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时间:2019-05-22
《GaN基发光管材料的MOCVD生长研究》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在学术论文-天天文库。
1、北京工业大学博士学位论文GaN基发光管材料的MOCVD生长研究姓名:牛南辉申请学位级别:博士专业:微电子学与固体电子学指导教师:沈光地20061001!:!奎三::!:銮:三:里主:竺兰三!!,貌变差,自由空穴浓度降低,也会使器件电学特性变差。因此生长器件的p-GaN盖层对,Mg流量应精确控制。p-GaN生长温度的降低有利于提高LED器件的发光强度。在低温范围870.980℃生长P.OaN,用霍尔技术测量其电学性能,发现当温度低于900℃时,材料电阻较高:在900-,980℃都可获得导电性能良好的P型氮化镓,并对低温
2、p-GaN的生长条件如Mg掺杂浓度、V/III比进行优化:采用优化的p-GaN材料制作绿光LED:h器:件,发现:生长温度越低,LED发光强度越高,反向电压越高,但正向电压稍高。对6掺杂制备的p-GaN进行了详细研究。发现采用6掺杂后p-GaN样晶的表面形貌平整,缺陷密度小,呈现高的导电特性,说明6掺杂对缺陷的蔓延有抑制作用:对预通氨处理技术作了深入研究,发现预通氨过程会引入载气中的。杂质,并且,过高的V/Ill比也会使表面钝化,不利于杂质Mg的掺入。对InGaN:Mg薄膜的生长进行了研究,结果表明:空穴浓度随着生长
3、温度的降低而增加:在相同的生长温度下,空穴浓度随掺Mg量的增加先增加后降低。通过对这两个生长条件的优化。我们在76&C,Mg/Ga/比2.2%0时制备出了空穴浓度高达2.4×10坤cm4的p”型_lnGaN:Mg薄膜。这对提高GaN基电子器件与光电子器件的性能具有重要意义。3.研究了生长气氛、生长温度、In/Oa比等生长条件对lnGaN/OaN多量子阱质量的影响。结果表明降低InGaN阱的生长温度可以有效增加阱层的In组分,使得光荧光峰值波长红移,但同时会降低多量子阱的光学质量;提高GaN垒的生长温度可以有效提高垒层
4、的晶体质量,进而改善多量子阱的光学质量;此外高的TMIn/"(1Mn+刑Ga)比会致使多量子阱的界面与光学质量下降。研究了生长停顿对InGaN/GaN多量子特性的影响,结果表明采用生长停顿,可以改善多量子阱界面质量,提高多量子阱的光荧光强度与电注入发光强度;但生长停顿的时间过长,阱的厚度会变薄,界面质量变差,不仅In组分变低,富111的发光中心减少,而且会引入杂质,致使电荧光强度下降。研究了多量子阱结构参数对其特性的影响,为优化有源区结构提供了依据。研究了应力对InGaN/GaN多量子阱特性的影响,并采用应力缓冲层技
5、术提高了多量子阱的质量。4.优化了生长参数,生长出了高质量的GaN基发光管外延片,并制作出了器件。在20mA的注入电流下,蓝光、蓝绿光以及绿光发光管的输出光功率为7.45、9.4和5.18mW,正向压降分别为3.4、3.64与3.65V。在350mA的注入电流下,蓝光大功率发光管的输出光功率为83roW,正向压降为3.56V。器件性能处于国内领先水平。关键词:金属有机化合物汽相淀积:氮化镓;掺杂:发光二极管外延片Inthisdissertation,wehaveinvestigatedtheMOCVDgrowthan
6、dpropertiesofGaNmaterialandGaN-basedLED.Themaincontentsofthisthesisareasfollowing:1.minfluencesofbufferlayer,theinitialV佃ratiosathi曲temperature,growthpressureandthemis-etttanglesofsapphiresubstrateonthepropertiesofGaNepilayersalestudied.TheautomatedEBSD、)l∞perf
7、ormedtodetectandmaptheelasticstrainintheGaN-sapphireinterface,thestronglystrainrelaxedl'egionwasproducedinthebufferlayer,andtheelasticstraingradientparalleltothegrowthdirection,thestrainl"d.tlgeisalsodetected.Increasingthegrowthpressure砒lowtemperaturegrowthstep
8、andtheinitialstageofhightemperaturegrowthstepCaltlincreasethesizeofGaNislandsandreducethedensityofnuclei.Atthes呦etime,decreasingtheinitialV皿ratiosathiglltemperature(3aNgrowt
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