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时间:2018-12-03
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1、生长方式对DKDP晶体质量的影响研究常新安臧和贵陈学安尚卫强(北京工业大学材料科学与工程学院,北京,100124)摘要:本文进行了片状籽晶c向生长、点状籽晶全方位生长和锥头籽晶c向生长等不同方式的DKDP晶体生长研究。通过对不同生长方式分析、对比,认为锥头籽晶c向生长为最佳生长方式,以此方式在体枳为10L的育晶器中顺利地生长出了c向尺寸达145mm的DKDP晶体。通过{100}晶面和{101}晶面面网密度和生长基元在不同晶面上成键的键能估算,结合晶体生长的Bravais法则和PBC理论对DKDP晶体生长习性进行
2、了理论解释,同时对全方位生长晶体质量问题的成因进行了讨论。关键词:DKDP晶体,生长方式,晶体质量,面网密度,键能磷酸二氘钾(KD2PO4,简称DKDP)晶体是一种性能良好的非线性光学与电光晶体材料,与其同型同位素晶体一KDP(即KH2PO4)晶体相比,红外光区透过波段宽,透过率大,半波电压低,电光系数大。例如,在激光核聚变工程二倍频,三倍频光学器件中,应用DKDP晶体代替KDP晶体能够降低受激拉曼散射(简称SRS)的强度,减少损伤;乂如在惯性受控核聚变的激光激发装罝中,DKDP晶体由于其优异的电光性质比KDP
3、晶体更适合做Pockel’s盒的电光介质。因此,目前DKDP晶体在非线性特别是电光应用方面占主导地位[1~如何较快地生长出优质DKDP晶体材料一直是人们研宂的课题,从上世纪九十年代以来,不断有人在DKDP晶体生长速度方面有所突破,从传统的每天1〜2mm提高到了50nwi以上。本研究室在这方面作了一些工作,先进行了片状籽晶c向快速生长研究l5j,又进行点状籽晶全方位生长研究发现在高纯溶液中,在高过饱和度和较快搅拌速度条件下,晶体生长速度确有明显提高,II晶体生长习性冇所改变,a、b向晶体生长速度加快,但根据我们
4、的实际条件,当生长速度超过4mm/d时,品体的质量难以保证。材料制备的前提是保证质量,因此,我们对常见的几种生长方式进行比较,以期得出一些可供参考的结论。1晶体生长实验与结果1.1片状籽晶的c向生长这是最传统的生长方式,在溶液本征pD值情况下按照晶体的自然生长习性进行生长。1.1.1籽晶的选择、加工与固定选用垂直于c向的片状籽晶。根据溶液体积和需要晶体的c向尺寸确定籽晶的尺寸,籽晶经加工后固定在籽品架上。1.1.2降温程序的制定与执行籽晶合锥完成后,将进入稳定的透明生长阶段。根据生长量与析出量和等的原则推导出下
5、式AT=100Ra2p/(WD20dS/dT)(1)式(1)中,AT为每口降温量,R为生长速度,a为籽品边长,p为品体密度,为溶液中重水重量,dS/dT为溶解度温度系数。以此计算每日降温量,作出降温计划。1.1.3晶体生长实验结果实验显示,晶体生长情况正常,先合锥,再以约2mm/day的速度沿e向透明生长,生长方式对DKDP晶体质量的影响研究常新安臧和贵陈学安尚卫强(北京工业大学材料科学与工程学院,北京,100124)摘要:本文进行了片状籽晶c向生长、点状籽晶全方位生长和锥头籽晶c向生长等不同方式的DKDP晶体
6、生长研究。通过对不同生长方式分析、对比,认为锥头籽晶c向生长为最佳生长方式,以此方式在体枳为10L的育晶器中顺利地生长出了c向尺寸达145mm的DKDP晶体。通过{100}晶面和{101}晶面面网密度和生长基元在不同晶面上成键的键能估算,结合晶体生长的Bravais法则和PBC理论对DKDP晶体生长习性进行了理论解释,同时对全方位生长晶体质量问题的成因进行了讨论。关键词:DKDP晶体,生长方式,晶体质量,面网密度,键能磷酸二氘钾(KD2PO4,简称DKDP)晶体是一种性能良好的非线性光学与电光晶体材料,与其同型
7、同位素晶体一KDP(即KH2PO4)晶体相比,红外光区透过波段宽,透过率大,半波电压低,电光系数大。例如,在激光核聚变工程二倍频,三倍频光学器件中,应用DKDP晶体代替KDP晶体能够降低受激拉曼散射(简称SRS)的强度,减少损伤;乂如在惯性受控核聚变的激光激发装罝中,DKDP晶体由于其优异的电光性质比KDP晶体更适合做Pockel’s盒的电光介质。因此,目前DKDP晶体在非线性特别是电光应用方面占主导地位[1~如何较快地生长出优质DKDP晶体材料一直是人们研宂的课题,从上世纪九十年代以来,不断有人在DKDP晶
8、体生长速度方面有所突破,从传统的每天1〜2mm提高到了50nwi以上。本研究室在这方面作了一些工作,先进行了片状籽晶c向快速生长研究l5j,又进行点状籽晶全方位生长研究发现在高纯溶液中,在高过饱和度和较快搅拌速度条件下,晶体生长速度确有明显提高,II晶体生长习性冇所改变,a、b向晶体生长速度加快,但根据我们的实际条件,当生长速度超过4mm/d时,品体的质量难以保证。材料制备的前提是保证
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