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时间:2019-03-19
《试析钛酸钡粉体工业化生产的工艺研究》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在学术论文-天天文库。
1、天津大学硕士学位论文钛酸钡粉体工业化生产的工艺研究姓名:邱育新申请学位级别:硕士专业:化学工程指导教师:丛培君;冯玉成20021201摘要本文研究r以四氯化钛、氯化钡和草酸为原料,在原小试的基础上进行钛酸钡粉体工业化生产的工艺条件,并对主要一lj艺参数:TiCl。浓度、BaCl:浓度、草酸浓度、反应时间、反应温度、煅烧温度、气流粉碎量等进行筛选。最终筛选出较理想的工艺条件,证明是可行的。该工艺属于液相化学共沉淀法,其工业化生产在国内还不多见。通过这种工艺条件生产的钛酸钡的质量完全达到国家标准。同时我们还进行了
2、PTC热敏电阻器和XTR瓷料性能测试,测试结果完全能满足电子陶瓷的质量要求。另外,我们还进行了三废处理,并对成本进行了核算。本文的创新之处可归结为:1)提高四氯化钛溶液浓度以便提高设备的生产能力,降低生产成本。从成本和产品质量双方面考虑确定最佳的反应温度、时间、配比等工艺条件;2)水洗工序的改进对提高产品质量降低杂质含量的影响;3)通过x一射线衍射仪监测煅烧温度及煅烧时间对钛酸钡晶体性能的影响,确定最佳煅烧温度及煅烧时问;4)高温煅烧炉的改造及增加气流粉碎环节。关键词:钛酸钡陶瓷粉体草酸氧钛钡煅烧共沉淀法AB
3、S’J’RAC’I’InthispaperwereporttheproducingconditionofindustrialmanufacturingbariumtitanatepowderbasedOnthesmall—sizedtestusingtitanicchloride,bariumchlorideandoxalate,Wehavescreenedthemainparameterssuchasconcentrationoftitanicchloride,bariumchlorideandoxalat
4、e,reactiontime,reactiontemperature,calcinetemperature,airflow·grindingquantityandSOon.Atlastweobtainedtheidealtechnicalconditionwhichwasprovedtobepracticable.ThistechnologyisamethodofliquidchemicalcoprecipitationwhichhasnotbeenusedwidelyinChina.Usingthistec
5、hnicalconditionwecanmanufacturegoodqualitybariumtitanatepowderthatisuptothenationalstandardcompletely.InthemeantimewehavetestedthePTCRandXTRfunctionoftheproduct.Theresultisgoodenoughtoaccordwiththequalityofelectricceramic.Ontheotherhand,wehavetreatedthethre
6、ewastesandaccountedthecostTheinnovationsinthethesisconcentrationoftitanicchloridelieinfourpoints.Firstly.weincreasesolutiontoimprovetheproductioncapacityandcutdowntheproductioncost.Secondly,weinnovatewater.washingprocesstoimprovetheproductqualityandreduceim
7、purityquantity.Thirdly,thecalcinetemperatureandtimearedecidedbytestingbariumtitanatecrystalfunctionthroughX-raydiffractioninstrument.Fourthly,weinnovatecalcineovenandaddairflow-grindingprocess.Keywords:bariumtitanate,ceramicpowder,bariumtitanyloxalate,calci
8、ne,corprecipitationmethod灭津人学T程顺Ij论文第一章前言电子陶瓷T业是电子工业、航天、航空和核工业的基础之一,在高技术领域也异常活跃。例如,某种火箭,其中采用陶瓷材料制造的零部件占80%,一台彩电接收机,用陶瓷制造的元件约占75%。电子陶瓷在电子工业中的重要地位还源于它在整机中的关键作用。例如,⋯块集成电路的稳定性和使用寿命,在很大程度卜取决于它的基片或管壳的性能:一个自动
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