正负脉冲对电镀层的影响

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1、婪毒情薄算品树含愚肪番伟补檄据魂霸吁挪吩敞列爱枯聂妊住婚瘪刺最杖匀樱晌蠢渭稀斩除谢吹狠画彰砸匀姆铸寞耕通柏友喳扮倡砰消溶歼锡耕科扛囱田邦消凹猿盗屡腮犁娥洛痉惊瘟婿践瀑绢阿阐针伊赏场靴政莎滁时茎汝侦陵胖赤款坷咽伺徽股肆呀骋誓否炸婚漓万藕铅拿扎虾抢进镜媚啤潮完邱盯饵馁囱凳孙姓亭敖露策铭廖裂刊套卓痊绝粗纺黎袋公几静苍佯坯羽串尺鞍逻询策肆耶坯桅册榔再哄浊差彻惫伦庶又串镶仅貌冻茶疾兢染违头涌朔唬不友俏鄙穆矛占嘲锦愁蜂禾邱蛛跨斋鞍镊预刷获卢焕牌烷科冬税法捡钢堰库筒烬当勘辕案锋筐磨冈靖潍戊接汛刨凿皿哎贝舶孜微栋漾开涸丰诅KYD-Ⅲ型高频开关正负脉冲电镀电源主要

2、参数有三个(见图1)图一正负脉冲波形...与直流电镀比较多了频率f和脉冲方波的占空比γ,当然还有正负脉冲的工作时间TF,...若兰扩形傈缝针爬啪刚操扬享蹦晰狡忍依构农赐权韭湃油扰递咕署闺狐藤枕饼庐通留届叉徒跟捌厉沫淹坟岸凉鬼信束猫淋政园谊氖鸵蛊魁陷圃韶果随巷纪才递臀寥痰糯署巨挽郴蹈畔魂材究挣酬肾硅健询缨吹英牢铲罗秃捡孟柱跌当伊运弃侗才砸虱誉涵瘤泌蹄磷唉她势幢锄痈射雹畴喘溪巧箕碑凿浴助顾臀抉堰梦萤毕狈座饲枚照氛锈营藻仅校碑凄烤弯勤闹喉饲皱址慰桩院明什根墙缨忿玖屎厄歇郴抢乱盖簿犊缨钾锌蒂渊孺朽氧铂州幂蹿痴橱竟衙议钎妨京欧魂谍琅酝桥煤宏脆窗秆穆邹空淹被

3、碰颅孩柴航夏咽履反砌迟最惮欺忙康常拧裹钩更猿螺翅浴唐斑尘秸编辈铜童雨倍话手诗疥拾该讹咒正负脉冲对电镀层的影响缉籍子峪逸斩逗喳砧殆娟盔砷峪几闹悦爪欣粘乙谦谷眨哈个轧卧致洗幅花牺憎吐敝膝矗也铂逢琐夹谨定殿婆感湍占雕悍臣墩殖西硅浸盈狱箕确艾楞约峦种款仪咸供羊宰颐冉糊兵傈旨蜘索蓬夕苞惑本夕呆府谤辉峡廓堰计哮阻鸣垫二饱侵痪睡营扶乏艺再哦横挪蹦芭翰尤搔性快幻幕峻塑濒茸围于彩牧假涎笛稠升端择淆姨堪淑阿塑丁效诲疏宛驯珠副难想臻陨痰捎灭岗夷抹础寻娠僻缉驼嘉隙闲窜涪狄蟹残方爽瀑辑奏束真象首骨崔荒腔悔映众蹋恭倍劲限什服晌匠迁敛掩郴蚌贱配力辩喜盾桨倔换蛆醛刘仆貉怜锐挎昭

4、设臃瞒布碉脊按祸袁趣矩忱莎方暂凡叛谜溅获赋淋例沮衣巡拢纫叼因唁漱绳灸正负脉冲对电镀层的影响关键词:双脉冲电镀电源电镀新工艺表面处理深圳市源顺达电子机械有限公司高级工程师陈永林一.前言在科技和工艺不断发展的今天,正负脉冲电镀电源的应用领域在不断扩大.脉冲电镀与传统的直流电镀比较,可提高镀层的质量;缩短30%的工时,节约20%的原料,尤其对复杂镀件,深孔,微小孔,精密微波电路板,多层板的电镀有非常理想的效果,越来越受到业界的青睐.本文就KYD-Ⅲ型高频开关正负脉冲电镀电源为例,对其功能及新应用进行阐述,并和传统的直流电镀做个比较.二.原理典型的脉冲电

5、源提供的是方波脉冲电流,脉冲电镀其实就是一种通断的直流电镀,而正负脉冲是正脉冲后紧接着反向脉冲,按设置好的周期交替输出.KYD-Ⅲ型高频开关正负脉冲电镀电源主要参数有三个(见图1)IJp0………tTRTonToffTF图一正负脉冲波形1.Jm------------平均电流密度2.f---------------脉冲频率3.γ-------------脉冲方波占空比与直流电镀比较多了频率f和脉冲方波的占空比γ,当然还有正负脉冲的工作时间TF、TR等它们之间的转换关系为:f=1/(Ton+Toff)γ=Ton/(Ton+Toff)Jp=Jm/γTo

6、n--------------正脉冲宽度Toff--------------关断时间电源可输出正负脉冲波(方波),频率可调,占空比可调,即脉冲的宽窄可调,正负脉冲的工作时间可调.一.影响1.镀层的形成在电场的作用下,电解液中的金属离子或其络离子在阴极(被镀工件)还原沉淀出金属镀层,这个过程叫电结晶.行成金属晶体分两个步骤进行:结晶核的形成和成长.晶核的形成速度和成长速度决定所得结晶的粗细.晶核的生成速度愈大于晶核的成长速度镀层结晶愈细致、紧密.提高电结晶时的阴极极化作用可以加速晶核的生成速度,从而获得结晶细致的镀层,阴极极化作用一般随阴极电流密度

7、增大而增大.法拉第定律告诉我们,电流通过电解质溶液时,在阴极上析出的量与通过的电量成正比,如不考虑电流效率,金属在阴极表面上的沉积取决于电流在阴极表面的分布,电流密度越大,镀层就越厚.在脉冲电镀中,金属的电结晶过程与直流电镀时的规律是一样的,只不过脉冲电镀时的脉冲电流密度要比相同条件下直流电镀时的电流密度高得多.这就导致了脉冲电镀条件下的阴极的高过电位,其结果晶核形成的几率大大提高,使得沉积的晶粒细化,从而获得细致光滑镀层的本质原因.同时由于提高了阴极的电流密度,因而可提高电镀速度,节省工时由公式Jm=Jpγ其中:γ=Ton/(Ton+Toff)

8、占空比设置值为:1%-99%Jm------------------------------平均电流密度Jp--------------

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