军标mil-c-675c

《军标mil-c-675c》由会员上传分享，免费在线阅读，更多相关内容在应用文档-天天文库。

1、军标MIL-C-675C(1980/08/22)取代原军标MIL-C-675A(1964/01/22)及MIL-C-00675B(MU)(1976/01/22)军方检测标准本标准化经批准适用于国防各部及各部代理。1．范围1.1范围本标准建立了有关作为光学材料增透膜使用的氟化镁干涉膜的最低耐久性要求.2．应用文件2.1以下文件条款因招标邀请时间和用途要求的不同而构成本标准指定范围的一部分:规格联邦□L-T-90胶带,压敏粘合剂(硝化纤维和醋酸纤维)□CCC-C-440布料,粗棉布,漂白棉花和非漂白棉花军方□MIL-

2、E-12397用于测试镀膜光学元件的橡皮和抛光浮石□MIL-O-13830用于火控设备的光学元件的制造,安装和检测规范□MIL-I-45607检测装备及附属物的维护与配置标准军方□MIL-STD-105计数检验抽样程序及抽样表□MIL-STD-109品质保证条款及规定□MIL-STD-1241光学条款及规定图纸(美军军事装备研究与发展部门)□C7641866光洁度对照标准□D7680600镀膜质量对照标准□D7680606膜层,耐磨测试装置**(供方所要求的与指定采购性能相关的规格,标准,图纸和出版物的复件必须从

3、采购活动获得或由指定的主管负责.)2.2其它出版物:以下文件构成本标准指定范围的一部分,如非另有申明，其条款由招标邀请时间和用途要求的确定。AMERICANSOCIETYFORTESTINGANDMATERIALS(ASTM)ASTMB117-73-StandardMethodofSaltSpray(fog)Testing(申请复件地址:ASTM,1916RaceStreet,Philadelphia,PA,19103.图书馆提供相关的技术交流和技术合作的规格和标准。也可从技术咨询机构和联邦代理处获得。)3．要求

4、3.1光学术语及定义：本标准所用的一般光学领域的术语及其定义在MIL-STD-1241和本标准的6.3部份均有规定3.2材料需要用高纯度的氟化镁作为镀膜原料,以适合本标准的全部要求.3.3镀膜面积膜层需覆盖光学元件的有效孔径.因此,如光学元件图或采购文件上没有特别指出有效孔径,则应提供以下范围的不镀膜区:光学元件直径或最大对角线尺寸无镀膜的最大宽度2英寸0.040英寸第7页共7页2英寸以上0.04英寸+(尺寸每增加1英寸另加0.015英寸宽度)或或5CM1MM5CM以上1MM+(尺寸每增加5CM另加0.15MM宽

5、度)**当有效孔径有明确指出时,超出有效孔径之外区域的镀膜可按合同方要求进行。3.4膜层质量.膜层的质量和要求应该一致并符合以下条件:3.4.1物理性能膜层必须无脱离,脱落,破裂或气泡现象。3.4.2外观光学元件的聚焦面上不允许有污点,污迹,条纹,暗晦等现象(除非元件图特别标明).如元件图,采购文件上未作规定,且以上提到的现象存在聚焦点之外则可以接受,但要符合以下要求:a:透过率和反射率应符合3.8.4.1的要求。b.牢固度应符合3.8.5要求。c.强度耐磨度必须符合3.8.4.1的要求,当基片的努普硬度要大于4

6、50kg/mm2;或耐磨度应符合3.8.4.2的要求;当基片的努普硬度小于450kg/mm2。注：当不知道一个光学元件是否位于焦点内时，默认为是。3.4.3溅出物和针孔在膜层里面的溅出物和针孔称为点,点的大小、数量不能超过元件图或采购文件的规定。3.4.4表面缺陷(道和点)膜层的道和点不能超过元件图或采购文件所规定的数值。3.5透过率对应基片的折射率及镀膜面,光学元件在某一波长上的镀膜层的透过率增量与四分之一波长光学厚度膜层相对应(即QWOT)（详见6.3）其必须大于或等于(图1)所示的值。3.6膜层厚度除非在元

7、件图或采购文件上特别指明,膜层厚度必须为QWOT,即0.45到0.60um之间。3.7反射率(最小点)在光谱反射曲线最小处所对应的镀膜面的反射率大小,相应于基片的折射率,应不超过图2所示的值。3.8耐用性3.8.1盐溶性沉浸于盐水24小时之后,镀膜的光学表面应满足(3.4.1)的要求和(3.8.4)的耐磨性要求。3.8.2温度暴露于温度120°±4°F(48.9°±2.2°),相对湿度95%到100%的空气中,镀膜的光学表面应满足(3.4.1)的条件和(3.8.4)的耐磨性。3.8.3盐雾暴露盐雾中24小时后,镀

8、膜的光学表面应满足(3.4.1)的要求和(3.8.4)的耐磨性要求。3.8.4耐磨性3.8.4.1强度磨损以符合MIL-E-12397要求的橡皮的磨擦后膜层应无明显的损坏,如脱落,努普硬度大于450kg/mm2的基片材料应执行本要求。3.8.4.2适度磨损当采用干燥,洁净的粗布垫对镀膜表面进行磨擦后,膜层应无明显的磨损和脱落,对应努普硬度小于450的基片材料应执行本要求。