管道设备清洗方案

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1、SCCCNCEC1250吨/年多晶硅（扩建）项目CVD还原安装工程设备管道清洗方案GB50319-2000管道设备清洗方案报审表工程名称：1250吨/年电子级多晶硅生产线（扩建）项目CVD还原区安装工程编号：20661-SB-A06-PI（B22）-01致：中国成达工程公司多晶硅项目监理部（监理单位）我方已根据施工合同的有关规定完成了设备管道清洗工程施工方案的编制，并经我单位上级技术负责人审核批准，请予以审查。附：设备管道清洗施工方案施工单位（章）项目经理日期专业监理工程师审查意见：专业监理工程师日期总监理工程师审查意见：项目监理机构（章）总监理工程师/代表日期-24-S

2、CCCNCEC1250吨/年多晶硅（扩建）项目CVD还原安装工程设备管道清洗方案黄河水电公司1250吨/年多晶硅（扩建）项目CVD还原安装工程设备管道清洗施工方案编制：审核：批准:-24-SCCCNCEC1250吨/年多晶硅（扩建）项目CVD还原安装工程设备管道清洗方案中国化学工程第六建设有限公司2012-05-20-24-SCCCNCEC1250吨/年多晶硅（扩建）项目CVD还原安装工程设备管道清洗方案目录一、编制说明-4-二、编制依据-4-三、工程概括-4-四、施工准备及工程施工条件-5-五、施工组织机构-5-六、清洗施工工艺和主要施工方法-7-七、施工组织技术措施-

3、12-八、健康安全与环境（HSE）管理-16-九、资源需求计划-19-十、现场文明施工-22-十一、施工进度计划-22--24-SCCCNCEC1250吨/年多晶硅（扩建）项目CVD还原安装工程设备管道清洗方案一、编制说明根据本公司签订的项目施工合同青海黄河水电公司1250吨/年电子级多晶硅生产线（扩建）项目安装工程-CVD还原区施工合同（合同编号：DJGKJ-JA2011第8号）内容编制，为加强质量和施工管理进度及HSE管理，满足A06区域内的工艺管道、设备清洗顺利施工，使其加强业主、监理对此区域的管理和控制，特编此方案。二、编制依据相关编制依据、规范和图纸：2.1本方

4、案内容包括A06CVD还原区的工艺管道(物料管道)和设备洁净度清洗.2.2《工业设备化学清洗质量标准》HG/T2387-92；20072.3《工业设备化学清洗质量验收规范》GB25146-20102.4《脱脂工程施工及验收规范》HG20202-2000；2.5《工业安装工程质量检验评定标准》GB50252-94；20102.6合同中的技术条款对喷砂清洗的要求；2.7《建筑施工环境与标准》JGJ146-2004；2.8《危险废弃物/污染控制标准》GB18597-2001；贮存2.9《施工现场临时用电安全技术规范》JGJ46－2005；2.10《起重吊装作业安全技术规程》；2

5、.11污水综合排放标准GB8978-20022.12工业设备清洗排放标准HGT2387-20072.13业主下发《多晶硅设备、管道喷砂、清洗规定》-24-SCCCNCEC1250吨/年多晶硅（扩建）项目CVD还原安装工程设备管道清洗方案三、工程概括3.1黄河上游水电开发有限责任公司电子级多晶硅扩建项目工程位于青海省西宁市经济开发区，建设规模为：年产1250吨多晶硅，其中电子级多晶硅1000吨/年，太阳能级多晶硅250吨/年。3.2A06还原区为整个工艺的关键区域,其洁净度要求相对更高,根据合同内容,暂定工艺管道的清洗工程量.具体设备需到场后现场确认是否需要清洗.。管道介质

6、清洗等级。（洁净、一般清洗范围）3.3A06还原区清洗管道为2300米，其中碳钢管道1300米，不锈钢管道1000米。设备CVD还原炉7台还原炉工艺模块7台去离子水罐1台钟罩新鲜水罐1台碱液储罐1台。四、施工准备及工程施工条件4.1审核通过提交的《施工方案》，签发执行。4.2确认施工现场、被清洗设备允许进行清洗作业。4.3现场公用工程条件。水源：自来水流量30-55m3/h纯净水:油含量为零，电导率≦15us/cm，氯离子≦5mg/L流量2T/h电源：三相五线380V、75KW,220V照明电源若干4.4现场施工人员必须按时进驻现场，清洗设备、原材料到位。4.5接受委托方

7、的培训。4.6所有进场施工人员必须按照《HSE作业指导书及应急方案》的要求认证、培训。4.7对操作人员完成技术培训。4.8设备、管件进行确认。4.9水、电等公用工程条件满足施工要求，具体位置根据现场确定。4.10排污系统畅通。4.11清洗区地面平整，尽量减少暴露于污物和微尘而保持工艺管道的清洁度。-24-SCCCNCEC1250吨/年多晶硅（扩建）项目CVD还原安装工程设备管道清洗方案4.12水、气临时配管。五、施工组织机构项目经理：李均南HSE部长：彭晓红安全员：刘建国施工队长：周丕胜施工队长：陈亚芬放样班制作班焊接班防腐班