后摩尔定律时代,半导体技术将走向何方-.doc

后摩尔定律时代,半导体技术将走向何方-.doc

ID:27902153

大小:30.50 KB

页数:8页

时间:2018-12-06

后摩尔定律时代,半导体技术将走向何方-.doc_第1页
后摩尔定律时代,半导体技术将走向何方-.doc_第2页
后摩尔定律时代,半导体技术将走向何方-.doc_第3页
后摩尔定律时代,半导体技术将走向何方-.doc_第4页
后摩尔定律时代,半导体技术将走向何方-.doc_第5页
资源描述:

《后摩尔定律时代,半导体技术将走向何方-.doc》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在学术论文-天天文库

1、后摩尔定律时代,半导体技术将走向何方?  “继续向下推进新的制程节点正变得越来越困难,我不知道它(摩尔定律)还能持续多久。”在与IMEC首席执行官LucvandenHove的访谈中,戈登·摩尔如是说。  作为世界领先的独立纳米技术研究中心,5月24日~25日,在比利时布鲁塞尔举办的2016ITF(IMEC全球科技论坛)上,IMEC再一次将对摩尔定律的讨论定为一个重要主题。  不能否认的是,摩尔定律正在逐渐走向极限。业界对于未来技术如何发展,早已有了“MoreMoore”(继续推进摩尔定律)和“MorethanMoore”(超越摩尔定律

2、)的讨论。随着两条路的同时推进,听一听IMEC上各位大咖的论述,也许能让拨开未来迷雾变得更简单一些。    摩尔定律终将停止?  “如果在未来十年中,scaling(尺寸缩小)走到了尽头,我也不会觉得意外。”戈登·摩尔表示。  摩尔定律在近50年来被奉为半导体业界的“金科玉律”。它是基于现实推测而出的一种法则,指的是在成本不变的情况下,集成电路上可容纳的晶体管数目按照一定时间呈指数级增长。其中,几乎所有成本的降低,都来自于对晶体管尺寸的缩小和对晶圆直径的增加。  不过,近年来,随着硅的工艺发展趋近于其物理瓶颈,越来越多的人指出摩尔定律

3、的滞缓,甚至认为该定律即将终结。  摩尔本人也一直在修订着自己的说法。1965年第一次发布时,其预测是集成电路上的晶体管数量每一年翻一倍;到1975年,摩尔将其改为每2年翻一倍;到1997年,又改为每18个月翻一倍;到2002年,摩尔承认尺寸缩小开始放缓;2003年,他又指出,摩尔定律还可以再继续10年。  不过现实的情况是,成本问题将使该定律提前遭遇天花板。“在集成电路领域,scaling曾帮助我们不断实现更小、更快、更便宜、能耗更低的目标。但现在,scaling已不再像过去一样,同时提供上述所有好处。”LucvandenHove指

4、出。  “从28纳米向20纳米过渡的时候,我们第一次遇到了晶体管成本上升的情况。而对于一个商业公司领导人来说,必须去做利润的考量。”英飞凌首席执行官ReinhardPloss表示。  他指出,虽然从物理的角度来说,目前半导体制造技术还没有走到极限,芯片的大小还可以进一步缩小,但从商业的角度来说已经遇到了极限。从技术节点的演进来看,从90纳米走到28纳米,晶体管成本一直按照摩尔定律所说,不断下降,直到20纳米节点时出现第一次反转。  由于EUV技术的延迟实现,原本期待于22纳米节点就引入EUV技术的制造商们不得不采取备选方案,例如采取辅

5、助的多重图形曝光技术等,但这样会增加掩膜工艺次数,导致芯片制造成本大幅度增加、工艺循环周期延长。目前,16纳米工艺成本已经很高,如果继续采取浸润式多重曝光微影制程技术,到10纳米节点时,成本可能增加至1~1.5倍。  此外,随着scaling的不断推进,工艺制程技术的发展在穿孔、光刻、隧穿、散热等方面上都碰到了越来越多的技术瓶颈。要改进光刻技术,还要解决散热问题,同时工艺推进所需要的精密生产设备投入也越来越高,这些都是阻碍半导体发展按照摩尔定律前进的挑战。  “呈指数级增长一直是半导体产业的特征,它还将继续下去。但是增长率和前往下一个

6、技术节点的节奏可能放缓,逐渐向全球GDP增长率看齐(2015年全球GDP增长率约为2%)。”ASM公司首席技术官兼研发主管IvoJ.Raaijmakers表示。    如何继续推进摩尔定律?  “Scaling还会继续,我不仅相信它将会继续,而且我认为它不得不继续。”LucvandenHove强调说。他确信scaling还会持续几十年,但摩尔定律将会有所改变,不再只涉及尺寸上的scaling。  IvoJ.Raaijmakers表示同意,他认为“由于需求所致,产业界必将会找到一个方法来继续scaling,但是它将会有所不同,不再完全依

7、照过去传统的摩尔定律和Dennardscaling(单位面积晶体管数不断增加而功耗保持不变)。”  其实,业界并不需要特别担心。MentorGraphics总裁兼首席执行官WALDENC.RHINES表示,“即使摩尔定律命中注定会结束,但还有学习曲线(learningcurve)的存在。”  而此前,scaling也曾多次遇到过技术门槛,但随着各种技术手段的投入保证了摩尔定律的持续作用,例如90纳米时的应变硅、45纳米时高k金属栅等的新材料、22纳米时的三栅极晶体管等。  IvoJ.Raaijmakers指出,想要继续推进技术发展,我

8、们需要在“材料、制程、结构”三个维度进行创新。“IDM和Foundry厂商主要通过改变流水线(Pipeline)架构进行结构性创新,设备和材料供应商主要进行材料和工艺创新。”  2D的scaling确实会越来越难,从现有

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文

此文档下载收益归作者所有

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文
温馨提示:
1. 部分包含数学公式或PPT动画的文件,查看预览时可能会显示错乱或异常,文件下载后无此问题,请放心下载。
2. 本文档由用户上传,版权归属用户,天天文库负责整理代发布。如果您对本文档版权有争议请及时联系客服。
3. 下载前请仔细阅读文档内容,确认文档内容符合您的需求后进行下载,若出现内容与标题不符可向本站投诉处理。
4. 下载文档时可能由于网络波动等原因无法下载或下载错误,付费完成后未能成功下载的用户请联系客服处理。