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时间:2019-03-16
《低压铟锌氧双电层晶体管研究》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在学术论文-天天文库。
1、":嗦瑶勢r碰::"和:蒙S%麵變^^>^"。\^屬相働V笨%i磁;-麗禱孤卑&4.'^驚賓#:I:娘'苗.%麵苗过-契^^p马藝曇餐霞今,襄.親變;备叢p.判寒為應巧.;1;觀爾幾8搏勢5.^乂。;^今嫌::舊.-_.V^.2-雅?;接崇j一研它生毕论,,.囊-.學..诗.如,..,.-.篡典槪中请3、%.参.‘爹.I1V;/苟黎一^瑪^,痛^着...、麵'杳敎;...1顺"1t^抓>;:作'.誦:義扇:.:^论0目低皆|兵,一.義\..:./絲:;:;截.為輪桃僱棘品学连汽毒研向T.
2、.參.片.\終堪^J甲P.每辕讓.V讓辨議f靡结審<3見爭>賴養勤專f屬讓。,.:篡t击h、.;焉杉..1應象i霉慕#讀学号:MG1323027论文答辩日期;2016年5月18日指…'一(签字)1硕±学位论文低压铜薛氧双电层晶体管研究学位申请人姓名蒋巧鹤培养单位电子科学与工程学院导师姓名及职称万青教授学科专业微电子学与固体电子学研究方向氧化物薄膜晶体管论文提交日期2016年S月23日南京大学研究生毕业论文
3、中文摘要首页用纸毕业论文题目:低压铜摔氧双电层晶体管研究微电子学与固体电子学专业13级硕去生姓名:蒋双鹤指导教师(姓名、职称):万青教授2氧化物薄膜晶体管(OxideThinRimTransistors)具有高迁移率(〉10cm/Vs),,,应用范围广等优点制备工艺都在常温下进行适合大规模生产,成本低,在世I--Zn-界上引起了广泛研究兴趣,nGaO(IGZO)。在众多类型的氧化物半导体中2材料作为沟道层材料,具有非常平整的表面结构,非常高的迁移率(>l〇cm/Vs)
4、,-I衬底兼容性好,无毒无污染而受到许多研究小组的关注,GZOTFT。但是由于栅介质在栅电极和有源沟道之间的电容賴合比较弱,导致器件需要很大的栅极电压才能驱动,不节能便携,大大限制了应用的空间,。而且随着柔性电子学的发。,展,柔性的薄膜晶体管器件受到了越来越多的关注最后人们对环境保护的意识越来越高一,使用无毒无污染的天然材料生物材料制作薄膜晶体管器件也是个趋势。本文中,经过我们的探索,成功的在常规的导电玻璃W及新型的柔性纸张衬底上分别制备了天然鸡蛋清和天然蜂蜡膜为栅介质的低压调控的
5、氧化物薄膜晶体管,:。我们的器件是底栅结构分四部分组成衬底材料分别是玻璃1^1及柔性纸张材料底栅分别为150nm厚的导电ITO和银金属薄膜;栅介质材料是天然生;物材料鸡蛋清yA及蜂蜡,膜厚度约5_mi上层是IZO制备的厚度为200nm的;最|有源沟道和源漏电极,,。其中银金属膜底栅是用真空热蒸锻工艺蒸锻的天然生物材料鸡蛋清膜和蜂蜡膜是用旋涂匀胶机旋涂制备,IZO有源沟道和源漏电极是一000=在沟道长宽比为W(1im)/L(80m)12.5的镇掩膜板遮挡下用步法|M磁控瓣
6、射生长。我们使用Kei化ley半导体参数分析仪测试了器件的性能,W低压纸张衬底蜂蜡膜栅介质薄膜晶体管为例,它是增强型器件,单位面积的栅2介质电容达到了5征/cm,工作电压低至2V,器件的阔值电压、载流子迁移率、I26电流开关比和亚阔值摇摆分别为化43V,14.6cm/Vs,7.6X10和%mV/dec,漏电流仅为2.8nA。经过30天的老化测试W及超过3000次的弯曲测试后阀值电压01V,15,L只漂移了.迁移率降低了%展示了良好的老AA及机械性能。上述结果表明,我们在室
7、温环境下制备的这种低压天然生物材料柔性纸张衬一底薄膜晶体管在下代高性能低功耗,环境友好,柔性可弯曲的微电子器件领域尤其人体传感器方面具有非常大的应用前景。ii:薄膜晶体管nFilmTranssfiorsInGaZn关键词;Th;低压;氧化物半导体;〇4;室温;射频磁控漉射I南京大学研究生毕业论文英文摘要首页用纸THESIS:---0Doub-LowVoltaeInZnleLayerThinFUmTransistor艮esearchg-SPECIALIZATION
8、:MicroelectronicsandSolidstateElectronicsPOSTGRADUATE:ShuangheJiangMENTOR:inWanProfessorQg,Oxidethinfilmtransistorisat化actingwidespreadresearchinterestsintheworl
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