sic高温电学特性研究

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时间:2019-02-06

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1、摘要目前半导体材料主要以si和Qub为主,由于它们在高温条件下一些性能不佳,使得以siC为代表的第三代半导体材料得到了广泛的关注,sic材料较高的击穿电压和热导率使器件功率承受能力大大提高,在高温大功率领域具有广阔的应用前景。本论文采用PⅥ法掺钒得到的两块尺寸为lcm×l锄正方形半绝缘6H.siC单晶片l拌siC和2#SiC,利用范德堡结构进行高温霍尔测试,获得了该类SiC单晶材料电学参数的温度特性关系。实验结果表明,在室温以上,随着温度逐渐升高,掺钒半绝缘siC单晶材料的迁移率和载流子浓度逐渐增大,在575K和650K时发生受主杂质补偿,出现两次波动,且迁移率随补偿度加大而降低。同时电

2、阻率随温度升高逐渐降低,到达500K之后,掺杂半绝缘siC单晶材料已经不能满足高温器件之绝缘衬底的需要。关键词:siC单晶:欧姆接触;电阻率;迁移率;自由载流子浓度AbsI础AbstractAtprescnt,也emaillly∞micondllctormaterialsareSi锄dGaAs.Asmeyh孙,cs咄perfom瑚啪deficienciesunderbigIl-钯ml髓an鹏cond“ions,itmakesSiCbemerepresemativeofthethirdemofscmicondIlc_盼蛐疵rials,柚dhavea、】vide删ngeofcmlc锄s.Hi

3、gll盯breakdownVoltageandtlle锄alcondllctivi哆ofsicma

4、【epowermteofdeVicesimproVcdgreatly,∞ith罄broadprosp。ctiIlmefieldofhi曲-telnperan鹏Oflligh.pow盯.TbObtaintllereIationsbt蚋佗enelec缸calp盯赳netersofseIni-i璐lll撕IlgSiCmo∞crystal她dtemper砷∽,、铀dcrPauwc0璐mlclionisllScdtomakeHallm∞surernentofs锄i-insulatingSiCmono

5、crystaladulteI劬甜、】vitllhiglI圮mperature.Theresllltshowstllatmobility觚d疔∞c硎crconcentrationincrea∞、ⅣithⅡletemperatIlrcrisinggradually舶m300KWl啪nlct锄p盯an鹏be575K觚d650Kt}lesicmateriaIapl七ars犹ceptor主nl刚tyc0哪p跚salioIl’tlleme嬲ur。dcurvenuc眦saccordiIlgly,tllemobil时decrea辩s稍thcompcn刚ondegreerising,孤dthe陀sisti

6、vitydecrca∞switlltempc栩tIl∞risin岛thenthesemi—imIllaliI培SiCm枷aldo豁∞tmedtorequirememofinsllla矗Ilg飘lbstraleofllightcmpe咖de“cca胁500K.Keyword:SiCⅡlollocr)rstal;ohIIlicco“tal:t;∞sistiV时;mobility;IkecarricfconceIltrati∞西安电子科技大学学位论文独创性(或创新性)声明秉承学校严谨的学风和优良的科学道德,本人声明所呈交的论文是我个人在导师指导下进行的研究工作及取得的研究成果。尽我所知,除了文

7、中特别加以标注和致谢中所罗列的内容以外,论文中不包含其他入已经发表或撰写过的研究成果;也不包含为获得西安电子科技大学或其它教育机构的学位或证书而使用过的材料。与我一同工作的同志对本研究所做的任何贡献均已在论文中做了明确的说明并表示了谢意。申请学位论文与资料若有不实之处,本人承担一切的法律责任。本人签名:翅!舅塑日期望竖!!:堑关于论文使用授权的说明本人完全了解西安电子科技大学有关保留和使用学位论文的规定,即:研究生在校攻读学位期间论文工作的知识产权单位属西安电子科技大学。学校有权保留送交论文的复印件,允许查阅和借阅论文;学校可以公布论文的全部或部分内容。可以允许采用影印、缩印或其它复制手

8、段保存论文。同时本人保证,毕业后结合学位论文研究课题再撰写的文章一律署名单位为西安电子科技大学。(保密的论文在解密后遵守此规定)本人签名:越!鸳壑导师签名:二哆名工串一日期鲨!:!:丛日期出oi=i.!!:第~章绪论第一章绪论1.1碳化硅研究背景、发展进程、研究现状及应用前景1.1.1研究背景硅是当今微电子器件的主要基底材料。硅基器件占了IC和分立器件的绝大部分份额。然而,作为电子器件用的半导体材料,单晶硅存在着一些不足的方面,带隙

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