单轴应变硅pmos设计和nbti效应的研究

单轴应变硅pmos设计和nbti效应的研究

ID:34295558

大小:7.46 MB

页数:61页

时间:2019-03-04

单轴应变硅pmos设计和nbti效应的研究_第1页
单轴应变硅pmos设计和nbti效应的研究_第2页
单轴应变硅pmos设计和nbti效应的研究_第3页
单轴应变硅pmos设计和nbti效应的研究_第4页
单轴应变硅pmos设计和nbti效应的研究_第5页
资源描述:

《单轴应变硅pmos设计和nbti效应的研究》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在学术论文-天天文库

1、随着集成电路的特征尺寸进入纳米级,传统的CMOS等比例缩小越来越难以持续。应变硅具有带隙可调、载流子迁移率高等优点,因此,被认为是延续Moore定律最有潜力的新技术。在应变硅技术中,单轴应变相对双轴应变工艺更简单,成本更低,并且与目前成熟的Si工艺更兼容。因此,对单轴应变硅器件的研究成为了国内外的热点。本文围绕单轴应变硅PMOS,研究了SiN致应变、SiGe源漏致应变和复合应变,及影响小尺寸PMOS可靠性的NBTI(负偏置温度不稳定性)效应。首先,研究了SiN致应变。设计了SiN致应变硅PMOS结构,并在Sentau

2、rus中用工艺仿真实现。仿真和分析了其电学性能,结果表明SiN致应变硅PMOS器件性能提升明显。针对SiN致应变硅PMOS性能的提升,本文进一步研究了SiN膜的应力、厚度、栅长、Poly高度、侧墙结构对PMOS性能的影响。其次,研究了SiGe源漏致应变。通过在常规PMOS的源漏区外延生长SiGe仿真实现了高性能的PMOS器件,结果表明性能也获得了显著提高。本文又分别研究了Ge摩尔组分、SiGe结深、抬高高度及栅长对PMOS性能的影响。另外,本文还研究了结合SiN致应变和SiGe源漏致应变的复合应变,结果表明PMOS性

3、能提升更显著。最后,本文研究了应变硅PMOS的NBTI效应。研究了NBTI产生机理、退化模型,NBTI导致的界面态退化,进而导致PMOS器件性能退化,结果表明NBTI受温度应力、电压应力、栅氧中H的扩散系数的影响,其中对温度应力最敏感。温度越高,栅电压越大,栅氧中H扩散越快,器件性能退化就越严重。另外,本文还研究了栅氧厚度对NBTI效应的影响,结果表明栅氧越薄,NBTI导致的器件性能退化越小。为了抑制PMOS的NBTI效应,本文还给出优化方法以供未来设计性能更好、可靠性更高的PMOS参考。关键词:单轴应变硅PMOSF

4、ET负偏置温度不稳定性单轴应变硅PMOS设计与NBTI效应研究ABSTRACTAbstractAsthefeaturesizesofICenteredintothenanoscale,itiSmoreandmoredimcultforconventionalCMOStoscaledown.StrainedSihasatunablebandgap,highercarriermobility,etc.,thereforewasconsideredthemostpromisingnewtechnologytocontinu

5、eMoore’SLaw.Relativetobiaxialstrainprocess,theuniaxialstrainissimpler,lowercost,andismorecompatiblewiththematureSitechnology.Therefore,itisahotspottostudytheuniaxialstrainedSideviceathomeandabroad.ThispaperfocusesonuniaxialstrainedSiPMOS,studiedtheSiN—inducedst

6、rain,SiGeinducedstrainandcompound—inducedstrain,andNBTIeffectofthesmallsizePMOS.Firstly,thispaperstudiedSiN-inducedstrain.DesignedstructureandprocessesofPMOSinSentaurusSimulation.Simulateditselectricalproperties,andtheresultsshowtheperformanceofSiN—inducedstrai

7、nPMOSimprovedsignificantly.FurtherstudiedtheSiNfilmstress,thickness,gatelength,Polyheight,sidewallstructureimpactonPMOSperformance.Secondly,thispaperstudiedSiGe-inducedstrain.TheresultsofsimulationshowedtheperformanceofSiGe—inducedPMOSisalsoimpovedsignificantly

8、.OtherstudiedthemolefractionofGe,SiGejunctiondepth,heightandgatelengthimpactonPMOSperformance.Inaddition,thispaperstudiedthecombinationofSiN—inducedstrainandSiGe-inducedstra

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文

此文档下载收益归作者所有

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文
温馨提示:
1. 部分包含数学公式或PPT动画的文件,查看预览时可能会显示错乱或异常,文件下载后无此问题,请放心下载。
2. 本文档由用户上传,版权归属用户,天天文库负责整理代发布。如果您对本文档版权有争议请及时联系客服。
3. 下载前请仔细阅读文档内容,确认文档内容符合您的需求后进行下载,若出现内容与标题不符可向本站投诉处理。
4. 下载文档时可能由于网络波动等原因无法下载或下载错误,付费完成后未能成功下载的用户请联系客服处理。