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时间:2018-11-13
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1、1、如何利用X射线进行物相的定性分析?(花样=图谱)任何一种结晶物质都具存特定的晶体结构。在一定波长的X射线照射下,每种晶体物质都产生自己特有的衍射图谱。每一种物质与它的衍射图谱都是一一对应的,不可能有两种物质给出完全相M的衍射阁诺如果试样中存在W种以上不M结构的物质时,每种物质所特有的衍射阁谱不变,多相试样的衍射阁谱只是由它所含各物质的衍射阁谱机械矜加而成。在进行相分析吋,为了便于对比和存贮,通常川面间距d和相对强度I的数据组代表衍射图谱。这就是说:用d-i数据组作为定性相分析的基本判据。其屮又以d值为主耍判据,I值为辅助判据。定性相分析的方法,就是将山试
2、样测得的d-i数据组(即衍射图谱)与己知结构物质的鉍准d-i数据飢(即你准衍射图谱)进行对比,从而鉴定出试样屮存在的物相。这种标准d-i数裾卡称为PDF卡片。2、X射线物相分析有何特点?(见PPT)3、利用X射线进行定性物相分析过程中应注意的问题?(见PPT,他说的那个“七条”,自己补充点)4、衍射条件:布拉格方程。(见PPT)(1)场发射扫描电镜电子图像两种成像原理?(结合ppt补充)二次电子像和竹散射电子像是最常用的两种成像模式。二次电子像是用二次电子探义•取岀二次电了•信号而成的样品表面形貌像,这是扫描电镜的最主要和最基木T作模式,它的分辨率高、阁像立
3、体感强。背散射电了像是用背散射电了探爻取!li背散射电了信号而成的像,它的分辨率和像的质跫虽不如二次电子像,立体感也差,但它可以得到样品屮大致的成分分布值化、二值图滤波以及二值图运算。(2)二次电子像与背散射电子像有什么区别?背散射电了是被样品屮的原子核反弹1叫来的一部分入射电子,包括弹性散射和非弹性散,弹性散射的电子远比非弹性散射的数景多.弹性散射电子來£1样品表层儿百纳米的深度范围,由于它的产额随样;原子序数增大而增多,所以不仅可以用来分析形貌,还可以用来分析成分.二次电子在入射电了束的作用下,被轰击出來并离开样品表浙的原了•核外电了•.它的能呈比较小,
4、一般只旮在表层5-10纳米的深度范围才能发射出來,所以它对样品的表面十分敏感,能科效的显示样品表面形貌.但二次电子的产额与原子序数无关,就不能用于成分分析。那么,SEM的成像的分辩率与检测信号的种类冇关,见下表:信号二次电子竹散射电子吸收电子特征X射线俄歇电子分辩率5-1050-200100-1000100-10005-10(nm)可见,采川二次电子和俄歇电子的分辩率尚,所以一般SEM做形貌分析吋,都足采川二次电子二次电子象要腐蚀,背散射就不用,主要是看原子序数差别足不是比较大.(3)场发射扫描电镜试样制备要求?(见PPT)(4)粉体试样如何制备?(见PPT
5、)(5)透射电镜和扫描电镜有什么相同和不同之处,各自主要应用在何种目的、所得何种结果?1、结构差异:主要体现在样品在电子束光路屮的位置不同。透射电镜的样品在电了束屮I'uJ,电子源在样品上方发射电子,经过聚光镜,然后穿透样品后,宥后续的电磁透镜继续放人电子光束,最后投影在荧光屏幕上;扫描电镜的样品在电子束末端,屯子源在样品上方发射的电子朿,经过儿级电磁透镜缩小,到达样品。当然后续的信号探测处理系统的结构也会不M),侃从基本物理原理上讲没什么实质性差别。相同之处:都是电真空设备,使用绝大部分部件原理相同,例如电了枪,磁透镜,各种控制原理,消象散,合轴等等。2、
6、基本工作原理:透射电镜:电子柬在穿过样品时,会和样品中的原子发生散射,样品上某一点M时穿过的电子方h'd是不同,这样品上的这一点在物镜1-2倍焦SU之叫,这些电了•通过过物镜放人后重新JI:聚,形成该点-个放人的实像,这个和凸透镜成像原理相同。这里边奋个反差形成机制理论比较深就不讲,但可以这么想象,如果样晶内部是绝对均匀的物质,没有晶界,没有原子品格结构,那么放大的图像也不会有任何反差,事实上这种物质不存在,所以冰会有这种牛逼仪器存在的理巾。经过物镜放人的像进一步经过儿级屮间磁透镜的放人(具体耑要儿级基木上是由电子來亮度决定的,如果亮度无限人,最终由阿W瑞利
7、的光学仪器分辨率公式决定),敁P投影在荧光屏上成像。由于透射电镜物镜焦距.很短,也因此具冇很小的像差系数,所以透射电镜ft有非常高的空间分辨率,0.1-0.2nm,但景深比较小,对样品表面形貌不敏感,主要观察样品A部结构。扫描电镜:电子束到达样品,激发样品中的二次电子,二次电子被探测器接收,通过信号处理并调制显示器上一个像素发光,山于电子束斑直径是纳米级别,而显示器的像素是100微米以上,这个100微米以上像素所发fli的光,就代表样品上被电了•朿激发的区域所发出的光。实现样品上这个物点的放人。如果让电子朿在样品的一定区域做光栅扫描,并且从几何排列上一一对应
8、调制显示器的像素的亮度,便实现这个样品区域的放大成像
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