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1、.EDI设备的化学清洗及再生
膜块堵塞的原因主要有下面几种式：
o颗粒/胶体污堵
o无机物污堵
o有机物污堵
o微生物污堵
清洗方法时间（分）备注
酸洗30-50
碱洗30-50
盐水清洗35-60
消毒25-40
冲洗≥50
再生≥120根据系统的工艺要求直至达到出水电阻率要求指标
单个膜块清洗时药液配用量
型号药液配用量（升）备注
MX-50501.酸洗温度15-25℃
2.碱洗温度25-30℃
3.配药液用水必须是RO产水
或高于RO产水的去离子水
MX-10080
MX-200110
MX-300150
..•对于膜块数量大于1块时，按
2、表中配液的数量乘以膜块数量
EDI膜块的再生
o确认EDI膜块内没有任何的化学药品残留存在。
o使系统构建成一个闭路自循环管路。
o按照正常运行的模式调节好所有的流量和压力。
o给EDI送电，调节电流从2A开始分步缓慢向EDI加载电流（最大不能超
过4A）。
o直至产水电阻率达工艺要求到或者≥12MΩ.cm
o提示：膜块的再生是一个比较长的时间，有时可能会长达10-24小时甚
至更长的时间。
EDI运行维护注意事项
注意:试车、操作及维护前,请详阅EDI厂家所提供操作维护手册.本注意事项仅提醒使用者於试车、操作及维护时需要特别注意之事项,详细
3、操作维护内容请详阅EDI厂家所提供操作维护手册.
一、进流水质要求与必要之附属设备
(一)进流水质要求:前处理系统一定要有RO系统,且要确保RO系统操作正常.进流水质最低要求如下:
1导电度(包括SiO2及CO2)μs/cm<40
2温度℃5-45..
3压力Psi20-100
4自由余氯(Cl2)ppm<0.02
5铁(Fe)、锰(Mn)ppm<0.01
6硫化物(S-)ppm<0.01
7pH4-11
8总硬度(asCaCO3)ppm<1.0
9二氧化硅(SiO2)ppm<1.0
10总有机碳(TOC)ppm<0.5
备注:1.导电度计算方
4、式=导电度计测量之导电度+2.66xCO2浓度(ppmasCO2)+1.94xSiO2(ppmasSiO2)
2.启动初期应特别注意进流硬度、二氧化硅浓度,应避免超过1.0ppm.
(二)附属设备：为了保护模块及便利后续系统监测,强烈建议EDI系统应至少包括下列附属设备:
1.稳定的电源供应设备：为了维持系统操作稳定,电源供应系统应供给稳定的直流电源给模块,且系统能在定电流模式下操作(V=IR,亦即设定电流(I)后,电流并不会随进流水质改变,进流水质改变仅会影响电阻(R)及电压(V)).
2.流量开关或流量控制设备：为了保护模块,当没有水进入模
5、块时,模块电源必须马上被关闭,流量开关需与电源供应连动.
3.压力计：应至少於进流端与产水、浓缩水出水端设置压力计,以监测进出水压力...
4.进出水流量计：方便调整产水率.可使用附控制点之流量计(可作为流量开关使用).
5.系统控制(PLC控制)：系统除了控制没水进入时之断电装置外,亦应控制在进流水进入一段时间后,若电源仍无供应,应停止进流(例如泵启动30秒后(视泵至EDI距离调整时间),若电源仍无供应,则应关闭泵,并发出警报),以避免EDI膜堆内树脂饱和,影响后续产水水质。
二、试车注意事项：
(一)试车前检查
1.试车前应检查管路、配件及
6、控制系统是否安装完成,各项检查前应先关闭电源,以维护人员安全.
2.模块扭矩检查：依照操作手册3.2节检查并锁紧.联接螺栓扭矩1-825ft.lbs.11-1412.5ft.lbs.9,1010ft.lbs.工具：扭矩扳手(19mm)+活动扳手
3.管路检查：检查配管路线及阀门开关.
4.电源控制检查(以Ionpure原厂电源控制为例)：
1.)检查整流器及显示板Jumper的选择是否正确：
甲、ACV：例如LX30,需要660V,则选择660V(共有440,550,660三个选项).
乙、DC：选择最高电流限制,例如：LX选择10A(共有2.
7、5,4,6.5,10A四个选项).选择之电流需与显示板上之选择相同.
丙、频率：选择60Hz或50Hz.
2.)检查变压器至控制版接线(T1,T2)及至模块接线...
3.)检查接地线(DC-).
4.)选择控制模式：选择定电流控制(A)或定电压(V)(建议选择定电流控制).
5.)检查流量开关.
5.确认进流泵容量：进流泵之汲水流量需满足系统所需之流量,同时其扬程需能克服各项设备及管路压损(LX模块压损约1.5-2bar(与处理量相关)).
Ionpure原厂显示板背面Jumper调整Ionpure原厂控制板背面Jumper调整及接线
(二)
8、试车所需注意事项
1.确认RO系统操作是否正常?建议RO系统操作稳定后,才将进流水切换至EDI系统,以避免RO启动初期水质较差,影响模块性能.
2.检
