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时间:2018-12-06
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1、世界铜箔生产的发展简况 (一)世界铜箔生产的发展简况 1937年美国的Anaconda公司炼铜厂开始建立了铜箔生产业。当时的铜箔只是用于木层房顶的防水方面。20世纪50年代初,由于印制电路板业的出现,铜箔业才成为重要的与电子信息产业相关联的尖端精密工业。 1955年美国Yates公司脱离Anaconda公司而自组建成为世界首家专门生产PCB用电解铜箔的公司。1957年美国Gould公司也投入此工业,平分了Yates公司在全世界PCB用铜箔的独占市场。自1968年日本的三井金属公司(Mitsui)开始引进美国铜箔制造技术后,日
2、本的古河电气公司(Frukawa)、日矿公司(NipponMining)分别与Yates公司、Gould公司合作,使日本铜箔工业有了大发展。 1972年美国Yates公司的电解铜箔生产的专利(U.S.Pat3674656)发表,标志世界电解铜箔制造及表面处理技术跨入了新的阶段。 据统计,1999年全世界PCB用电解铜箔的生产达到18万t左右。其中日本为5万t,台湾地区为4.3万t,中国大陆为1.9万t,韩国约为1万t。预测2001年全世界电解铜箔的产量将增加到25.3万t。其中增长速度最快的是日本(预测2001年为7.3万t)
3、、台湾地区(预测为6.5万1)。 占据世界铜箔生产、技术首位的日本,近年由于印制电路板及覆铜板的发展,使铜箔生产与技术也有了迅速的发展。并且近年还在北美、中国大陆、台湾地区、东南亚、欧洲等国家、地区建立了日方投资的海外生产厂家。日本主要电解铜箔生产厂家有:三井金属矿业公司、日本能源公司(原日矿公司)、古河电气公司、福田金属箔粉工业公司、日本电解公司等。日本电解铜箔生产特点是:近年向着更加高技术、尖端产品发展。 台湾地区电解铜箔产量目前已在全世界列居第二位。主要大型生产厂家有:长春石化公司、台湾铜箔公司、南亚塑胶公司等。
4、(二)高性能电解铜箔 近年世界铜箔行业中,一些高性能的电解铜箔制造技术得到不断创新、不断发展。一位海外的铜箔市场研究专家近期认为:由于未来在高密度细线化(LIS=0.10mm/0.10mm以上)、多层化(6层以上)、薄型化(0.8mm)及高频化的PCB将会大量的采用高性能铜箔,这种铜箔的市场占有比例在不久将来会达到40%以上。这些高性能的铜箔的主要类型及特性如下。 1.优异的抗拉强度及延伸率铜箔 优异的抗拉强度及延伸率电解铜箔,包括在常态下和高温下两方面。常态下高抗拉强度及高延伸率,可以提高电解铜箔的加工处理性,增强刚性避免
5、榴皱以提高生产合格率。高温延伸性(HTE)铜箔和高温下高抗拉强度铜箔,可以提高PCB热稳定性,避免变形及翘曲。同时铜箔高温断裂(一般铜宿使用在多层板内层中,制作通孔内环,在进行浸焊时易出现裂环现象)问题,采用HTE铜箔可以得到改善。 2.低轮廓铜箔 多层板的高密度布线的技术进步,使得继续再采用一般传统型的电解铜箔,已不适应制造高精细化PCB图形电路的需要。在这种情况下,一种新一代铜箔一一低轮廓(LowProfile,LP)或超低轮廓(VLP)的电解铜箔相继出现。低轮廓铜箔是在20世纪90年代初(1992-1994年),几乎同期
6、在美国(Gould公司的Arizona工厂)及日本(三井金属公司、古河电气公司、福田金属工业公司)成功地开发出来。 一般原箔由电镀法制成,所用的电流密度很高,所以原箔的微结晶非常粗糙,呈粗大的柱状结晶。其切片横断层的“棱线”,起伏较大。而LP铜箔的结晶很细腻(2μm以下),为等轴晶粒,不含柱状晶体,是呈成片层结晶,且棱线平坦。表面粗化度低。VLP铜箔经实际测定,平均粗化度(R.)为0.55μm(一般铜箔为1.40μm)。最大粗化度(Rm?x)为5.04μm(一般铜箔为12.50μm)由各类铜箔特性对比见表5-1-8(本表数据以日
7、本三井金属公司的各类铜箔产品为例)。 VLP,LP铜箔除能保证普通铜筒一般性能外,还具有以下几个特性。 (1)VLP、LP铜箔初期析出的是保持一定距离的结晶层,其结晶并不成纵向连接叠积向上状,而是形成略凹凸的平面片状。这种结晶结构可阻止金属晶粒间的滑动,有较大的力可去抵抗外界条件影响造成的变形。因而铜箔抗张强度、延伸率(常态、热态)优于一般电解铜箔。 (2)LP铜箔比一般铜箔在粗化面上较平滑、细腻。在铜箔与基板的交接界面上,不会在蚀刻后发生残留的铜粉(铜粉转移现象),提高了PCB的表面电阻和层间电阻特性,提高了介电性能的可靠
8、性。 (3)具有高的热稳定性,不会在薄型基板上由于多次层压,而产生铜的再结晶。 (4)蚀刻图形电路的时间,比一般电解铜箔减少。减少了侧蚀现象。蚀刻后的白斑减少。适于精细线路的制作。 (5)LP铜箔具有高硬度,对多层板的钻孔性有所改进和提高。也
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