《清洗rena》PPT课件

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1、RENA设备介绍生产设备2011年10月设备外观设备简介设备名称：InTex全称：InlineTextureEtchingMachine中文含义：在线纹理刻蚀机（在线制绒机&一次清洗机）InTex的主要功能：去损伤制绒，腐蚀深度为4.5~5.5µm的光陷阱纹理表面，以减少光的反射去金属离子和氧化物制作疏水表面陷光原理图设备简介设备名称：InOxside全称：InlineEdgeIsolationandOxideEtchMachine中文含义：在线边缘隔离和氧化物刻蚀机（在线湿法刻蚀机&二次清洗机）InOxside的主要功能：去磷硅玻璃边缘刻蚀去金属离子InTex各槽体的功能

2、AcidicsawdamageetchingandtexturingDryingAcidiccleaningRinsingRinsingKOHcleaningRinsing去损伤、制绒面去除残余的酸、辅助制绒1、去除残余的碱；2、去除金属离子；3、使硅片具有疏水性去除残余的化学品、清洁硅片干燥硅片HF、HNO3HF、HCl3Si+4HNO3→3SiO2+2H2O+4NO↑SiO2+6HF→H2[SiF6]+2H2↑Si+2KOH+H2O→K2SiO3+2H2KOH多晶硅片制绒效果图单晶硅片制绒效果图InOxside各槽的功能DryingHFBathRinsingRinsi

3、ngKOHcleaningRinsing去PSG、去边缘去除残余的酸1、去PSG；2、去除残余的碱；3、去除金属离子去除残余的化学品、清洁硅片干燥硅片Edgeisolation+Phosphorglassetchingn+SiPSGPSGn+Sin+SiPSGHF、HNO3、H2SO4KOHHFSiO2+4HF=SiF4+2H2OSiF4+2HF=H2SiF6总结起来，刻蚀反应分成两步：1.硝酸/亚硝酸（HNO2）将硅氧化成二氧化硅（主要是亚硝酸将硅氧化）。2.二氧化硅和氢氟酸反应（快反应），生成四氟化硅和水（快反应），四氟化硅又和水化合成氟硅酸进入溶液。硫酸不参与反应，

4、仅仅是增加氢离子浓度，加快反应，增加溶液黏度（增大溶液与PSG薄层间的界面张力）和溶液密度。Si+2HNO3+6HF=H2SiF6+2HNO2+2H2O3Si+4HNO3+18HF=3H2SiF6+4NO+8H2O3Si+2HNO3+18HF=3H2SiF6+2NO+4H2O+3H25Si+6HNO3+30HF=5H2SiF6+2NO2+4NO+10H2O+3H2SiO2+4HF=SiF4+2H2OSiF4+HF=H2SiF6InTex管路图传输系统示意图化学品供应系统MediaRoom化学品供应单元界面操作登陆：servicec03rena点击“异常停止”点击“手动模式”

5、点击“手动”点击“F11”点击“传送马达”点击“所有传送马达”点击“配方”在”关掉过程中的干燥机”前打钩点击“配方管理”把配方写入PLC常见的报警碱槽泵的干燥保护观察碱槽风刀工作状况，添加药液，清洗风刀风刀清洗关闭手阀拆盖板、卸下风刀放到扩散清洗间用水枪冲洗，清理气孔安装风刀常见的报警药液供给异常查看报警信息，检查药房药桶，药液供给管道等。一般是药房相应的药液用完导致（通知生产更换）传感器的组合报警查看相应部分的传感器工作状态擦拭传感器调节传感器无液有液安全槽泄露报警（上料滚轮会停止）查看相应安全槽的状况无液：调试传感器有液：找出并解决故障，用吸酸车清理液体冷却系统降至循环

6、的最低温度以下或死机报警（上料滚轮停止）处理措施：重新启动启动冷冻机冷冻机开启步骤:开机时选择intexHT→Enter→factrgdefault→alltogetherenter→yes(关闭电源需等待三分钟后开启)溢出报警查看相应传感器，如是药液过满可以手动排掉一些药液常见的报警谢谢