icp-oes optima 7000dv操作规程

《icp-oes optima 7000dv操作规程》由会员上传分享，免费在线阅读，更多相关内容在应用文档-天天文库。

1、Optima7000DV操作规程前言：Optima7000DV型号ICP-OES主机包含三个主要部分：光谱仪、ICP光源和进样系统，每一个部分里面又分为几个不同的模块。这种模块化的设计主要便于使用、检测和维修。光谱仪部分包含光学系统模块、光谱仪电子学模块和光谱仪气路模块。ICP光源部分包含射频发生器模块、高压电源模块和等离子体气路模块。进样系统部分包含便于拆卸的矩管模块、雾室和雾化器模块和蠕动泵模块。除主机之外另有三个附属部分：空气压缩机、冷却循环水、废气抽风。一、开机1.1打开通风系统，打开氩气80~90psi,氮气吹扫气（本仪器用氩气代替）4

2、0psi,切割气70psi,循环水温度20℃；氩气纯度达到99.999%以上。1.2打开计算机和主机，打开空气压缩机、冷却循环水、废气抽风。1.3双击桌面上Winlab32进入工作界面。等待仪器自检完成。1.4安装好样品管sampletubing和废液管draintubing。点击Plamsa图标，进入plasmacontrol对话框，点击PlasmaOn。1.5在PlasmaControl对话框中，检查GasFlows气体流量，三个数值分别为15，0.2，0.80L/min；功率设置为RFPower1300WATTS；蠕动泵速正常为1.5ml/

3、min。1.6点燃等离子炬后机器预热15分钟，可以正常工作。刚开机后，先将进样管放入纯水中，冲洗3分钟，然后用5%HNO3中冲洗5分钟左右，继续冲水也可以按Flush按键快速冲洗，保持进样管道的洁净。二、方法编辑和使用2.1在方法编辑MethodEditor对话框：光谱仪定义元素页中SpectrometerDefineElements,直接输入待测元素符号或点击元素周期表PeriodicTable,选择待分析元素，在波长下拉菜单中，选中所需要的波长（或在波长表中，选中所需要的波长）。2.2在光谱仪设置页面中SpectrometerSettings

4、,读取参数时间RealParametersTime，最小值min为5，最大值max为20，一般选用自动。延迟时间DelayTime为60，可以根据进样元素多少和重复次数设定，一般30秒即可；重复次数Replicate为1或3次。吹扫气流PurgeGasFlow：在190nm以下，正常吹扫1L/min,高High吹扫5L/min。2.3光谱窗口SpectralWindows：可以设置观察窗口和自动积分窗口。观察窗口是指要收集的等离子体发射数据所在的波长范围，其中可以调整观察下限和观察上限。自动积分窗口是指根据最高强度信号计算积分时间所用的波长范围，

5、也可以设置上下限。2.4取样器Sampler等离子体Plasma页中：可以设置等离子体气流、射频功率、观测距离、等离子体体观测方向和光源稳定延迟等。等离子体状况PlasmaConditions：对所有元素均相同：将对所有元素使用相同的气流、射频功率、观测距离和等离子体观测模式；随元素而变：则可以为每个元素指定不同的参数，在表中输入所需的值。等离子体气溶胶类型PlasmaAerosoltype：可以选择用于分析的气溶胶类型。湿：如果试样气溶胶是通过使用气动雾化器（如交叉气流雾化器）雾化溶液生成的；干：如果试样气溶胶是通过超声波雾化器去掉溶液中的溶剂

6、后生成的，或者是由固态试样直接产生的（如激光制样）观测方式选择：轴向、径向、轴向衰减、径向衰减。采样器蠕动泵SamplerPeristalticpump：选择分析过程中泵入等离子体的试样溶液流量，以ml/min为单位。正常样品流速SampleFlowRate：1.50ml/min，冲洗时间FlushTime：清洗时间和读数延迟之间时间（如果存在），在此期间，泵将以试样冲洗流量吸入试样溶液，有效的输入范围为：0~999，该值通常设置为等于试样从试样容器达到雾化器所需的时间（尽管通常会以高流速泵送试样）2.5处理Process光谱峰处理Specral

7、PeakProcessing页中，可以选择分析物强度峰的测量方式。如果愿意，可以为每个分析物设置不同的峰算法：峰面积、峰高度、MSF。2.6校准Calibration定义标样DefineStandards页中，可以选择要用于校准空白、标样、试剂空白和其他校准溶液的识别码和自动取样器位置。本机器没有安装自动取样器，自动取样器位置需要设置为0。校准Calibration校准单位和浓度CalibUnitsandConcentrations页中，可以选择校准标样的单位和浓度（即输入样品浓度标准点）。校准Calibration空白用法BlankUsage页

8、中，可以选择在分析过程中校准元素使用的校准空白。也可以确定是将空白从分析物强度中减去，还是将空白用于校准，还是两者都采用。校准Calib