharacterized.Thecompositeparticlesareincompletelyencapsulatedandcap2shaped;theirU

5、V2visibleabsorptionspectrashowthattheplasmonicabsorptionpeakscanmoveinalongwavelengthrangeasbroadasseveralhundrednanometerswhilethediameterofthesilicacoreandthethicknessofthecap2shapedshellvary.Withtheplasmonicresonancepropertyofnear2infrared,suchreduceds

6、ymmetricalnanoparticlescouldbeofsomevalueinapplication.Keywords:sputtering;silicondioxide;reducedsymmetry;core2shell;surfaceplasmaresonance金属纳米材料的表面等离子共振特性是目前的在SiO2纳米球上沉积金膜,制备了SiO2/Au核壳结研究热点之一,其中以电解质为核、以金属为壳层的构纳米粒子,并就SiO2微球粒径的大小和金壳层厚核壳结构纳米材料正引起人们的极大关注和广泛研

7、度对其光学吸收特性的影响进行了研究。究。通过设计和剪裁内核的直径与外壳层厚度的比1实验部分值,可以实现共振吸收峰可调谐的特性,此类复合材料可被广泛应用于传感器、信息存储、生物医学、生111主要试剂[1-7]物光子学、免疫化学等领域。金、银纳米粒子良正硅酸乙酯(TEOS)、无水乙醇(EtOH)、氨水(质好的稳定性、小尺寸效应、光学效应和特殊的生物亲量分数25%水溶液)、双氧水、浓硫酸、二氯甲烷,所和效应,使其成为用作金属壳层的首选材料。目前,有试剂均为分析纯。溅射用的靶材为直径56mm的此类核壳结构复合材料

8、的合成大多都采用湿化学方高纯金靶(99199%),实验用水为通过Millibore系统法,然而在很多情况下,核表面的金壳层覆盖率较低获得的高纯水,其电阻率为1812MΩ·cm。或不均匀完整,并且金属纳米粒子自身成核现象严112制备过程重,而采用真空镀膜的方法,结合纳米尺度的掩膜技对称性降低的核壳结构纳米粒子制备的步骤术制备对称性降低的核壳结构复合粒子有效地解决为:自组装SiO2纳米粒子→溅射镀膜形成SiO2/Au[8-11]复

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