CdZnTe单晶表面、界面及位错的研究

CdZnTe单晶表面、界面及位错的研究

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时间:2019-05-09

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1、西北工业大学博士学位论文CdZnTe单晶表面、界面及位错的研究姓名:查钢强申请学位级别:博士专业:材料学指导教师:介万奇20070601两北T业J:学博f‘学位论文的表面的功函数要低于存在损伤的表面;(111)A面发生重构后,cd空位增加,能带向下弯曲,增加了功函数;而(111)B面发生重构时,Tc顶戴原子吸附在晶体表面,形成表面偶极层,也会增大表面功函数。研究了Au与清洁CdznTc不同晶面的接触势垒,其中(110)面的接触势垒最大,(111)B面次之,(111)A最小。这是由于(110)面的表面能最低,是~稳定面,难以发生界面反应。(111)A面的Te原子不稳

2、定,容易与Au发生化学反应。通过紫外光电子能谱也证实了A们dznTc(111)A的界面确实发生了界面反应。Ag与清洁CdznTe存在比较明显的界面反应,导致接触势垒很低,约为O.2ev。而Ag与经化学腐蚀的CdZnTc晶片的接触势垒约为O.67eV,这是由于氧化层和富Tc层阻挡了Ag与CdznTe的反应,从而导致了较高的接触势垒。CdznTe(111)A面发生重构后表面Cd空位增加,在沉积Au的过程中,Au会填补这些空位,作为Cd的替换原子与周围的三个Tc原子结合。这样将有利于Au的扩散和界面反应的发生,因而会降低接触势垒。另外表面cd空位引入的缺陷能级也会降低肖

3、特基接触势垒。A们dZnTe(111)B一(2×2)的肖特基势垒低于Au/CdznTe(111)B.(1×1)面。分析认为这是由于cdznTc(111)B.(2×2)最外两层原子均是Te原子,Te与Au之间容易发生电子云重叠,形成化学键,即形成合金化的界面层,使富Tc面容易形成低的肖特基势垒。对All/CdznTe在3500C下退火1小时,可以改善Au膜的有序性,并降低接触势垒约O.15ev。采用AuCl3水溶液在cdznTe表面分解制备了Au的欧姆电极,并采用Ⅺ,s研究了化学镀金法制备的A“CdZlll’e的界面成分分布,确定了CdR03界面层的存在。分析了Au

4、层与cdZnTe形成欧姆接触的机理,提出了CdTe03界面层导致欧姆接触的新模型,该模型可以解释目前所有的实验结果。通过塑性变形在CdznTc晶体分别引入了cd(g)位错和Te(g)位错。由于位错内的悬键电子会吸收红外光,导致晶片红外透过率下降。变形后的晶片的漏电流显著增大,运用普尔一弗兰克效应解释了实验结果。采用I.V、PL谱和Hall等测量方法研究了位错的电学特性,结果表明,cd(g)位错在CdznTe晶体中起受主作用,而Te(g)位错在晶体中起施主作用。cd(g)位错会会加大对空穴的散射,而导致空穴的迁移率下降,而Te(g)位错会加速空穴的漂移,使空穴的迁移

5、率增加。关键词:CdznTe,表面漏电流,红岁}透过率。表面弛豫,表面重构,表面电子结构,功函数,界面反应,肖特基势垒,欧姆接触,位错AbsIractAbstractCdZ玎RisthemostpmmisiIlgmaterialf研r0咖t锄peramreX—ray肌dgaInnla·raydetectors,aswell船印itaxialsubstrateforHgCdT色a11dom日in丘aredmat喇als.A1thou曲theresearches0nCdZnTelastedforovcr20years,tllerearestillmanyummowsa

6、boutthesllrface仃eatment,metal一a1ZnTbcontactpropenies锄ddislocatio璐bchaviorSofCdznTecrystal,whichareinvestigatcdin“swork.Thesurfke仃eannentsofCdZnTecrystals,such髂mechaIlicaJpolishin譬,chemicalpolislling锄dpassiVatioll,wcrefirststIldied.ThechamctersofCdznTesurfaceswithdiffbrent仃ea恤eIlts,suc

7、h弱thesurfkeatomicslnlctllre,elec仃onjcs仃ucture锄dworkfIlnctionwerea11alyzedwithVariantadVaIlcedtecllIl010百es.Theinte响cebeha“orbet、veeIlCdznTeandmetalcontacts,includjngtheime响cechelllicalreaction,Schotd呵b枷erhei曲ts,andeIectIDlessohmiccontactwercstudiodiIIdetail.Atl雒t,tllebeh州。巧aIldtheefrc

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