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时间:2019-05-17
《二硫化钼复合材料的制备及其在析氢反应中的应用》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在学术论文-天天文库。
1、目录摘要.....................................................................................................................................................IAbstract.........................................................................................
2、....................................................III第1章文献综述................................................................................................................................11.1过渡金属二硫化物简介...............................................
3、.........................................................11.2构建三维结构过渡金属二硫化物........................................................................................11.3三维TMDs结构的合成策略.......................................................................
4、........................21.3.1水热法.........................................................................................................................21.3.2化学气相沉积法....................................................................................
5、.....................41.3.3静电纺丝技术.............................................................................................................51.3.4真空过滤法..................................................................................................
6、...............51.3.5溶胶-凝胶法................................................................................................................51.3.6气泡模板辅助合成..................................................................................................
7、...51.4MoS2作为催化剂在HER中的研究.....................................................................................61.4.1析氢反应简介............................................................................................................61.4.2MoS2在析氢反应中的应用...
8、.....................................................................................71.4.3改善边缘位点的催化活性.........................................................................................81.4.4暴露或增加活性位点数目...................................
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