高性能氧化物陶瓷靶材的压力注浆成型工艺及应用_周贤界_惠浩

高性能氧化物陶瓷靶材的压力注浆成型工艺及应用_周贤界_惠浩

ID:38128214

大小:830.89 KB

页数:6页

时间:2019-05-28

高性能氧化物陶瓷靶材的压力注浆成型工艺及应用_周贤界_惠浩_第1页
高性能氧化物陶瓷靶材的压力注浆成型工艺及应用_周贤界_惠浩_第2页
高性能氧化物陶瓷靶材的压力注浆成型工艺及应用_周贤界_惠浩_第3页
高性能氧化物陶瓷靶材的压力注浆成型工艺及应用_周贤界_惠浩_第4页
高性能氧化物陶瓷靶材的压力注浆成型工艺及应用_周贤界_惠浩_第5页
资源描述:

《高性能氧化物陶瓷靶材的压力注浆成型工艺及应用_周贤界_惠浩》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在行业资料-天天文库

1、34周贤界等:高性能氧化物陶瓷靶材的压力注浆成型工艺及应用电工材料2015No.3高性能氧化物陶瓷靶材的压力注浆成型工艺及应用12周贤界,惠浩(1.中南大学材料科学与工程学院,长沙410083;2.浙江宁波麦博尔移动电话有限公司,浙江宁波315500)摘要:氧化物陶瓷靶材是一种关键性的基材镀膜材料,其结构向高密度、大尺寸、管状、异型、均匀方向发展,这些结构特点对材料成型技术提出了更高的要求。本文对氧化物陶瓷靶材的多种产业化成型工艺进行综合评述,结合在压力注浆成型工艺上取得的进展,重点对高压注浆成型工艺的技术特点、应用优势进行了介绍,并展望了其应用前景。关键词:陶瓷靶材;成型;压力注

2、浆+中图分类号:TN304.21文献标志码:A文章编号:1671-8887(2015)03-0034-06PressureSlipCastingProcessandAdvantagesofHighPerformanceOxideCeramicTargets12ZHOUXian-jie,HUIHao(1.SchoolofMaterialsScienceandEngineering,CentralSouthUniversity,Changsha410083,China;2.ZhejiangNingboMaiboermobilephoneCo.,Ltd.,ZhejiangNingbo31

3、5500,China)Abstract:Oxideceramictargetsarethecriticalfoundationcoatingmaterials.Withtheirstructuredevelopstowardhigh-density,largesize,tubular,heteromorphosis,uniformdirection,higherlevelofmaterialformingisrequired.Avarietyofindustrialmoldingmethodsofoxideceramictargetsarereviewed.Bycombiningt

4、headvancesofpressureslipcasting,thisarticlefocusonitstechnicalcharacteristics,advantagesandapplicationprospect.Keywords:ceramictargets;molding;pressureslipcasting1引言晶面板、触摸屏、薄膜太阳能电池、发光二极管等产随着激光、微波和离子束等技术的应用,人们业上获得了广泛应用。开发了多种氧化物薄膜材料的制备方法和技术,其在磁控溅射工艺中,作为被等离子体轰击沉积中主要的方法有脉冲激光沉积、磁控溅射、电子束薄膜用的靶材是非常关键的

5、材料。制备不同的功蒸发、分子束外延等物理方法,以及化学气相沉积、能薄膜需要各种靶材,如金属或合金、氧化物、碳化[1~3]溶胶-凝胶、喷雾热解等化学方法。在这些制备物靶材等。制备氧化物薄膜通常采用以氧化物陶技术中,磁控溅射镀膜技术具有易于大面积镀膜、瓷为靶材的磁控溅射工艺,与金属靶材氧化反应沉工业化生产以及薄膜品质、成分、结构、均匀性等易积法相比,具有靶材不易中毒和薄膜品质高的优于调控的优势,是产业化制备氧化物薄膜材料的重势。氧化物陶瓷靶材属于陶瓷产品,由于对密度、要方法之一,以该方法制备的氧化物薄膜材料在液纯度、尺寸、形状,以及成分、结构、均匀性等都有特—————————————殊

6、要求,其产业化难度较高。随着全球光电产业的作者简介:周贤界(1981-),男(汉族),湖南涟源人,博士生,从事功蓬勃发展,氧化物陶瓷靶材作为重要的关键基础材能氧化物纳米粉体与陶瓷的研究。料,具有巨大的商业价值,多年来一直被学术界和收稿日期:2015-03-20电工材料2015No.3周贤界等:高性能氧化物陶瓷靶材的压力注浆成型工艺及应用35产业界关注。与日本、德国等世界靶材强国相比,计移动磁场等方式来提高平面靶材的利用率,但目我国陶瓷靶材研究相对落后,陶瓷靶材仍是我国的前,平面靶材的利用率最高也只能达到40%左右。“软肋”。为了进一步提高靶材利用率,人们设计了使用效率制备氧化物陶瓷

7、靶材涉及到粉体合成、生坯成更高的旋转阴极,用管状的靶材进行溅射镀膜。溅型、高温烧结三个主要环节。三个环节相互独立,射设备的改进要求靶材从平面形状改变为管状,管[6]又成为一个系统,要制造出高性能的陶瓷靶材必须状旋转靶材的利用率可以高达80%以上。将三个环节系统考虑。本文结合在ITO、AZO、IG-(5)异形化:为了解决平面靶材利用率低的问ZO陶瓷靶材上的研究和产业化工作,对氧化物陶题,人们设计和使用异性靶材。以长条形ITO、AZO瓷靶材的成型工艺进行总结和评述,重点对

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文

此文档下载收益归作者所有

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文
温馨提示:
1. 部分包含数学公式或PPT动画的文件,查看预览时可能会显示错乱或异常,文件下载后无此问题,请放心下载。
2. 本文档由用户上传,版权归属用户,天天文库负责整理代发布。如果您对本文档版权有争议请及时联系客服。
3. 下载前请仔细阅读文档内容,确认文档内容符合您的需求后进行下载,若出现内容与标题不符可向本站投诉处理。
4. 下载文档时可能由于网络波动等原因无法下载或下载错误,付费完成后未能成功下载的用户请联系客服处理。